JPH02293754A - 連続露光装置 - Google Patents
連続露光装置Info
- Publication number
- JPH02293754A JPH02293754A JP1113698A JP11369889A JPH02293754A JP H02293754 A JPH02293754 A JP H02293754A JP 1113698 A JP1113698 A JP 1113698A JP 11369889 A JP11369889 A JP 11369889A JP H02293754 A JPH02293754 A JP H02293754A
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- roll
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- plastic film
- drum
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- Pending
Links
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は可撓性のあるプラスチックフィルムシ一ト上の
導電性膜の連続バターニング加工装置に関するものであ
る。特にフォトプロセスを使ったパターニング加工の連
続露光装置に係るものである。
導電性膜の連続バターニング加工装置に関するものであ
る。特にフォトプロセスを使ったパターニング加工の連
続露光装置に係るものである。
可撓性のあるプラスチックフィルムをヘースとし、その
表面上に導電性膜を積層したものは例えばポリイミド、
ポリエチレンテレフタレート等のプラスチックフィルム
上に銅箔を貼り合せたフレキシブルプリント配線板（Ｆ
Ｐ Ｃ）や、ポリエチレンテレフタレート、ポリエー
テルスルボン、ポリカーボネイト等のフィルム上に酸化
インジウム・酸化スズ等をスパック・蒸着した透明導電
性フィルム等のように近年電子部品に使われるようにな
った。
表面上に導電性膜を積層したものは例えばポリイミド、
ポリエチレンテレフタレート等のプラスチックフィルム
上に銅箔を貼り合せたフレキシブルプリント配線板（Ｆ
Ｐ Ｃ）や、ポリエチレンテレフタレート、ポリエー
テルスルボン、ポリカーボネイト等のフィルム上に酸化
インジウム・酸化スズ等をスパック・蒸着した透明導電
性フィルム等のように近年電子部品に使われるようにな
った。
しかしその多くはこの導電性膜を所定の電極パターンに
形成されて使われており、そのバクーニング方法は印刷
法、レーザーを用いた工・７チング法、リフトオフ法等
があるが、やはりコスト、製法の容易さ、良好な仕上り
の面でフォトプロセスが一般に用いられている。フォト
プロセスは加工したい導電性膜上全面に感光性樹脂膜（
レジス１−）を形成、これ６こ所定パターンのフォ１・
マスクを通して紫外線を照射し現像することにより、ま
ず該レジスト膜に所定のパターンを形成して導電性膜に
エソヂング処理を施し、その後該レジスト膜を剥離する
という方式である。当然生産方式としてもプラスチソク
フィルムのフレキシビリティーを生かした製法としてロ
ールツウロール連続加工をするのが最良であることは明
らかである。しかしながら従来の露光方式は第３図に示
されるよう６こフォトマスク３１をのせて、該プラスチ
ックフィルム３２とフォトマスク３１を密着ざせる為に
固定枠３３で上から抑えて固定させ、ランプ３４より平
面方向に紫外線を照射して露光するという力法がとられ
ていた。この方弐であればレジスト膜が感光する迄紫外
線をあてる為しばらくラインを止めて時間をかせがねば
ならないという問題があるので、バターニング工程全体
を１つのライン化するのが困難であり、もし連続生産し
ようとしても露光工程でタクトタイムを取りながら送ら
ざるを得す生産性があがらない等の問題があった。
形成されて使われており、そのバクーニング方法は印刷
法、レーザーを用いた工・７チング法、リフトオフ法等
があるが、やはりコスト、製法の容易さ、良好な仕上り
の面でフォトプロセスが一般に用いられている。フォト
プロセスは加工したい導電性膜上全面に感光性樹脂膜（
レジス１−）を形成、これ６こ所定パターンのフォ１・
マスクを通して紫外線を照射し現像することにより、ま
ず該レジスト膜に所定のパターンを形成して導電性膜に
エソヂング処理を施し、その後該レジスト膜を剥離する
という方式である。当然生産方式としてもプラスチソク
フィルムのフレキシビリティーを生かした製法としてロ
ールツウロール連続加工をするのが最良であることは明
らかである。しかしながら従来の露光方式は第３図に示
されるよう６こフォトマスク３１をのせて、該プラスチ
ックフィルム３２とフォトマスク３１を密着ざせる為に
固定枠３３で上から抑えて固定させ、ランプ３４より平
面方向に紫外線を照射して露光するという力法がとられ
ていた。この方弐であればレジスト膜が感光する迄紫外
線をあてる為しばらくラインを止めて時間をかせがねば
ならないという問題があるので、バターニング工程全体
を１つのライン化するのが困難であり、もし連続生産し
ようとしても露光工程でタクトタイムを取りながら送ら
ざるを得す生産性があがらない等の問題があった。
本発明は従来の露光装置とは全く異なる形式を用いて、
ロールツウロール連続加工生産をラインを止めたり、遅
らせたりずることなくスムーズ乙こラインを走らせ、し
かも位置合せも容易に可能な、フレキシビリティーの特
長を最大限に生かした連続露光装置を提供することを目
的とするものである。
ロールツウロール連続加工生産をラインを止めたり、遅
らせたりずることなくスムーズ乙こラインを走らせ、し
かも位置合せも容易に可能な、フレキシビリティーの特
長を最大限に生かした連続露光装置を提供することを目
的とするものである。
本発明は紫外線を透過する材質の円筒形のＤ −ルを用
い、その中心軸部に紫外線照射ランプを設け、前記円筒
形ロールの外周壁表面に紫外線を透過しない部分を形成
した構造の連続露光装置である．ロールの外周壁表面Ｇ
こ直接印刷等Ｇこよって紫外線を透過しないマスク部を
形成しても良いし２、あるいはフォトマスクを外周壁表
面に貼付固定しても良い。紫外線ランプは効率を上げる
為に空冷したり、熱の影響を避ける為に水冷したりした
方がより良い。またある程度のテンションがかかってプ
ラスチックフィルムがラインを流れている場合は前記マ
スク部分との位置ズレはほとんど起こざないが、もし位
置ズレが起きる場合は前記円筒形ロールの両端にガイド
ピンがギア状に出たリング（スプロケット）を設けるこ
とにより位置ズレを無くすることができる。また余分な
紫外線が漏れないよう６こ前記円筒形ロールの約半分に
遮光カハーを設けなければないないが、それはロールの
外側でも内側でもどちらでもよいが、外側に設ける場合
はプラスチソクフィルムにあたって傷等をつりないよう
な材質を選び据イ」位置精度を高く保つ必要性がある。
い、その中心軸部に紫外線照射ランプを設け、前記円筒
形ロールの外周壁表面に紫外線を透過しない部分を形成
した構造の連続露光装置である．ロールの外周壁表面Ｇ
こ直接印刷等Ｇこよって紫外線を透過しないマスク部を
形成しても良いし２、あるいはフォトマスクを外周壁表
面に貼付固定しても良い。紫外線ランプは効率を上げる
為に空冷したり、熱の影響を避ける為に水冷したりした
方がより良い。またある程度のテンションがかかってプ
ラスチックフィルムがラインを流れている場合は前記マ
スク部分との位置ズレはほとんど起こざないが、もし位
置ズレが起きる場合は前記円筒形ロールの両端にガイド
ピンがギア状に出たリング（スプロケット）を設けるこ
とにより位置ズレを無くすることができる。また余分な
紫外線が漏れないよう６こ前記円筒形ロールの約半分に
遮光カハーを設けなければないないが、それはロールの
外側でも内側でもどちらでもよいが、外側に設ける場合
はプラスチソクフィルムにあたって傷等をつりないよう
な材質を選び据イ」位置精度を高く保つ必要性がある。
上記した構成による露光装置を用いれば第３図に示す形
状の装置に比べ、、ラインを止めて時間をかせくことが
ないうえに、トラム表面上に設けたフォレ冫スク部分と
の密着もプラスチックフィルムのラインにかかるテンシ
ョンで充分はがれるとともに、パターンの位置合せもス
プロケットとともに該プラスチソクフィルムをロールで
連続的に流しているので容易に可能となってくる。また
装置そのものが１本のロール状である為６こプラスチッ
クフィルムのロールツウロール連続加工ラインに導入す
ることは極めて容易であり、従来と比べ生産ラインで考
えると装置全体のコストダウンとともに生産性向上をは
かることができる。
状の装置に比べ、、ラインを止めて時間をかせくことが
ないうえに、トラム表面上に設けたフォレ冫スク部分と
の密着もプラスチックフィルムのラインにかかるテンシ
ョンで充分はがれるとともに、パターンの位置合せもス
プロケットとともに該プラスチソクフィルムをロールで
連続的に流しているので容易に可能となってくる。また
装置そのものが１本のロール状である為６こプラスチッ
クフィルムのロールツウロール連続加工ラインに導入す
ることは極めて容易であり、従来と比べ生産ラインで考
えると装置全体のコストダウンとともに生産性向上をは
かることができる。
（実施例〕
以下本発明の一実施例について図面を参照して説明する
。第１図には木発明の装置の一実施例の斜視図、第２図
には第１図の縦断面図を示した。
。第１図には木発明の装置の一実施例の斜視図、第２図
には第１図の縦断面図を示した。
第１図、第２図に示すように、プラスチンクフィルム１
の導電性膜２側上にレジスト膜３を形成した材料がロー
ル１，０ロールで連続的に流れていろ。
の導電性膜２側上にレジスト膜３を形成した材料がロー
ル１，０ロールで連続的に流れていろ。
その間にレジスト膜３を内側にしてプラスチンクフィル
ム１と密督する形で紫外線を透過する材質でできた円筒
形のｌコール４が設げられており、ごのロール４の両端
にはガイドピン５がギア状に突出しており、このガイド
ピン５でプラスチックフィルム１をすべることなく、バ
クーンを配する位置を合わせながら送っている。
ム１と密督する形で紫外線を透過する材質でできた円筒
形のｌコール４が設げられており、ごのロール４の両端
にはガイドピン５がギア状に突出しており、このガイド
ピン５でプラスチックフィルム１をすべることなく、バ
クーンを配する位置を合わせながら送っている。
この円筒形ロール４の中心軸部にはロールを貫通するよ
うな形で紫外線ランプ６が配置され固定されている，，
７のフォトマスクは円筒形ロール４の外周壁面に密着固
定されており、プラスチックフィルム１が搬送される動
きと同期してフォトマスク７、円筒形ロール４及びガイ
ドビン５が動く構造になっている。プラスチックフィル
ム１がロール４と接触していない反対側約半分の部分か
ら紫外線が漏れないように遮光カバー８を固定設置して
おく必要がある。
うな形で紫外線ランプ６が配置され固定されている，，
７のフォトマスクは円筒形ロール４の外周壁面に密着固
定されており、プラスチックフィルム１が搬送される動
きと同期してフォトマスク７、円筒形ロール４及びガイ
ドビン５が動く構造になっている。プラスチックフィル
ム１がロール４と接触していない反対側約半分の部分か
ら紫外線が漏れないように遮光カバー８を固定設置して
おく必要がある。
ラインの動作としては、第２図に示したＡの位置よりロ
ール４に接触し始めたプラスチックフィルム１が、ロー
ル４から離れる位置Ｂに達するまでの時間にフォトマス
ク７を通してロール４内側から発せられる紫外線に照射
され露光が完了する。
ール４に接触し始めたプラスチックフィルム１が、ロー
ル４から離れる位置Ｂに達するまでの時間にフォトマス
ク７を通してロール４内側から発せられる紫外線に照射
され露光が完了する。
この間フォトマスク７もプラスチソクフィルム１の動き
に合わせて回転するので常に接触する位置が同しである
為にマスク露光が可能となる。
に合わせて回転するので常に接触する位置が同しである
為にマスク露光が可能となる。
以上説明したように本発明の連続露光装置によれば、プ
ラスチックフィルムの連続パターニング加工において、
一つのライン生産化が可能となるとともに露光工程時の
タクトタイムもとらなくてよく、位置合せも容易である
ので生産性が向上される。また装置自体の形状も１木の
ロールで済むので生産ラインへの導入も容易である。
ラスチックフィルムの連続パターニング加工において、
一つのライン生産化が可能となるとともに露光工程時の
タクトタイムもとらなくてよく、位置合せも容易である
ので生産性が向上される。また装置自体の形状も１木の
ロールで済むので生産ラインへの導入も容易である。
第１図は本発明の一実施例における連続露光装置の斜視
図、第２図は第１図の縦断面図、第３図は従来の露光装
置の斜視図である。
図、第２図は第１図の縦断面図、第３図は従来の露光装
置の斜視図である。
Claims (2)
- （１）プラスチックフィルム上の導電性膜を所定の形状
にフォトプロセスを用いて連続生産加工する装置におい
て、露光工程で紫外線を透過させうる材質でできたドラ
ムを使いその外周壁表面に紫外線を透過しない部分を形
成して、該ドラム上に前記プラスチックフィルムを巻き
つけ、該ドラム内側より紫外線を照射することにより、
プラスチックフィルムをロール状のまま連続的に露光で
きることを特徴とする連続露光装置。 - （２）前記プラスチックフィルムが位置ずれを起こさな
いように該ドラム両端にスプロケットを設けたことを特
徴とする特許請求範囲第１項記載の連続露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1113698A JPH02293754A (ja) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | 連続露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1113698A JPH02293754A (ja) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | 連続露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02293754A true JPH02293754A (ja) | 1990-12-04 |
Family
ID=14618915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1113698A Pending JPH02293754A (ja) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | 連続露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02293754A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007180113A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 周波数選択透過型の電磁波シールド材およびその製造方法 |
| JP2008159771A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 周波数選択遮蔽型の電磁波シールド材およびその製造方法 |
| JP2008159770A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 周波数選択透過型の電磁波シールド材およびその製造方法 |
| WO2013172048A1 (ja) * | 2012-05-18 | 2013-11-21 | 株式会社ニコン | 基板処理装置 |
| JP2013543595A (ja) * | 2010-09-29 | 2013-12-05 | ドンウー ファイン−ケム カンパニー リミテッド | 露光システム |
-
1989
- 1989-05-08 JP JP1113698A patent/JPH02293754A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007180113A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 周波数選択透過型の電磁波シールド材およびその製造方法 |
| JP2008159771A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 周波数選択遮蔽型の電磁波シールド材およびその製造方法 |
| JP2008159770A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 周波数選択透過型の電磁波シールド材およびその製造方法 |
| JP2013543595A (ja) * | 2010-09-29 | 2013-12-05 | ドンウー ファイン−ケム カンパニー リミテッド | 露光システム |
| WO2013172048A1 (ja) * | 2012-05-18 | 2013-11-21 | 株式会社ニコン | 基板処理装置 |
| JPWO2013172048A1 (ja) * | 2012-05-18 | 2016-01-12 | 株式会社ニコン | 基板処理装置 |
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