JP2743599B2 - 液晶パネルの製造方法 - Google Patents

液晶パネルの製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示体等に用いるカ
ラーフィルターに係り,特に湿式電解法によるカラーフ
ィルターを用いた液晶パネルの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】レドックス反応性を有する界面活性剤の
ミセル水溶液中に有機顔料をコロイド分散したのち,該
ミセル水溶液中で電解により基板上に有機顔料を析出さ
せ着色層を形成することによるカラーフィルターについ
本出願人は先に特許出願した(特開平2−24603
号公報参照)。
【0003】このカラーフィルターは着色層を電解形成
する際に用いた基板上の透明電極(ITOなど)がその
まま液晶駆動用に用いられるというメリットがある。一
方、本カラーフィルターの製造においては基本的に電解
液中に浸せきし、通電した部分にはすべて有機顔料が析
出し、着色層が形成されるものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、電
解液中に浸せきされた基板上の通電された電極(ITO
など)全てに着色層が形成されてしまう。すなわち、本
来着色層があると好ましくない部分にも成膜してしまう
ため、このカラーフィルターを用いて液晶パネルを作製
する場合、次の問題が生じた。
【0005】(1)対向基板と張り合わせるシール部に
着色層があると、シールの密着性が不十分となるためパ
ネルの信頼性が確保できないこと及び着色層のある部分
とない部分でシールギャプが不均一になり表示性能が低
下する。 (2)最終的に液晶駆動用ICが実装される端子電極部
に着色層が成膜すると、後工程でこの部分の着色層を除
去しなければICが実装できない。この場合、実装端子
電極部を液外に出して、本来着色層が必要な部分にのみ
着色層を成膜することも可能であるが、基板浸せきする
液面の厳しい管理が必要となるなど生産技術上容易では
ない。
【0006】以上のように従来の技術では本来着色層が
あると好ましくない部分に着色層が成膜してしまうた
め、パネル化工程でその部分の着色層を拭き取る、削り
取るなどの面倒な方法で除去しなければならなかった。
そこで本発明は上述のような課題を解決するためのもの
で、その目的とするところは、着色層が成膜すると好ま
しくないパネルシール部、液晶駆動IC実装部に着色層
が形成されないようにする方法を提供するものである。
【0007】本発明のカラーフィルターの製造方法は,
複数の電極が形成された一方の基板上の実装端子部およ
びシール部に樹脂層を被覆形成する工程と,湿式電解法
により前記電極上に着色層を選択的に形成する工程と,
電極が形成された他方の基板と前記一方の基板とをシー
ル部を介して張り合わせてパネルを構成する工程と,
記パネルに対して酸素プラズマを照射することにより,
前記実装端子部に被覆形成された樹脂層のみを分解除去
する工程とを具備することを特徴とする。
【0008】樹脂は、カラーフィルター基板であるガラ
ス基板及び透明薄膜電極(ITO、酸化スズなど)に対
し、電解時における密着性が確保できればよく、また、
フレキソ印刷、スクリーン印刷などにより所望の部分に
選択的に塗布できるか、もしくは、全面に塗布したのち
所望の部分にフォトリソグラフィーを用いて選択的に膜
形成が出来ればよい。また、形成膜厚は特に限定はしな
いが、例えば、少なくとも液晶駆動IC実装部の樹脂
は、最終的にIC実装前に除去する必要があり、このと
き、酸素プラズマなどで除去し易い0.05〜0.5ミク
ロン程度が好ましい。
【0009】
【実施例】(実施例1)図1に示した30cm角ガラス基
板を液晶パネル用カラーフィルター基板として用いた。
ガラス基板上にはITOによる透明電極2がストライプ
上のパターンに形成されており、パターンの一端にはI
C実装のためと電解用のパターンが引き出されている。
図1の斜線部分にのみ、着色層の成膜を防止する目的で
あらかじめ樹脂層を形成した。この樹脂層形成部分は、
後工程の液晶パネル化工程でシール部の一部となる3の
部分と液晶駆動用IC実装電極部4からなる。
【0010】樹脂層の形成においては、フレキソ印刷を
用いて選択的に塗布し、150℃で30分キュアした。
膜厚は0.1ミクロンであった。樹脂には日本合成ゴム
製アクリル樹脂(オプトマーSS)を用いた。
【0011】次にこの基板を用い電解により着色層の形
成を行った。着色層は、R、G、Bの三原色が交互に配
列されるストライプパターンになるように、表1に示し
た3種類の電解液を用い、繰り返し3回の電解成膜を行
った。電解は+0.5V vs.S.C.E.の条件で行った。
【0012】
【表1】
【0013】成膜に際し、基板は図1の5で示した点線
の部分まで電解液中に浸せきし、1色目の着色層形成の
際には6で示した電極のみ選択的に通電し、2色目、3
色目の形成の場合にもそれぞれ7及び8で示した電極の
み選択的に通電する事により、R、G,B三原色をスト
ライプパターンで交互の繰り返しになるように配列させ
た。また、一色成膜するごとに基板は水洗し、摂氏18
0度で20分間乾燥した。
【0014】以上の操作によりR、G,B三色の着色層
(各々0.8,0.7,0.6ミクロンの膜厚)を形成したが、あらか
じめ樹脂を塗布した部分の透明電極状には着色層が成膜
せず本発明の目的を達成できた。
【0015】一方、このカラーフィルター基板を用い
て、液晶パネルの作製を行った。対向基板と張り合わせ
るシール部には0.1ミクロンのアクリル系樹脂層が存
在することになるが、所定のシール密着性が確保でき、
また、パネルのセルギャップコントロールにも問題はな
かった。また、最終的に液晶駆動ICを実装する部分に
形成した樹脂層については、パネルシール後酸素プラズ
マを照射することにより容易に分解除去でき、問題なく
IC実装が実施できた。
【0016】(実施例2)実施例1と同様であるが樹脂
層の形成はフォトリソグラフィーを用いて行った。即
ち、感光性アクリル樹脂をスピンコート法により基板全
面にコートしたのち、図1の3、4の部分にのみフォト
リソグラフィーを用いて選択的に残した。膜厚は0.2
ミクロンであった。
【0017】実施例1と同様にして,着色層の形成を行
なったが,樹脂層形成部には着色層の成膜は起こらなか
った。一方,液晶パネル化を行ったが,シール部に存在
する0.2ミクロンの感光性アクリル樹脂層はシール部
に対し何等問題を発生せず,IC実装部にあった樹脂層
はシール後酸素プラズマにより容易に分解除去でき,問
題なくIC実装ができた。
【0018】
【発明の効果】本発明により着色層が形成されると好ま
しくない部分への成膜を防止する方法を生産技術的にき
わめて容易な方法で提供することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施例において説明するための図であ
る。
【符号の説明】
1 カラーフィルター基板 2 ITO透明電極 3 樹脂塗布部(電極を横断するパネルシール部) 4 〃 (液晶駆動用IC実装電極部) 5 電解液に浸せきする境界線 6 1色目を形成するときに選択的に通電する電極 7 2色目を形成するときに選択的に通電する電極 8 3色目を形成するときに選択的に通電する電極

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の電極が形成された一方の基板上の実
    装端子部およびシール部に樹脂層を被覆形成する工程
    と, 湿式電解法により前記電極上に着色層を選択的に形成す
    る工程と, 電極が形成された他方の基板と前記一方の基板とをシー
    ル部を介して張り合わせてパネルを構成する工程と,前記パネルに対して酸素プラズマを照射することによ
    り,前記実装端子部に被覆形成された樹脂層のみを 分解
    除去する工程とを具備することを特徴とする液晶パネル
    の製造方法。
  2. 【請求項2】前記湿式電解法として,ミセル水溶液を電
    解して薄膜を析出させるミセル電解法を用いたことを特
    徴とする請求項1記載の液晶パネルの製造方法。
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