JPH04401A - カラーフィルターの製造方法およびカラー液晶パネル - Google Patents
カラーフィルターの製造方法およびカラー液晶パネルInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明はカラーデイスプレィ装置に用いる力２−フィル
ターの製造方法に関する。
ターの製造方法に関する。
［従来の技術］
有機顔料をレドックス反応性を有する界面活性剤のミセ
ル水溶液中に分散した後、該ミセル水溶液中で電解を行
ない、ミセルを破壊することにより、ミセル内に取り込
まれていた有機顔料をアノードとして用いた透明電極基
板上に析出させ、色素薄膜を形成することによるカラー
フィルターの製造方法を我々は発明した（特願昭６３−
１７５６１０）。
ル水溶液中に分散した後、該ミセル水溶液中で電解を行
ない、ミセルを破壊することにより、ミセル内に取り込
まれていた有機顔料をアノードとして用いた透明電極基
板上に析出させ、色素薄膜を形成することによるカラー
フィルターの製造方法を我々は発明した（特願昭６３−
１７５６１０）。
しかしながら、上記のカラーフィルターの色素薄膜は有
機顔料粒子の堆積膜であるため、基板との密着性および
粒子同志の密着性が弱（、成膜時および成膜後の水洗時
に一部が剥離するという問題を生じた。
機顔料粒子の堆積膜であるため、基板との密着性および
粒子同志の密着性が弱（、成膜時および成膜後の水洗時
に一部が剥離するという問題を生じた。
また、全（別の問題点として、本カラーフィルターの色
素層は有機顔料だけからなるため、色調を最適するとＲ
，Ｇ、ＢＳ原色の各色素膜９膜厚が最大０．５μｍ程度
も異なってしまう。そのため例えばＳＴＮタイプの液晶
パネルに適用した場合、色素層の膜厚差が液晶層のギャ
ップむらとなり表示ムラを生じるという問題もあった。
素層は有機顔料だけからなるため、色調を最適するとＲ
，Ｇ、ＢＳ原色の各色素膜９膜厚が最大０．５μｍ程度
も異なってしまう。そのため例えばＳＴＮタイプの液晶
パネルに適用した場合、色素層の膜厚差が液晶層のギャ
ップむらとなり表示ムラを生じるという問題もあった。
［発明が解決しようとする課題］
上述のように従来技術においては、下記の２点の問題点
があった。
があった。
１色素薄膜の密着性が弱い。
２、ｓＴＮｇ晶パネルに用いると表示むらを生じる。
そこで本発明の目的とするところは、上述のような問題
点を一挙に解決するカラーフィルターの製造方法を提供
することにある。
点を一挙に解決するカラーフィルターの製造方法を提供
することにある。
［課題を解決するための手段］
本発明のカラーフィルターの製造方法は、有機顔料をレ
ドックス反応性を有する界面活性剤のミセル水溶液中に
分散した後、電解を行ないミセルを破壊することにより
、該有機顔料を透明電極基板上に析出させ、色素薄膜を
形成するカラーフィルターの製造方法において、該ミセ
ル水溶液中に有機顔料とともに透明度の高い有機ポリマ
ー微粒子も同時に分散し、有機顔料と共析させることを
特徴とする。
ドックス反応性を有する界面活性剤のミセル水溶液中に
分散した後、電解を行ないミセルを破壊することにより
、該有機顔料を透明電極基板上に析出させ、色素薄膜を
形成するカラーフィルターの製造方法において、該ミセ
ル水溶液中に有機顔料とともに透明度の高い有機ポリマ
ー微粒子も同時に分散し、有機顔料と共析させることを
特徴とする。
すなわち、第一に、有機ポリマー微粒子を有機顔料粒子
間のバインダーおよび色素薄膜と電極基板間の密着向上
をもたらす密着向上材料として適用することを特徴とす
る。
間のバインダーおよび色素薄膜と電極基板間の密着向上
をもたらす密着向上材料として適用することを特徴とす
る。
第二の有機ポリマーの使用目的としてはＲ，Ｇ、Ｂの各
色素薄膜を形成する際に薄（形成しても色調が十分確保
できる色素薄膜については、有機ポリマーの液中濃度を
増やし、共析率を高めることにより、みかけ状の色素膜
厚を増やし他の厚い色素薄膜と膜厚をそろえ、各色素膜
間の膜厚差をな（すために適用するものである。
色素薄膜を形成する際に薄（形成しても色調が十分確保
できる色素薄膜については、有機ポリマーの液中濃度を
増やし、共析率を高めることにより、みかけ状の色素膜
厚を増やし他の厚い色素薄膜と膜厚をそろえ、各色素膜
間の膜厚差をな（すために適用するものである。
レドックス反応性を有する界面活性剤としては、疎水性
末端基に７エロセンを導入し、レドックス反応性をもた
せた同位化学製フェロセニルＰＥＧなどを用いることが
できる。
末端基に７エロセンを導入し、レドックス反応性をもた
せた同位化学製フェロセニルＰＥＧなどを用いることが
できる。
有機顔料と共析させるポリマーについては、水に離溶も
しくは不溶のもので、透明度の高いものが好ましく、サ
ンドミルなどにより少な（とも１μｍ以下に微粒子化し
たものが良い。また、物理的に微粒子化したもの以外の
もので、例えば、低重合度のポリマーでそのままミセル
水溶敦中に分散できるものでもよい。
しくは不溶のもので、透明度の高いものが好ましく、サ
ンドミルなどにより少な（とも１μｍ以下に微粒子化し
たものが良い。また、物理的に微粒子化したもの以外の
もので、例えば、低重合度のポリマーでそのままミセル
水溶敦中に分散できるものでもよい。
［実施例］
対角５インチのガラス基板上に透明電極として工Ｔｏ（
工ｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ ０ｘｉｄｅ ） をスパッタ
リングにより形成し、さらにフォトリソ法により幅約１
６０μｍで６２０本からなるストライブパターンとした
。パターン端部は液晶駆動用工Ｏが実装できるよう所定
の形状にパターニングした。形成したストライブパター
ンにはＲ，Ｇ、Ｅの３原色の色素薄膜ストライブがＲ，
Ｇ、Ｂの順に繰り返し配列されるよう選択的に通電して
電解するものとする。
工ｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ ０ｘｉｄｅ ） をスパッタ
リングにより形成し、さらにフォトリソ法により幅約１
６０μｍで６２０本からなるストライブパターンとした
。パターン端部は液晶駆動用工Ｏが実装できるよう所定
の形状にパターニングした。形成したストライブパター
ンにはＲ，Ｇ、Ｅの３原色の色素薄膜ストライブがＲ，
Ｇ、Ｂの順に繰り返し配列されるよう選択的に通電して
電解するものとする。
最初に第１表に示す組成の電解敵を１を作成し、上記基
板を浸漬し、電解することによりＲの色素薄膜を所定の
透明電極ストライブパターン上にのみ形成した。このと
き、共析させる有機ポリマーとしては、ポリプロピレン
を用いた。すなわちここで形成したＲの色素薄膜にはポ
リプロピレンが共析されている。
板を浸漬し、電解することによりＲの色素薄膜を所定の
透明電極ストライブパターン上にのみ形成した。このと
き、共析させる有機ポリマーとしては、ポリプロピレン
を用いた。すなわちここで形成したＲの色素薄膜にはポ
リプロピレンが共析されている。
第１表
＊ｌ 同口化学製
電解電位は０．４ Ｖ （ｖｓ、ｓ ＯＥ ）とし対極
にはｐｔ板を用いた。膜厚は顔料＋有機ポリマーとして
１．５μｍとし、色調的にも十分であった。成膜後は１
５０℃で１０分乾燥した。
にはｐｔ板を用いた。膜厚は顔料＋有機ポリマーとして
１．５μｍとし、色調的にも十分であった。成膜後は１
５０℃で１０分乾燥した。
以上の操作において成膜時には膜の剥離はなくまた、成
膜後水洗したが、このときも同様に膜の剥離はなかった
。
膜後水洗したが、このときも同様に膜の剥離はなかった
。
次に第２表に示す組成の電解液を１を作成し、前述のＲ
の色素薄膜を形成した基板を浸漬し、電解することによ
りＧの色素薄膜を所定の透明電極ストライブパターン上
にのみ形成した。このときも共析させる有機ポリマーと
しては前記と同様のものを用いた。ただし、この時通常
Ｇの色素薄膜は尋体で成膜する場合には色調的には約１
μｍ（Ｒは０９μｍ）で十分であるため、有機ポリマー
の混合量は前記のＲの電解液の場合より少し減らした組
成とし、共析量を若干低減した。
の色素薄膜を形成した基板を浸漬し、電解することによ
りＧの色素薄膜を所定の透明電極ストライブパターン上
にのみ形成した。このときも共析させる有機ポリマーと
しては前記と同様のものを用いた。ただし、この時通常
Ｇの色素薄膜は尋体で成膜する場合には色調的には約１
μｍ（Ｒは０９μｍ）で十分であるため、有機ポリマー
の混合量は前記のＲの電解液の場合より少し減らした組
成とし、共析量を若干低減した。
第 ２ 表
＊１臭素化塩素化銅フタロシアニン
電解電位はαａｖ（ｖｓｓａＥ） とし対極にはｐｔ
板を用いた。膜厚は顔料士有機ポリマーとして、前記の
Ｒの場合と同様１．５μｍとした。色調的にも問題はな
かった。成膜後は１５０℃で１０分間乾燥した。また、
以上の操作において成膜時および成膜後の水洗で膜が剥
離することはなかった。
板を用いた。膜厚は顔料士有機ポリマーとして、前記の
Ｒの場合と同様１．５μｍとした。色調的にも問題はな
かった。成膜後は１５０℃で１０分間乾燥した。また、
以上の操作において成膜時および成膜後の水洗で膜が剥
離することはなかった。
続いて第５表に示す組成の電解液を１を作成し、前述の
ＲおよびＧの色素薄膜を形成した基板を浸漬し、電解す
ることによりＢの色素薄膜を残った色素薄膜未成膜の透
明電極ストライブパターン上に形成した。共析させる有
機ぎリマーとしては前記と同様のものを用いた。ただし
、通常Ｂの色素薄膜は叫体で成膜する場合には色調的に
約０７μｍでよいため、有機ポリマーの共析量は前記の
Ｒの電解液の場合より多い組成とし、トータル的な成膜
厚が他の色素膜と同じになり、且つ、色調的にも満足で
きるよう調整した。
ＲおよびＧの色素薄膜を形成した基板を浸漬し、電解す
ることによりＢの色素薄膜を残った色素薄膜未成膜の透
明電極ストライブパターン上に形成した。共析させる有
機ぎリマーとしては前記と同様のものを用いた。ただし
、通常Ｂの色素薄膜は叫体で成膜する場合には色調的に
約０７μｍでよいため、有機ポリマーの共析量は前記の
Ｒの電解液の場合より多い組成とし、トータル的な成膜
厚が他の色素膜と同じになり、且つ、色調的にも満足で
きるよう調整した。
第 ５ 表
＊ｌモノクロロ銅７タロシアニン
電解条件は前記と同様とした。成膜厚は顔料十有機ポリ
マーとして、他の色素膜と同様１．５μｍになるよう形
成し、色調的にも問題はなかった。
マーとして、他の色素膜と同様１．５μｍになるよう形
成し、色調的にも問題はなかった。
成膜後は１５０℃で１０分乾燥した。また、成膜時およ
び成膜後の水洗時に膜が剥離することはなかった。
び成膜後の水洗時に膜が剥離することはなかった。
以上の操作により、有機顔料および有機ポリマーの共析
膜からなり、且っＲ，Ｇ、ＢＳ原色の各膜厚が同一膜厚
であるカラーフィルターが得られた。
膜からなり、且っＲ，Ｇ、ＢＳ原色の各膜厚が同一膜厚
であるカラーフィルターが得られた。
このカラーフィルターを用い所定の液晶ハネル化工程（
ただし、各プロセスでの処理温度は１５０℃以下とした
。）を通すことにより、ＳＴＮカラー液晶パネルを作成
した。１ ／ ２４０ ｄｕｔｙ駆動し、パネルの表示
むらをチエツクした結果、問題がな（、本発明の効果が
確認できた。
ただし、各プロセスでの処理温度は１５０℃以下とした
。）を通すことにより、ＳＴＮカラー液晶パネルを作成
した。１ ／ ２４０ ｄｕｔｙ駆動し、パネルの表示
むらをチエツクした結果、問題がな（、本発明の効果が
確認できた。
［発明の効果］
以上のように本発明により、膜密着性の向上および色素
膜間の膜厚差をなくし、平担化することによる表示特性
の改良が同時に達成できるカラーフィルターの製造が可
能となった。
膜間の膜厚差をなくし、平担化することによる表示特性
の改良が同時に達成できるカラーフィルターの製造が可
能となった。
以上
Claims (1)
- 有機顔料をレドックス反応性を有する界面活性剤のミセ
ル水溶液中に分散した後、電解を行いミセルを破壊する
ことをより該有機顔料を透明電解基板上に析出させ、色
素薄膜を形成するカラーフィルターの製造方法において
、該ミセル水溶液中に有機顔料とともに透明度の高い有
機ポリマー微粒子も同時に分散し、有機顔料と共析させ
ることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10111090A JP2893840B2 (ja) | 1990-04-17 | 1990-04-17 | カラーフィルターの製造方法およびカラー液晶パネル |
| EP19900113106 EP0407947A3 (en) | 1989-07-12 | 1990-07-09 | Color filter and process for preparing the same |
| KR1019900010544A KR910003426A (ko) | 1989-07-12 | 1990-07-12 | 칼라 필터 및 이의 제조방법 |
| US08/183,204 US5399450A (en) | 1989-04-28 | 1994-01-18 | Method of preparation of a color filter by electrolytic deposition of a polymer material on a previously deposited pigment |
| US08/406,263 US5554466A (en) | 1989-04-28 | 1995-03-17 | Color filter and method of preparation |
| US08/468,479 US5705302A (en) | 1989-04-28 | 1995-06-06 | Color filter for liquid crystal display device and method for producing the color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10111090A JP2893840B2 (ja) | 1990-04-17 | 1990-04-17 | カラーフィルターの製造方法およびカラー液晶パネル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04401A true JPH04401A (ja) | 1992-01-06 |
| JP2893840B2 JP2893840B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=14291936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10111090A Expired - Fee Related JP2893840B2 (ja) | 1989-04-28 | 1990-04-17 | カラーフィルターの製造方法およびカラー液晶パネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2893840B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994007158A1 (fr) * | 1992-09-17 | 1994-03-31 | Seiko Epson Corporation | Filtre colore pour affichage a cristaux liquides et appareil de formation de film par tension et expansion |
| WO1994014089A1 (en) * | 1992-12-08 | 1994-06-23 | Grimes Aerospace Company | Optical filtering method and element |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60184696A (ja) * | 1984-03-02 | 1985-09-20 | Seiko Instr & Electronics Ltd | パターンの製造方法 |
| JPH0288798A (ja) * | 1988-09-24 | 1990-03-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 薄膜の洗浄方法 |
| JPH02173295A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-04 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 薄膜の製造法 |
-
1990
- 1990-04-17 JP JP10111090A patent/JP2893840B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60184696A (ja) * | 1984-03-02 | 1985-09-20 | Seiko Instr & Electronics Ltd | パターンの製造方法 |
| JPH0288798A (ja) * | 1988-09-24 | 1990-03-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 薄膜の洗浄方法 |
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| WO1994007158A1 (fr) * | 1992-09-17 | 1994-03-31 | Seiko Epson Corporation | Filtre colore pour affichage a cristaux liquides et appareil de formation de film par tension et expansion |
| US5558927A (en) * | 1992-09-17 | 1996-09-24 | Seiko Epson Corporation | Color filter for liquid crystal displays and film-forming apparatus |
| WO1994014089A1 (en) * | 1992-12-08 | 1994-06-23 | Grimes Aerospace Company | Optical filtering method and element |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2893840B2 (ja) | 1999-05-24 |
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