JPH0442159A - フォトレジストにおける露光方法および装置 - Google Patents

フォトレジストにおける露光方法および装置

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JPH0442159A
JPH0442159A JP2150117A JP15011790A JPH0442159A JP H0442159 A JPH0442159 A JP H0442159A JP 2150117 A JP2150117 A JP 2150117A JP 15011790 A JP15011790 A JP 15011790A JP H0442159 A JPH0442159 A JP H0442159A
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JP
Japan
Prior art keywords
cylindrical body
photomask
photoresist
rollers
mask
Prior art date
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Pending
Application number
JP2150117A
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English (en)
Inventor
Masatoshi Fujiwara
正利 藤原
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Piolax Inc
Original Assignee
Kato Hatsujo Inc
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Publication date
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、フォトレジストにお番フる露光方法および装
置に関し、特に、金属の円筒体の外周面に、エツチング
のための1−ット状のレジストパターンを設けるための
フォトレジストにおける露光方法および装置に関する。
F従来の技術J プリンターやブロック−の紙送りローラとしては、用紙
に対する摩擦力、紙送りの位置精度、耐久性等の、申か
ら、金属の円筒体の外周面に凹凸を形成した高摩擦ロー
ラが用いられている。
上記のような高摩擦ローラを製造する方法が、特開昭6
3−931178に開示されている。これは、金属の円
筒体の外周面に、所定のレジストパターンを形成し、エ
ツチングして凸部を形成した後、レジストを除去して、
円筒体の外周面に多数のドツト状の凸部を有する高摩擦
ローラを得る方法である。
所定のレジストパターンを形成する方法として、第3図
ialに示すように、円筒体3の外周面にフォトレジス
トアを塗布した後、フィルム状のフォトマスク8を巻き
付け、円筒体3を回転させながら、スリット9を介して
、光]0を卯射して露光し、次いで現像、およびボスト
ベークを行なう方法が提案されている。また、別法とし
て、第3図fb)に示すように、スクリーン版13を、
スキージ12で押圧しで、スクリーン版13の開口部1
4からインクレジスト11をスクリーン印刷してレジス
トパターンを形成する方法が提案されている。更に、第
3図(C)に示すように、凹版16のインクレジストJ
1を転写ローラー15により転写凹版してレジストパタ
ーンを形成する方法も提案されている。
「発明が解決しようとする課題」 しかしながら、円筒体の外周面に、スクリーン印刷法に
よりレジストパターンを形成する場合、円筒体を1回転
させて最終列のドツトを形成する際に、最初の列のドツ
トがスクリーン版に押し付けられて潰れてしまうという
問題を有している。また、スクリーン印刷法においては
、インフレジスl−を精密に均一に印刷するためには、
スキージのエツジ部分の精度が問題になるが、スキージ
はポリウレタン樹脂等の軟質素材からなるため5スクリ
ーンへの押圧力を一定にすることが困難であり、特に、
円筒体が長尺てあって、スキージが長くなると、円筒体
の全周に亙って均な印刷を施すことは極めて困難である
また、転写凹版による方法も、最終列のドツトを形成す
る際に、最初の列のドツトが潰されて、精密なド・ント
が形成できないという問題を有している。
更に、第3図ial に示す露光による方法は、フォト
レジストを塗布した円筒体の外周に、フォトマスクを重
着させ、かつ、接ぎ目が、重なったり、間が開いたりし
ないように巻き付けるのが困難であるという問題を有し
ている。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、その目
的は、特に円筒体の外周面に微細な積重なレジストパタ
ーンを形成可能にし、また、円筒体が長尺であっても適
用可能なフォトレジストにる番づる露先方法および装置
を提供することにある。
[課題を解決するための手段J 上記目的を達成するため、本発明のフォトレジストにお
ける露光方法は、互いに平行かつ回転自在に支持された
2個以上のローラーにエンドレスベルト状に張設された
フォトマスクの外側の一部に、フォトレジストを塗布し
た円筒体を当接し、前記フォトマスクと前記円筒体とを
同じ周速で回転させながら、前記フォトマスクの内側が
ら光μs射することを特徴とする。
また、本発明のフォトレジストの露光装置は、互いに平
行かつ回転自在に支持された2個以上のローラーと、 前記ローラーの少なくとも一個を回転させる駆動手段と
、 前記ローラーに張設されたエンドレスベルト状のフォト
マスクと、 前記フォトマスクの内側に配設された光照射装置と、 前記フォトマスクの外因の一部に露光されるべき、フォ
トレジストを塗布した円筒体を当接させ、かつ、回転自
在に支持する円筒体支持手段と、 前記円筒体を前記フォトマスクの移動速度と同じ周速で
回転させる同期回転手段とを備えていることを特徴とす
る。
[作用j 本発明においては、張設したフィトマスクと円筒体とを
当接させた状態で、先月Q′Iするのでフォトマスクと
円筒体との間が接触していてピントがずれることがなく
露光でき、すなわち、精畜なレジストパターンを形成す
ることが可能である。
また、2個以上のローラーに張設されたフォトマスクに
円筒体を当接して、光芦射するので、従来のスクリーン
印刷法等のように、長尺のものは制作しにくいスキージ
を用いる必要がなく、円筒体が長尺の場合にも適用可能
である。
更に、円筒体を1回転させた長さより、フォトマスクの
周長さを長くし、フォトマスクの接ぎ目が、円筒体の1
回転に係らない位置にしておくことにより、フォトマス
クの接ぎ目位置のドツトの重なりやずれを避けることが
できる。
したがって、例えば高摩擦ローラ製造におけるレジスト
パターンの形成に適用した際、長尺のものにも精畜で、
均一なドツトを形成することが可能になり、これをエツ
チングすることにより、微細な凸部を全面に亙って均一
に形成し、優れたグリップ力を有する長尺の高摩擦ロー
ラな製造できる。
「実施例」 第1図には、本発明のフォトレジストによる露光装置の
一実施例が示されている。
このフォトレジストによる露光装置21は、テンション
ローラー22.23、駆動ローラー24、従動ローラー
25.26を有し、これらのローラー22〜26は、互
いに平行に、かつ、回転自在に支持されている。
これらのローラー22〜26には、エンドレスベルト状
のフォトマスク27が張設されている。
このフォトマスク27には、所定のパターンが設けられ
ている。この所定のパターンとは、例えば、高摩擦ロー
ラを製造する場合には、複数の微細な孔である。なお、
フォトマスク27に接ぎ目がある場合、フォトマスクの
周長さを、円筒体の外周より所定長さ長くしておき、所
定のパターンの孔を、露光される円筒体の外周に相当す
る周長さに設け、重なりやずれが生しやすい接ぎ目の部
分を避けて露光させることもできる。
フォトマスク27の内側の所定の位置には、光照射装置
28が配設されている。光照射装置28の光源としては
、波長が短く、ピントが合いやすいことから、紫外線が
好ましく用いられる。
方、フォトマスク27の上方には、図示しない駆動手段
に回転自在に取り付けられた回転軸2つが配置されてい
る。回転軸29には、露光されるべきフォトレジスト3
0が外周面全面に塗布された円筒体31が着脱自在に装
着されるようになっている。円筒体31は、回転軸29
に装着されると、フォトマスク27の所定の位置に当接
するようにされている。なお、回転軸29の駆動手段は
、フォトマスク27の移動速度と同じ周速で回転するよ
うにされている。
第2図には、本発明のフォトレジストによる露光装置の
他の実施例が示されている。
この露光装置21は、フォトマスク27を、互いに平行
に、かつ、回転自在に配置されたテンションローラー3
2.33、駆動ローラー34、従動ローラー35に張設
したもので、他は第1図にホされるものと同様である。
次に、第1図に示されるフォトレジストによる露光装置
21を用いた、円筒体31周面への露光方法について説
明する。
まず、円筒体31の外周面にフォトレジスト30を塗布
し、乾燥させる。
フォトレジスト30が乾燥した後、回転軸29に円筒体
31を装着し、フォトマスク27に当接させる。
次に、駆動ローラー24を回転させて、フォトマスク2
7を移動させるとともに、回転軸29の駆動手段を始動
し、フォトマスク27と円筒体31とを同じ周速で回動
させながら、光照射装置28から、紫外線を即射する。
こうして5円筒体31の周面のフォトレジスト30の、
フォトマスク27の複数の微細な孔に相当する部分が露
光され、レジストパターンが形成される。そして、円筒
体31の全周に亙って露光されると、駆動ローラー24
.および回転軸29の駆動手段を停止し、円筒体31を
回転軸29から取り外す。
上記の露光方法によれば、従来のように、フォトマスク
を、フォトレジストを塗布した円筒体に、ぴったり電着
させて、接ぎ目に重なりやずれが生じないように巻き付
ける必要な(、フォトマスクと、円筒体とを接触させて
露光することができ、精密なレジストパターンを形成す
ることができる。
また、スクリーン印刷法のように、制作可能な長さに制
限のあるスキージを用いず、張設したフォトマスクと、
回転軸に支持した円筒体とを当接させて露光するので、
円筒体が長尺であっても、円筒体の全面に亙って均一に
露光することができる。
したがって、上記の方法によりレジストパターンを形成
した金属の円筒体を、常法にしたがってエツチング処理
することによって、微細な凸部が全周に亙って均一に形
成された高摩擦ローラを得ることができる。このように
して得られる高摩擦ローラは、長尺のものであっても、
全面に互って精密で、均一な凸部を有しており、優れた
グリツブ力を発揮するものとなる。
「発明の効果」 以上説明したように、本発明によれば、2個以上のロー
ラーに張設されたエンドレスベルト状のフォトマスクの
外側に、フォトレジストを塗布した円筒体を当接し、フ
ォトマスクと円筒体とを同期させて、フォトマスクの内
側から光照射するので、円筒体の外周に微細で精密なレ
ジストバタンを形成することが可能であり、したがって
、円筒体の外周面に微細な精密なドツトを形成可能であ
る。
また、従来のスクリーン印刷法等のように、制作可能な
長さに制限があるスキージを用いることなく、張設され
た)オドマスクと1回転軸に支持された円筒体とを当接
して、光によりレジストパターンを形成するので、円筒
体が長尺であっても、円筒体の全面に互って均一なレジ
ストバタンを形成することができる。
したがって、例えば、金属の円筒体の表面に、ドツト状
のレジストパターンを形成し、これをエツチングして高
摩擦ローラを製造する用途などに特に好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のフォトレジストによる露光装置の一実
施例を示す斜視図、第2図は同露光装置の他の実施例を
示す斜視図、第3図ia) 、 fbl、fcl は従
来のレジストパターンの形成方法を示す説明図である。 図中、21はフォトレジストにおける露光装置、22.
23はテンションローラー、24は駆動ローラー、25
.26は従動ローラー、27はフォトマスク、28は光
照射装置、29は回転軸、30はフォトレジスト、31
は円筒体32.33はテンションローラー、34は駆動
ローラー、35は従動ローラーである。 第3図 特許出願人   加藤発条株式会社 同代理人   弁理士 松井 茂

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)互いに平行かつ回転自在に支持された2個以上の
    ローラーにエンドレスベルト状に張設されたフォトマス
    クの外側の一部に、フォトレジストを塗布した円筒体を
    当接し、前記フォトマスクと前記円筒体とを同じ周速で
    回転させながら、前記フォトマスクの内側から光照射す
    ることを特徴とするフォトレジストにおける露光方法。
  2. (2)互いに平行かつ回転自在に支持された2個以上の
    ローラーと、 前記ローラーの少なくとも一個を回転させる駆動手段と
    、 前記ローラーに張設されたエンドレスベルト状のフォト
    マスクと、 前記フォトマスクの内側に配設された光照射装置と、 前記フォトマスクの外周の一部に、露光されるべき、フ
    ォトレジストを塗布した円筒体を当接させ、かつ、回転
    自在に支持する円筒体支持手段と、 前記円筒体を前記フォトマスクの移動速度と同じ周速で
    回転させる同期回転手段とを備えていることを特徴とす
    るフォトレジストにおける露光装置。
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Cited By (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005215686A (ja) * 2004-02-02 2005-08-11 Lg Electron Inc 露光装置
WO2013172048A1 (ja) * 2012-05-18 2013-11-21 株式会社ニコン 基板処理装置
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