JPH0439641B2 - - Google Patents
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- JPH0439641B2 JPH0439641B2 JP59138953A JP13895384A JPH0439641B2 JP H0439641 B2 JPH0439641 B2 JP H0439641B2 JP 59138953 A JP59138953 A JP 59138953A JP 13895384 A JP13895384 A JP 13895384A JP H0439641 B2 JPH0439641 B2 JP H0439641B2
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Description
本発明はガラスまたは透明プラスチツクなどの
透明基体の表面に処置することによつて、該基体
の表面反射を低下せしめるのに有用な低反射加工
剤に関するものである。 建築物や車輛の窓、ドアー、シヨーウインド、
シヨーケース、光学レンズ、眼鏡レンズ、サング
ラスなどはガラスあるいは透明プラスチツクなど
の透明材料の使用が不可欠である。しかしなが
ら、かかる透明材料の表面は太陽光、照明光の反
射によるギラツキや眩しさ、あるいは周囲の景観
が映ることにより、材料に特有な透明性や透視性
が損なわれるという欠点がある。また、太陽光の
利用などにおいて、例えば太陽熱温水器は集熱効
率を向上せしめるために集熱部に用いる透明材料
の反射損失を除去、または低減化させ、大量のエ
ネルギーを通過させることが必要である。 従来から、ガラスや透明プラスチツクなどの透
明基体の表面の反射防止は光学部品を中心に開発
が進められてきている。例えば、ガラス表面の可
視光の反射防止にはMgF2、氷晶石などからなる
単層膜が、また赤外用にはSiO、CeO2、ZnSなど
からなる単層膜、SiO−MgF2、三硫化ひ素ガラ
ス−WO2−氷晶石などからなる複層膜が、更に
紫外用にはSiO2、LiFなどからなる単層膜が反射
防止膜として真空蒸着法あるいはスパツタリング
法によつて形成され、光学レンズ、メガネレン
ズ、フイルターなどに実用化されている。最近
は、それら反射防止膜の形成方法は板ガラスにお
いて熱線反射ガラスにも応用されている。 一方、ガラスや透明プラスチツクなどの透明基
体の表面に、高分子物質からなる低反射処理剤を
塗布、吹付け、あるいは処理剤中に浸漬すること
により低反射性の塗膜を形成するための低反射処
理あるいは処理方法が提案されている。 しかしながら、前記の真空蒸着法あるいはスパ
ツタリング法は装置の機構上及びコスト面から適
応物品は比較的小型の精密光学部品に限定され、
また連続的生産には適してはいない。低反射処理
剤の塗膜を塗布、吹付け、あるいは浸漬などの方
法によつて形成する方法においては透明基材と低
反射処理剤と接着力が弱く、形成された低反射塗
膜の耐久性に問題があり、例えば形成された低反
射塗膜は汚染され易く、汚染に対する洗浄作業な
どによつて損傷を受け、容易に剥離するなど硬度
や耐久性に欠点がある。 本発明者は、上記の如き問題点の認識に基づい
て、ガラスや透明プラスチツクなどの透明基体の
透明性、透視性を損なうことなく、該基体の表面
上に塗布、吹付け、あるいは浸漬などの既知の方
法によつて該基体の表面を低反射性とし、且つそ
の性能が長期にわたつて持続し得る耐久性の良好
な低反射加工剤を提供すべく種々研究、検討を行
なつた。 従来より、ポリフルオロ基含有化合物はフツ素
原子の分極率が小さく、従つて屈折率も低く、例
えばS8F18の屈折率は1.271(25℃、以下同じ)、
(C4F9)2Nは1.290、(CF2=CF2/CF2OCF=CF2)
の重合体は1.33Uであり、ガラスや透明プラスチ
ツクなどの透明基体の表面にかかる化合物の塗膜
を形成せしめることにより低反射性を付与し得る
ことは知られている。而して、ポリフルオロ基含
有化合物において、透明基体との接着性はポリフ
ルオロ基含有シラン化合物が優れており、例えば
RfC2H4SiX3(但し、Rfはポリフルオロアルキル
基、XはCl、アルコキシ基)は低反射性と接着性
を備えた低反射加工剤の成分として有用である。
しかしながら、透明基体の表面に形成された仮反
射加工剤の塗膜硬度は低いものであるため、その
塗膜硬度を高めた低反射加工剤が、本発明と同一
出願人によつて特開昭58−167448号公報、特開昭
58−211701号公報、特開昭59−2694944号公報に
開示されている。一方、塗膜開度の高いポリフル
オロ基含有シラン化合物として、例えばX3Si
C2H4CoF2oC2H4SiX3(但し、Xは前記と同じ、n
は1〜20の整数)なるポリフルオロアルキレン基
含有ビスシラン化合物が注目されている。しかし
ながらフツ素含有率に比し、屈折率は高く、単独
化合物を低反射加工剤として透明基体の表面に処
理しても低反射性は劣つていて、低反射加工剤の
成分としては適当ではない。そこで、本発明者
は、低反射性を有し、しかも透明基体への接着性
及び硬度の高い低反射塗膜を形成し得る低反射加
工剤の成分として、ポリフルオロアルキレン基含
有ピスシラン化合物の低反射加工剤への適応性に
ついて検討を行なつた。その結果、ポリフルオロ
アルキレン基含有ビスシラン化合物において、フ
ルオロアルキル鎖を構造中に特定分岐せしめるこ
とにより、フロオロアルキル鎖の有する低表面エ
ネルギー性が向上せしめられ、従つて低屈折率、
高硬度の塗膜を形成できる低反射加工剤となし得
るという知見を得て本発明を完成するに至つたも
のである。 本発明は、透明基体の表面に処理する低反射加
工剤において、下記一般式 X3Si−Rf−SiX3 (但しXはCl、OR1、
透明基体の表面に処置することによつて、該基体
の表面反射を低下せしめるのに有用な低反射加工
剤に関するものである。 建築物や車輛の窓、ドアー、シヨーウインド、
シヨーケース、光学レンズ、眼鏡レンズ、サング
ラスなどはガラスあるいは透明プラスチツクなど
の透明材料の使用が不可欠である。しかしなが
ら、かかる透明材料の表面は太陽光、照明光の反
射によるギラツキや眩しさ、あるいは周囲の景観
が映ることにより、材料に特有な透明性や透視性
が損なわれるという欠点がある。また、太陽光の
利用などにおいて、例えば太陽熱温水器は集熱効
率を向上せしめるために集熱部に用いる透明材料
の反射損失を除去、または低減化させ、大量のエ
ネルギーを通過させることが必要である。 従来から、ガラスや透明プラスチツクなどの透
明基体の表面の反射防止は光学部品を中心に開発
が進められてきている。例えば、ガラス表面の可
視光の反射防止にはMgF2、氷晶石などからなる
単層膜が、また赤外用にはSiO、CeO2、ZnSなど
からなる単層膜、SiO−MgF2、三硫化ひ素ガラ
ス−WO2−氷晶石などからなる複層膜が、更に
紫外用にはSiO2、LiFなどからなる単層膜が反射
防止膜として真空蒸着法あるいはスパツタリング
法によつて形成され、光学レンズ、メガネレン
ズ、フイルターなどに実用化されている。最近
は、それら反射防止膜の形成方法は板ガラスにお
いて熱線反射ガラスにも応用されている。 一方、ガラスや透明プラスチツクなどの透明基
体の表面に、高分子物質からなる低反射処理剤を
塗布、吹付け、あるいは処理剤中に浸漬すること
により低反射性の塗膜を形成するための低反射処
理あるいは処理方法が提案されている。 しかしながら、前記の真空蒸着法あるいはスパ
ツタリング法は装置の機構上及びコスト面から適
応物品は比較的小型の精密光学部品に限定され、
また連続的生産には適してはいない。低反射処理
剤の塗膜を塗布、吹付け、あるいは浸漬などの方
法によつて形成する方法においては透明基材と低
反射処理剤と接着力が弱く、形成された低反射塗
膜の耐久性に問題があり、例えば形成された低反
射塗膜は汚染され易く、汚染に対する洗浄作業な
どによつて損傷を受け、容易に剥離するなど硬度
や耐久性に欠点がある。 本発明者は、上記の如き問題点の認識に基づい
て、ガラスや透明プラスチツクなどの透明基体の
透明性、透視性を損なうことなく、該基体の表面
上に塗布、吹付け、あるいは浸漬などの既知の方
法によつて該基体の表面を低反射性とし、且つそ
の性能が長期にわたつて持続し得る耐久性の良好
な低反射加工剤を提供すべく種々研究、検討を行
なつた。 従来より、ポリフルオロ基含有化合物はフツ素
原子の分極率が小さく、従つて屈折率も低く、例
えばS8F18の屈折率は1.271(25℃、以下同じ)、
(C4F9)2Nは1.290、(CF2=CF2/CF2OCF=CF2)
の重合体は1.33Uであり、ガラスや透明プラスチ
ツクなどの透明基体の表面にかかる化合物の塗膜
を形成せしめることにより低反射性を付与し得る
ことは知られている。而して、ポリフルオロ基含
有化合物において、透明基体との接着性はポリフ
ルオロ基含有シラン化合物が優れており、例えば
RfC2H4SiX3(但し、Rfはポリフルオロアルキル
基、XはCl、アルコキシ基)は低反射性と接着性
を備えた低反射加工剤の成分として有用である。
しかしながら、透明基体の表面に形成された仮反
射加工剤の塗膜硬度は低いものであるため、その
塗膜硬度を高めた低反射加工剤が、本発明と同一
出願人によつて特開昭58−167448号公報、特開昭
58−211701号公報、特開昭59−2694944号公報に
開示されている。一方、塗膜開度の高いポリフル
オロ基含有シラン化合物として、例えばX3Si
C2H4CoF2oC2H4SiX3(但し、Xは前記と同じ、n
は1〜20の整数)なるポリフルオロアルキレン基
含有ビスシラン化合物が注目されている。しかし
ながらフツ素含有率に比し、屈折率は高く、単独
化合物を低反射加工剤として透明基体の表面に処
理しても低反射性は劣つていて、低反射加工剤の
成分としては適当ではない。そこで、本発明者
は、低反射性を有し、しかも透明基体への接着性
及び硬度の高い低反射塗膜を形成し得る低反射加
工剤の成分として、ポリフルオロアルキレン基含
有ピスシラン化合物の低反射加工剤への適応性に
ついて検討を行なつた。その結果、ポリフルオロ
アルキレン基含有ビスシラン化合物において、フ
ルオロアルキル鎖を構造中に特定分岐せしめるこ
とにより、フロオロアルキル鎖の有する低表面エ
ネルギー性が向上せしめられ、従つて低屈折率、
高硬度の塗膜を形成できる低反射加工剤となし得
るという知見を得て本発明を完成するに至つたも
のである。 本発明は、透明基体の表面に処理する低反射加
工剤において、下記一般式 X3Si−Rf−SiX3 (但しXはCl、OR1、
【式】Rfは少なくとも
1個のCoF2o+1分岐で構造中で有するポリフルオ
ルキレン基で、−(CH2−)n、−O−、−B−などを
含有してもよく、R1は低級アルキル基、mは1
〜6の整数、nは1〜3の整数を表わす。) で示されるポリフルオロアルキレン基含有ビスシ
ラン化合物または縮合物、あるいは該化合物と他
のシラン化合物との共縮合物よりなることを特徴
とする低反射加工剤を提供するものである。 本発明における一般式、X3Si−Rf−SiX3(但
し、X、Rfは前記と同じ)で示されるポリフル
オロアルキレン基含有ビスシラン化合物はRf中
に少なくとも1個のCoF2o+1のフルオロアルキル
基を分岐として有するものである。かかる化合物
の代表例を示すと などのポリフルオロアルキレン基含有トリクロル
ビスシラン化合物、 などのポリフルオロアルキレン基含有トリメトキ
シシラン化合物、 などのポリフルオロアルキレン基含有トリエトキ
シビスシラン化合物などが挙げられる。 本発明において、上記ポリフルオロアルキレン
基含有ビスシラン化合物は、接着性を改良する目
的で他のシラン化合物との共縮合物であつてもよ
い。かかる共縮合に好適なシラン化合物は、屈折
率を高めないものであるのが好ましく、それらを
例示すると
ルキレン基で、−(CH2−)n、−O−、−B−などを
含有してもよく、R1は低級アルキル基、mは1
〜6の整数、nは1〜3の整数を表わす。) で示されるポリフルオロアルキレン基含有ビスシ
ラン化合物または縮合物、あるいは該化合物と他
のシラン化合物との共縮合物よりなることを特徴
とする低反射加工剤を提供するものである。 本発明における一般式、X3Si−Rf−SiX3(但
し、X、Rfは前記と同じ)で示されるポリフル
オロアルキレン基含有ビスシラン化合物はRf中
に少なくとも1個のCoF2o+1のフルオロアルキル
基を分岐として有するものである。かかる化合物
の代表例を示すと などのポリフルオロアルキレン基含有トリクロル
ビスシラン化合物、 などのポリフルオロアルキレン基含有トリメトキ
シシラン化合物、 などのポリフルオロアルキレン基含有トリエトキ
シビスシラン化合物などが挙げられる。 本発明において、上記ポリフルオロアルキレン
基含有ビスシラン化合物は、接着性を改良する目
的で他のシラン化合物との共縮合物であつてもよ
い。かかる共縮合に好適なシラン化合物は、屈折
率を高めないものであるのが好ましく、それらを
例示すると
【式】
【式】CH3Si
(OCH3)3、
【式】
(CH3O)3SiC6H12Si(OCH3)3、HSiCl3、
CH3SiCl3などに代表されるトリメトキシシラン
またはトリクロロシラン化合物、あるいは、Si
(OCH3)4、Si(OC2H5)4、SiCl4などに代表される
テトラアルコキシシラン、テトラクロルシランを
挙げることができる。共縮合体としての配合割合
は、低反射加工剤として形成される塗膜の屈折率
と接着性との関係において適宜選択される。 前記、ポリフルオロアルキレン基含有ジシラン
化合物の縮合物、及び該酸化物と他のシラン化合
物との共縮合物を得る反応、有機溶媒、例えばア
セトン、アルコール類溶液中、触媒として酢酸の
存在下に行なわれ、酢酸は1%水溶液が用いられ
る。 本発明の低反射加工剤の使用形態は有機溶媒、
例えばアセトン、アルコール類によつて希釈され
た形態がとられる。透明基体への処理方法は特に
限定されることなく、通常のはけ塗り、ロール塗
り、吹付け及び浸漬法などによつて塗布される。
塗膜厚さは1μ以下、好ましくは0.2μ〜0.05μであ
つて、1μ以上であると低反射効果は低下する傾
向が認められる。かかる膜厚は、例えば有機溶媒
による希釈条件と塗布時の浸漬後における引上速
度によつて決定される。塗布後は100℃〜200℃、
好ましくは120℃〜150℃の温度に30分〜180分、
好ましくは45分〜120分間保持して硬化せしめる。 本発明の低反射加工剤はガラスや透明プラスチ
ツクなどの透明基体上に直接処理することによつ
て実用に耐える接着性を有するが、透明基体の種
類によつて接着性が劣つたり、あるいは更に接着
を強固にものとするために、透明基体上にあらか
じめプライマーによつて形成された塗膜上へ処理
することもできる。かかるプライマーとしては、
例えば
CH3SiCl3などに代表されるトリメトキシシラン
またはトリクロロシラン化合物、あるいは、Si
(OCH3)4、Si(OC2H5)4、SiCl4などに代表される
テトラアルコキシシラン、テトラクロルシランを
挙げることができる。共縮合体としての配合割合
は、低反射加工剤として形成される塗膜の屈折率
と接着性との関係において適宜選択される。 前記、ポリフルオロアルキレン基含有ジシラン
化合物の縮合物、及び該酸化物と他のシラン化合
物との共縮合物を得る反応、有機溶媒、例えばア
セトン、アルコール類溶液中、触媒として酢酸の
存在下に行なわれ、酢酸は1%水溶液が用いられ
る。 本発明の低反射加工剤の使用形態は有機溶媒、
例えばアセトン、アルコール類によつて希釈され
た形態がとられる。透明基体への処理方法は特に
限定されることなく、通常のはけ塗り、ロール塗
り、吹付け及び浸漬法などによつて塗布される。
塗膜厚さは1μ以下、好ましくは0.2μ〜0.05μであ
つて、1μ以上であると低反射効果は低下する傾
向が認められる。かかる膜厚は、例えば有機溶媒
による希釈条件と塗布時の浸漬後における引上速
度によつて決定される。塗布後は100℃〜200℃、
好ましくは120℃〜150℃の温度に30分〜180分、
好ましくは45分〜120分間保持して硬化せしめる。 本発明の低反射加工剤はガラスや透明プラスチ
ツクなどの透明基体上に直接処理することによつ
て実用に耐える接着性を有するが、透明基体の種
類によつて接着性が劣つたり、あるいは更に接着
を強固にものとするために、透明基体上にあらか
じめプライマーによつて形成された塗膜上へ処理
することもできる。かかるプライマーとしては、
例えば
【式】NH2
(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)3、NH2(CH2)3Si
(OCH3)3、CH3=CHSi(OCH3)3、OE2=
CHSiCl3、
(OCH3)3、CH3=CHSi(OCH3)3、OE2=
CHSiCl3、
【式】HS
(CH2)3Si(OCH3)3、NCO(CH2)3Si(OC2H5)3、
Cl(CH2)3Si(OCH2)3、
Cl(CH2)3Si(OCH2)3、
【式】CH3Si
(OCH3)3、
などのシランカツプリング剤の縮合物または二種
以上の共縮合物が用いられる。かかるシランカツ
プリング剤の縮合物または共縮合物の屈折率は
1.47〜1.60であつて、ガラスや透明プラスチツク
のそれと何程度かやゝ高いものである。また、ブ
ライマーには無機酸化物、有機樹脂が含有されて
いてもよい。 プライマーは有機溶媒、例えばアセトン、テト
ラヒドフラン、低級アルコールなどに溶解し、5
〜50重量%、好ましくは15〜40重量%溶液とした
ものを透明基体上に塗布し、室温あるいは必要に
応じて100℃程度の温度で10分〜1時間乾燥して、
架橋が部分的に進行した状態時に、本発明の低反
射加工が処理するのが好ましい。プライマーの膜
厚は少なくとも0.1μ、好ましくは0.5μ〜3μであ
り、厚いほど上層に形成される低反射加工剤の塗
膜は硬度が向上するが、光過性、透明性などへの
影響あるは作業性から、必要以上に厚くすること
は好ましくはない。 本発明の低反射加工剤によつて処理され、塗膜
が形成された透明基体の可視光における反射率は
0.8〜1.5%であり、通常のソーダ石灰ガラスの反
射率4.2%、メタアクリル樹脂の反対率3.9%、ポ
リカーボネートの反射率4.8%であることから優
れた効果が認められる。更に形成された塗膜の硬
度は鉛筆硬度H〜5Hであり、ポリフルオロアル
キル基含有シラン化合物の縮合物からなる塗膜の
鉛筆硬度がBであることからも効果が認められ
る。 本発明の低反射加工剤はガラスはもとより透明
プラスチツク、例えばポリ塩化ビニル、ポリメチ
ルメタリレート、ポリカーボネート、ポリジエチ
レングリコールビスアリルカーボネート、ポリス
チレン、不飽和ポリエステルなどに好適に使用さ
れ、処理物品の用途は特に限定されることなく、
建築物の窓、ドアー、シヨーウインド、シヨーケ
ース、車輛の窓・風防、光学レンズ、メガネレン
ズ、安全メガネ、フイルター、テレビシヨン・デ
イスプレイ前面防眩、時計ガラス、太陽光集光部
材、その他のガラスあるいは透明プラスチツク製
品に用いることができる。 以下に本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。なお、実施例において、低反射加工剤
によつて形成された塗膜の評価方法は次の通りで
ある。 反射率:自記分光光度計正反射光測定付属装置
(日立製作所製;323型)を使用し波長400nμ〜
700nμの入射角5°における平均反射率を測定。 膜厚測定:“タリステツプ”(Rank Taylor
Hobson社製)を使用し針圧測定より求める。 鉛筆硬度:鉛筆引かき試験機(JIS−K5401)を
使用。 合成例 1 0.1N−HCl27gを撹拌機を装着した内容積500ml
の四つ口フラスコに入れ、室温で48時間反応させ
た後、シリカゾルのメタノール30%溶液150g、
メタノール51gに加えて、粘度3.5cpのシランカ
ツプリング剤の縮合物からなるプライマーを調整
した。 合成例 2 H2N(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)366.6gを温度
計、撹拌機、冷却管を装着した内容積500mlの四
つ口フラスコに入れ、80℃で2時間反応させた
後、室温に冷却し、イソプロピルアルコール170
gを加えて、粘度6.7cpのシランカツプリング剤
の共縮合物からなるプライマーを調製した。 実施例 1 ポリフルオロアルキレン基含有ビスシラン化合
物として 下記式〔A〕 を2.9部(重量部、以下同じ)、t−ブタノール
96.7部及び1%酢酸水溶液0.4を室温で12時間撹
拌して反応せしめた後、過して低反射加工剤を
調製した。別に、洗剤で洗浄し、水洗後乾燥した
ガラス板(ソーダ石灰ガラス)及びポリジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネート板(以下、
カーボネート板と称する)、いずれも5cm×5cm
角、を用意し、あらかじめ調製した上記低反射加
工剤液中に浸漬し、6cm/分の速度で引上げた
後、120℃の温度にて1時間熱処理して、塗膜を
形成せしめた。形成された塗膜の厚さはいずれも
0.1μであつた。塗膜の鉛筆硬度及び反射率は 鉛筆硬度 反射率(%) ガラス板 H 1.2 ガーボネート板 H 1.0 であつた。 実施例 2 合成例1にて調製したプライマー中に実施例1
と同様のガラス板及びカーボネート板を浸漬し、
9cm/分の速度で引き上げ、室温で1時間乾燥し
てブライマー塗膜を形成せしめた後、実施例1と
同様の低反射加工剤を処理して塗膜を形成させ
た。形成された塗膜全体の厚さは、ガラス板、カ
ーボネート板ともに21μであつた。物性値の測定
結果を第1表に示した。 実施例 3 合成例2にて調製したプライマー中に実施例1
と同様のガラス板及びカーボネート板を浸漬し、
9cm/分の速度で引き上げ、室温で1時間乾燥し
てブライマー塗膜を形成せしめた後、実施例1と
同様の低反射加工剤を処理して塗膜を形成させ
た。ガラス板及びカーボネート板に形成された塗
膜の厚さはいずれも2.1μであつた。物性値の測定
結果を第1表に示した。
以上の共縮合物が用いられる。かかるシランカツ
プリング剤の縮合物または共縮合物の屈折率は
1.47〜1.60であつて、ガラスや透明プラスチツク
のそれと何程度かやゝ高いものである。また、ブ
ライマーには無機酸化物、有機樹脂が含有されて
いてもよい。 プライマーは有機溶媒、例えばアセトン、テト
ラヒドフラン、低級アルコールなどに溶解し、5
〜50重量%、好ましくは15〜40重量%溶液とした
ものを透明基体上に塗布し、室温あるいは必要に
応じて100℃程度の温度で10分〜1時間乾燥して、
架橋が部分的に進行した状態時に、本発明の低反
射加工が処理するのが好ましい。プライマーの膜
厚は少なくとも0.1μ、好ましくは0.5μ〜3μであ
り、厚いほど上層に形成される低反射加工剤の塗
膜は硬度が向上するが、光過性、透明性などへの
影響あるは作業性から、必要以上に厚くすること
は好ましくはない。 本発明の低反射加工剤によつて処理され、塗膜
が形成された透明基体の可視光における反射率は
0.8〜1.5%であり、通常のソーダ石灰ガラスの反
射率4.2%、メタアクリル樹脂の反対率3.9%、ポ
リカーボネートの反射率4.8%であることから優
れた効果が認められる。更に形成された塗膜の硬
度は鉛筆硬度H〜5Hであり、ポリフルオロアル
キル基含有シラン化合物の縮合物からなる塗膜の
鉛筆硬度がBであることからも効果が認められ
る。 本発明の低反射加工剤はガラスはもとより透明
プラスチツク、例えばポリ塩化ビニル、ポリメチ
ルメタリレート、ポリカーボネート、ポリジエチ
レングリコールビスアリルカーボネート、ポリス
チレン、不飽和ポリエステルなどに好適に使用さ
れ、処理物品の用途は特に限定されることなく、
建築物の窓、ドアー、シヨーウインド、シヨーケ
ース、車輛の窓・風防、光学レンズ、メガネレン
ズ、安全メガネ、フイルター、テレビシヨン・デ
イスプレイ前面防眩、時計ガラス、太陽光集光部
材、その他のガラスあるいは透明プラスチツク製
品に用いることができる。 以下に本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。なお、実施例において、低反射加工剤
によつて形成された塗膜の評価方法は次の通りで
ある。 反射率:自記分光光度計正反射光測定付属装置
(日立製作所製;323型)を使用し波長400nμ〜
700nμの入射角5°における平均反射率を測定。 膜厚測定:“タリステツプ”(Rank Taylor
Hobson社製)を使用し針圧測定より求める。 鉛筆硬度:鉛筆引かき試験機(JIS−K5401)を
使用。 合成例 1 0.1N−HCl27gを撹拌機を装着した内容積500ml
の四つ口フラスコに入れ、室温で48時間反応させ
た後、シリカゾルのメタノール30%溶液150g、
メタノール51gに加えて、粘度3.5cpのシランカ
ツプリング剤の縮合物からなるプライマーを調整
した。 合成例 2 H2N(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)366.6gを温度
計、撹拌機、冷却管を装着した内容積500mlの四
つ口フラスコに入れ、80℃で2時間反応させた
後、室温に冷却し、イソプロピルアルコール170
gを加えて、粘度6.7cpのシランカツプリング剤
の共縮合物からなるプライマーを調製した。 実施例 1 ポリフルオロアルキレン基含有ビスシラン化合
物として 下記式〔A〕 を2.9部(重量部、以下同じ)、t−ブタノール
96.7部及び1%酢酸水溶液0.4を室温で12時間撹
拌して反応せしめた後、過して低反射加工剤を
調製した。別に、洗剤で洗浄し、水洗後乾燥した
ガラス板(ソーダ石灰ガラス)及びポリジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネート板(以下、
カーボネート板と称する)、いずれも5cm×5cm
角、を用意し、あらかじめ調製した上記低反射加
工剤液中に浸漬し、6cm/分の速度で引上げた
後、120℃の温度にて1時間熱処理して、塗膜を
形成せしめた。形成された塗膜の厚さはいずれも
0.1μであつた。塗膜の鉛筆硬度及び反射率は 鉛筆硬度 反射率(%) ガラス板 H 1.2 ガーボネート板 H 1.0 であつた。 実施例 2 合成例1にて調製したプライマー中に実施例1
と同様のガラス板及びカーボネート板を浸漬し、
9cm/分の速度で引き上げ、室温で1時間乾燥し
てブライマー塗膜を形成せしめた後、実施例1と
同様の低反射加工剤を処理して塗膜を形成させ
た。形成された塗膜全体の厚さは、ガラス板、カ
ーボネート板ともに21μであつた。物性値の測定
結果を第1表に示した。 実施例 3 合成例2にて調製したプライマー中に実施例1
と同様のガラス板及びカーボネート板を浸漬し、
9cm/分の速度で引き上げ、室温で1時間乾燥し
てブライマー塗膜を形成せしめた後、実施例1と
同様の低反射加工剤を処理して塗膜を形成させ
た。ガラス板及びカーボネート板に形成された塗
膜の厚さはいずれも2.1μであつた。物性値の測定
結果を第1表に示した。
【表】
実施例 4〜5
実施例1の低反射加工剤において、ポリフルオ
ロアルキレン基含有ビスシラン化合物を下記式
〔B〕及〔C〕 に代えた他は実施例1と同様に調製した。別に、
実施例2と同様の方法によつてプライマー塗膜の
形成されたガラス板及びカーボネート板を用意
し、上記のあらかじめ調製された低反射加工剤液
中に浸漬し、15cm/分の速度で引上げた後、120
℃の温度にて1時間熱処理して、塗膜を形成させ
た。ガラス板及びカーボネート板に形成された塗
膜全体の厚さはいずれも2.1μであつた。物性値の
測定結果を第2表に示した。
ロアルキレン基含有ビスシラン化合物を下記式
〔B〕及〔C〕 に代えた他は実施例1と同様に調製した。別に、
実施例2と同様の方法によつてプライマー塗膜の
形成されたガラス板及びカーボネート板を用意
し、上記のあらかじめ調製された低反射加工剤液
中に浸漬し、15cm/分の速度で引上げた後、120
℃の温度にて1時間熱処理して、塗膜を形成させ
た。ガラス板及びカーボネート板に形成された塗
膜全体の厚さはいずれも2.1μであつた。物性値の
測定結果を第2表に示した。
【表】
実施例 6〜8
実施例1の低反射加工剤において、ポリフルオ
ロアルキレン基含有ピスシラン化合物を前記式
〔A〕とし、第3表に示す他のシラン化合物と実
施例1と同様の方法で共縮合せしめて低反射加工
剤を調製した。別に実施例2と同様の方法によつ
てプライマー塗膜の形成されたガラス板及びカー
ボネート板を用意し、上記のあらかじめ調製され
た低反射加工剤液中に浸漬し、15cm/分の速度で
引上げた後、120℃の温度にて1時間熱処理して
塗膜を形成させた。ガラス板及びカーボネート板
に形成された塗膜全体の厚さはいずれも2.1μであ
つた。物性値の測定結果を第3表に示した。 比較例 1〜3 実施例1の低反射加工剤において、ポリフルオ
ロアルキレン基含有ビスシラン化合物を第4表に
示すポリフルオロアルキレン基含有シラン化合物
に代えて、実施例1と同様に調製した。次に、実
施例1と同様にガラス板及びカーボネート板を調
製された液中に浸漬し、実施例1と同様に処理し
て塗膜を形成せしめた。形成された塗膜の厚さは
いずれも0.1μであつた。塗膜の物性値を第4表に
示したが塗膜が硬いと反対率が高くなり、一方、
反射率が低いと塗膜が弱く、実施例1〜8におけ
る如く、両物性値を満足していない。なお比較例
3のカーボネート板の硬度はカーボネート板の表
面硬度を示している。
ロアルキレン基含有ピスシラン化合物を前記式
〔A〕とし、第3表に示す他のシラン化合物と実
施例1と同様の方法で共縮合せしめて低反射加工
剤を調製した。別に実施例2と同様の方法によつ
てプライマー塗膜の形成されたガラス板及びカー
ボネート板を用意し、上記のあらかじめ調製され
た低反射加工剤液中に浸漬し、15cm/分の速度で
引上げた後、120℃の温度にて1時間熱処理して
塗膜を形成させた。ガラス板及びカーボネート板
に形成された塗膜全体の厚さはいずれも2.1μであ
つた。物性値の測定結果を第3表に示した。 比較例 1〜3 実施例1の低反射加工剤において、ポリフルオ
ロアルキレン基含有ビスシラン化合物を第4表に
示すポリフルオロアルキレン基含有シラン化合物
に代えて、実施例1と同様に調製した。次に、実
施例1と同様にガラス板及びカーボネート板を調
製された液中に浸漬し、実施例1と同様に処理し
て塗膜を形成せしめた。形成された塗膜の厚さは
いずれも0.1μであつた。塗膜の物性値を第4表に
示したが塗膜が硬いと反対率が高くなり、一方、
反射率が低いと塗膜が弱く、実施例1〜8におけ
る如く、両物性値を満足していない。なお比較例
3のカーボネート板の硬度はカーボネート板の表
面硬度を示している。
【表】
【表】
【表】
*)旭硝子社製品
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 透明基体の表面に処理する仮反射加工剤にお
いて、下記一般式 X3Si−Rf−SiX3 (但しXはCl、OR1、【式】Rfは少なくとも 1個のCnF2n+1分岐で構造中で有するポリフルオ
ロアルキレン基で、−(CH2−)n、−O−、−S−な
どを含有してもよく、R1は低級アルキル基、m
は1〜6の整数、nは1〜3の整数を表わす。) で示されるポリフルオロアルキレン基含有ビスシ
ラン化合物または縮合物、あるいは該化合物と他
のシラン化合物との共縮合物よりなることを特徴
とする低反射加工剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59138953A JPS6118901A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 低反射加工剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59138953A JPS6118901A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 低反射加工剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6118901A JPS6118901A (ja) | 1986-01-27 |
JPH0439641B2 true JPH0439641B2 (ja) | 1992-06-30 |
Family
ID=15234017
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59138953A Granted JPS6118901A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 低反射加工剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6118901A (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01110588A (ja) * | 1987-10-24 | 1989-04-27 | Ito Kogaku Kogyo Kk | プラスチツクレンズの防汚性処理方法 |
JPH0781024B2 (ja) * | 1989-03-22 | 1995-08-30 | 旭硝子株式会社 | 撥水性.防汚性を有する透明基材およびそれを装着した構造物 |
US5218268A (en) * | 1989-10-31 | 1993-06-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical filter for cathode ray tube |
US5851674A (en) * | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
US6277485B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
JP2002006103A (ja) * | 2000-06-23 | 2002-01-09 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、光学機能性フィルム、及び表示装置 |
WO2013042278A1 (ja) * | 2011-09-21 | 2013-03-28 | パナソニック株式会社 | コーティング組成物及び塗装品 |
CN114450325A (zh) * | 2019-09-20 | 2022-05-06 | Agc株式会社 | 含氟醚化合物、表面处理剂、含氟醚组合物、涂覆液、物品和化合物 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58167448A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-03 | Asahi Glass Co Ltd | 低反射率ガラス |
JPS58211701A (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-09 | Asahi Glass Co Ltd | 低反射率ガラス |
-
1984
- 1984-07-06 JP JP59138953A patent/JPS6118901A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58167448A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-03 | Asahi Glass Co Ltd | 低反射率ガラス |
JPS58211701A (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-09 | Asahi Glass Co Ltd | 低反射率ガラス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6118901A (ja) | 1986-01-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |