JPH0435402B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0435402B2 JPH0435402B2 JP58153157A JP15315783A JPH0435402B2 JP H0435402 B2 JPH0435402 B2 JP H0435402B2 JP 58153157 A JP58153157 A JP 58153157A JP 15315783 A JP15315783 A JP 15315783A JP H0435402 B2 JPH0435402 B2 JP H0435402B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicate
- zirconium
- water
- alkali metal
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 51
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 45
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 39
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 36
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 30
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 30
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 25
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 25
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 15
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 13
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 10
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 10
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 10
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 5
- 239000002001 electrolyte material Substances 0.000 claims description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 5
- 238000004438 BET method Methods 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims 2
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000000606 toothpaste Substances 0.000 description 28
- 229940034610 toothpaste Drugs 0.000 description 28
- 239000002585 base Substances 0.000 description 27
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 27
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 19
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 19
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 17
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- XMCTYDOFFXSNQJ-UHFFFAOYSA-N hexadecyl(methyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[NH2+]C XMCTYDOFFXSNQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 7
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 6
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 6
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 6
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000000551 dentifrice Substances 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 3
- IPCAPQRVQMIMAN-UHFFFAOYSA-L zirconyl chloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)=O IPCAPQRVQMIMAN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- -1 lithium silicates Chemical class 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101001018064 Homo sapiens Lysosomal-trafficking regulator Proteins 0.000 description 1
- 102100033472 Lysosomal-trafficking regulator Human genes 0.000 description 1
- 235000010703 Modiola caroliniana Nutrition 0.000 description 1
- 244000038561 Modiola caroliniana Species 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910006501 ZrSiO Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 239000002535 acidifier Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- UDSAIICHUKSCKT-UHFFFAOYSA-N bromophenol blue Chemical compound C1=C(Br)C(O)=C(Br)C=C1C1(C=2C=C(Br)C(O)=C(Br)C=2)C2=CC=CC=C2S(=O)(=O)O1 UDSAIICHUKSCKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008395 clarifying agent Substances 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000004737 colorimetric analysis Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000014593 oils and fats Nutrition 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- LYTNHSCLZRMKON-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);zirconium(4+);diacetate Chemical compound [O-2].[Zr+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O LYTNHSCLZRMKON-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000012085 test solution Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- AZOOXWWPWARTFV-UHFFFAOYSA-N zirconium hydrochloride Chemical compound Cl.[Zr] AZOOXWWPWARTFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/20—Silicates
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
- A61K8/28—Zirconium; Compounds thereof
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q11/00—Preparations for care of the teeth, of the oral cavity or of dentures; Dentifrices, e.g. toothpastes; Mouth rinses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
- Y10T428/2993—Silicic or refractory material containing [e.g., tungsten oxide, glass, cement, etc.]
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Birds (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
本発明は合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩及
びその製造方法に関し、歯磨用基剤として、また
ゴム用充填剤として有用な合成無定形ジルコニウ
ム結合珪酸塩を提供することをその目的とする。 従来、研磨剤、殊に歯磨用基剤として湿式法あ
るいは乾式法により製造した微粉末珪酸、天然鉱
物であるケイ酸ジルコニウムが使用され、その製
造方法、改良使用技術の進歩は驚くばかりであ
る。これらの例としては特公昭49−11159号公報、
特開昭51−12869号公報同51−136481号公報及び
特公昭57−36245号公報等がありその枚挙にいと
まがない。 ところで、日常使用する練歯磨において、歯磨
基剤として要求される性質は、歯牙を損傷させな
い適度な研磨性を有し、且つ適度な吸液量を有す
ることである。 上記の如く天然のケイ酸ジルコニウム
（ZrSiO4）を歯磨用基剤に用いる方法が提案され
ているがこのものは結晶構造を有し、比重が4.7
と大きく、且つ、モース硬度も7.5と高いために、
充分粉砕しても研磨性が高きに過ぎ、練歯磨中へ
多含させることができず、その結果として歯磨の
保形性が保持できない欠点がある。 一方、ジルコニウムとシリカが結合した球状の
ジルコニウム結合珪酸塩が知られている（特開昭
58−110414号）が、かかる珪酸塩はジルコニウム
アルコレートとアルコキシシランとをアルカリ性
の有機溶媒中で製造するものであるから、所謂微
粉末珪酸の湿式製造法として知られる水溶性アル
カリ金属珪酸塩と鉱酸との反応により製造される
微粉末珪酸とは、その性状が全く異なり、第１図
に示す如く球状であり、一次粒子が認められず、
湿式法により製造された合成無定形ジルコニウム
結合珪酸塩（第２図参照）の如く、一次粒子が凝
集して二次粒子を形成したものとはその形状を全
く異にし、このような単分散球状のジルコニウム
結合珪酸塩は研磨力を有さず、練歯磨基剤として
は適切でない。 また他方、ジルコニウムを含有した珪酸塩とし
て、ジルコニウム含有シリカゲルが知られている
（塩化物溶液からのルテニウムの共沈、東北大学
選鉱製錬研究所彙報、Vol，35，No.２，P93，’
79）が、かかるゲルの製造方法は反応を酸性側か
ら開始するものであり、ゲル状である結果走査型
電子顕微鏡写真では、一次粒子が観察されず数ミ
クロン以上のガラス状単一粒子として観察され
る。従つてジルコニウム含有シリカゲルは吸液量
が小さく、これを練歯磨基剤として使用しても、
練歯磨に必要な保形性を附与することができな
い。またかかるシリカゲルは研磨力が大きく、練
歯磨中に多含せしめることができず、この点から
も練歯磨基剤としては適切でない。 更にまた、透明歯磨用基剤としてシリカがアル
ミナと相互結合した基剤が提案されている（特公
昭57−45411号、特公昭57−45412号）が、かかる
基剤は透明性と経時安定性に劣り必ずしも満足す
べきものではない。 一方、一般に湿式法即ち水溶性アルカリ金属珪
酸塩溶液と鉱酸とを反応させて沈降せる微粉末珪
酸を分離、乾燥、粉砕することにより、沈降性微
粉末珪酸を製造する方法は種々提案され、また各
種実施されている。 しかして、沈降性微粉末珪酸の一般的性質とし
て吸液量と研磨力はほぼ反比例の関係にあり吸液
量が低下すると研磨力は増大する。例えば吸液量
が0.8，1.0，1.3ml／ｇのときは後述する研磨力は
それぞれ55.2，26.8，7.3mgとなる。 一方、練歯磨としては可能なかぎり基剤を多含
（例えば30〜50％含有）せしめることが望ましい。
何んとなれば、基剤含量が少量なるときは湿潤
剤、粘結剤等の種類により若干相違はあるものの
保形性が悪く糸引状態を呈し、使用感も悪い。 しかるに基剤を多含せしめるときは、保形性も
よくなり湿潤剤、粘結剤等による糸引状態も改善
され、使用感も優れたものとなる。 しかしながら、沈降性微粉末珪酸基剤は、その
物性が如上の通りの関係にあるため、その要請に
もかかわらず多含せしめることができなかつた。 即ち、低吸液量の沈降性微粉末珪酸を基剤とし
て使用するときは、これを歯磨ペースト中に多含
せしめることが可能なるも、研磨力が大なるため
歯磨基剤が歯牙を損傷する恐れがあり、他方歯磨
基剤として適度の研磨力を有する沈降性微粉末珪
酸は吸液量が高きに過ぎ、これを多含せしめると
きは粘性が増大し、固形状を呈し使用感は悪化
し、商品価値が著しく低下する。 そこで、本発明者らは、沈降性微粉末珪酸の前
記性質を崩壊せしめるべく、種々検討を重ねた結
果、沈降性微粉末珪酸製造時に無機の水溶性ジル
コニル塩を使用すれば、吸液量の低下とともに歯
磨基剤として適切な範囲に於て研磨力も低下せし
めることが可能なることを見い出しかかる知見に
基づき本発明を完成したものである。 即ち、本発明は水溶性アルカリ金属珪酸塩と無
機の水溶性ジルコニル塩と鉱酸とを主原料として
反応させて得た。ジルコニウムがZrO2として
SiO2に対し0.1〜10重量％の範囲で結合している
合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩に関し、殊に
歯磨基剤として有用な合成無定形ジルコニウム結
合珪酸塩を提供することを目的とする。 そこで先ず、本発明の合成無定形ジルコニウム
結合珪酸塩の製造方法について詳述する。 本発明に用いられる水溶性アルカリ金属珪酸塩
としてはナトリウム、カリウム及びリチウムの珪
酸塩を挙げることができるが、比較的安価な点か
ら珪酸ナトリウムが一般的である。 そのモル比、即ちSiO2／X2Ｏ（但し、Ｘはアル
カリ金属を示す。）は２〜４の範囲の水溶性アル
カリ金属珪酸塩を用いることができる。また、本
発明において、水溶性アルカリ金属珪酸塩の酸性
化剤として鉱酸、例えば塩酸、硫酸及び硝酸が用
いられるが、本発明において特に重要な点は、反
応をアルカリ側から開始することにあり、また更
には、アルカリ金属珪酸塩溶液と鉱酸とを反応さ
せ、沈降性微粉末珪酸を得る工程においてジルコ
ニウムを添加することにあり、ジルコニウム供与
物質としては、後述の水溶性ジルコニル塩を用い
ることができその実施態様としては、別個に水溶
性ジルコニル塩溶液として反応させてもよいが、
本発明者らが推奨する最良の方法はあらかじめ水
溶性ジルコニル塩を鉱酸に添加して、ジルコニウ
ム含有鉱酸とし、これを水溶性アルカリ金属珪酸
塩溶液と反応せしめる方法である。この方法によ
るときは、他の方法に比べてシリカ中に極めて均
一にジルコニウムを結合した状態でこれを製造す
ることができる。本発明に用いられる水溶性ジル
コニル塩としては、塩化ジルコニル、硫酸ジルコ
ニル、酢酸ジルコニル等を例示できるが、これら
に限定されるものではない。又、ジルコニウムを
含有せしめた鉱酸を用いる場合、その鉱酸中のジ
ルコニア（ZrO2）濃度に関しては原料である水
溶性アルカリ金属珪酸塩及び鉱酸の濃度、組成等
によつて特段限定されないが、合成無定形ジルコ
ニウム結合珪酸塩中のジルコニウムがZrO2とし
てSiO2に対して0.1〜10重量％になるように適宜
調整して反応に供すればよい。下限を下廻る場
合、ジルコニウムの添加効果が顕著でなく、上限
を越えると歯磨基剤として必要な研摩力を具有し
なくなると共に、反応条件如何によつては、水酸
化ジルコニルが生成することがあり望ましくな
い。 ところで、水溶性アルカリ金属珪酸塩と無機の
水溶性ジルコニル塩と鉱酸との反応は、前述の如
く反応をアルカリ側から開始することが重要であ
る。反応をアルカリ側から開始することの必要性
は、反応を酸性側から開始した場合、単一粒子の
凝集体、即ち二次粒子が形成されず吸液量が低く
過度の研摩性を有するゲル状物質が生成すること
による。 尚、本発明で云う反応をアルカリ側から開始す
るとは、核生成をアルカリ側で行なわせることを
云い、具体的には、例えば、反応槽に予じめ水
溶性アルカリ金属珪酸塩を仕込んでおきこれに水
溶性ジルコニル塩、及び鉱酸を添加反応せしめる
方法。反応槽に水溶性ジルコニル塩含有鉱酸と
水溶性アルカリ金属珪酸塩とを同時添加する方法
に於て、水溶性アルカリ金属珪酸塩の添加量比が
水溶性ジルコニル含有鉱酸の当量以上とする方
法。反応槽に予じめ水溶性アルカリ金属珪酸塩
を仕込み、鉱酸と水溶性アルカリ金属珪酸塩を所
望量、同時若しくは別々に添加する方法等であ
り、要は核生成をアルカリ側で行なわせることを
云う。 反応温度及びPHに関して云えば、温度は50〜
100℃で行ない、反応終了PHは２〜８となること
が重要である。 すなわち、他の反応条件が同一である場合、温
度が50℃を下廻ると一次粒子凝集体の生成が起り
難く、過性が悪化する。また一方PHが８を越え
ると、合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩の析出
が完全に行なわれず、反応収率は悪くなり、PHが
２以下になると製品が酸性化し、適用場面が制限
され望ましくない。 また鉱酸を添加する際の水溶性アルカリ金属珪
酸塩溶液のSiO2濃度については５〜15重量％程
度であることが望ましく、更に酸濃度も５〜15重
量％程度が製造上好ましく、原料濃度は他の条件
を適宜選択することにより、この範囲内で目的と
する本発明の合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩
の物性を附与することができる。 本発明においてその目的を更によく達成させる
ためには、即ち所望する研磨性を附与するためア
ルカリ金属珪酸塩溶液とジルコニウム含有鉱酸を
反応させ、合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩を
析出させる工程において電解質物質を介在せしめ
ることが有益である。 電解質物質の存在下で鉱酸とアルカリ金属珪酸
塩溶液とを反応せしめて得られる合成無定形ジル
コニウム結合珪酸塩は、電解質物質の不存在下で
得られる沈降性微粉末珪酸に比べて研磨力が大と
なり、その傾向は電解質物質のある一定の範囲内
に於ては、略比例関係にある。即ち電解質物質の
使用量増大とともに研磨力も増大する。ところが
前述の如く吸液量と研磨力とは大略、反比例の関
係にあるため、吸液量と研磨力とを所望するもの
に調整することは原料濃度、反応温度、反応PH、
反応速度、攪拌速度等多大の反応条件を変動して
もできない。 一方、本発明方法に於ては、ジルコニル塩の使
用により、不使用の場合に比べて吸液量の小さい
低研磨力の合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩を
製造しうるが、ジルコニル塩不使用の場合の沈降
性微粉末珪酸が低研磨性即ち高吸液量沈降性微粉
末珪酸であるときは、研磨性を附与する処法はな
く如何ともし難い。かかる場合に於て、電解質物
質とジルコニル塩を適当な割合で調合し、使用す
れば任意の研磨力を有し、低吸液量の合成無定形
ジルコニウム結合珪酸塩を製造することができ
る。 この意味に於て電解質物質の利用は、本発明と
の関係に於て極めて有益である。 本発明に用いられる電解質物質としては、水溶
性アルカリ金属の鉱酸塩が好ましく、例えばナト
リウム、カリウム等の鉱酸塩であり、塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリ
ウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム等を例示す
ることができる。又、その使用量に関しては、合
成無定形ジルコニウム結合珪酸塩の研磨性との関
係からSiO2に対して５〜60重量％までの範囲内
で適宜用いられる。その実施態様としては、電解
質物質を予めアルカリ金属珪酸塩溶液に含有させ
ることが、合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩の
研磨性を附与することから好ましいが、電解質
量、反応温度、反応時間等を適宜選択することに
より、鉱酸に電解質を添加し、反応させることを
さまたげるものではない。 さて、本発明の合成無定形ジルコニウム結合珪
酸塩の製造上の留意点としては、反応をアルカリ
側で開始することに加えて、水溶性アルカリ金属
珪酸塩溶液中のシリカ（SiO2）分が完全に析出
し終えるまでの工程で水溶性ジルコニル塩を添
加、反応させることにあり、望ましくは水溶性ジ
ルコニル塩を予め鉱酸中に含有せしめる方法が良
い。即ち、全シリカが析出し終つた時点から水溶
性ジルコニル塩を添加しても本発明の無定形ジル
コニウム結合珪酸塩を得ることができない。例え
ば、水溶性アルカリ金属珪酸塩溶液と鉱酸とを同
時添加する方法においては、前者の添加終了時ま
でに水溶性ジルコニル塩を添加すべきである。水
溶性ジルコニル塩の添加終了後、用途により所望
するPHまで鉱酸を添加すればよい。 次いで、本発明の製造条件について更に言及す
れば、特段限定されないが、合成無定形ジルコニ
ウム結合珪酸塩の所望する物性に応じて適度の攪
拌下で電解質の未添加の場合には反応温度50〜
100℃、電解質添加の場合には60〜100℃で反応時
間30分〜４時間の間で適宜反応を行なう。また反
応終了時のPHは２〜８とする。 反応終了後は、通常の方法により過水洗を行
い、得られた合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩
を液から分離し、乾燥、粉砕して製品とする。 このようにして得られた合成無定形ジルコニウ
ム結合珪酸塩はジルコニウムがZrO2としてSiO2
に対し、0.1〜10重量％の範囲でジルコニウムと
シリカとが結合したものである。またその一次粒
子の平均粒子径が0.01〜0.5μmであり、且つ凝集
体の平均粒子径が1.5〜30μmBET法による比表面
積が５〜800m2／ｇであり、且つCTAB法による
比表面積が５〜300m2／ｇ更には見掛比重が0.1〜
0.9ｇ／ml、吸液量が0.4〜2.8ml／ｇ、屈折率が
1.40〜1.50、細孔容積が0.5〜6.0c.c.／ｇの物性で
あり、この合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩を
殊に歯磨用基剤に用いた場合、吸液量が小さく、
その研磨力も適正な範囲に於て調整されているた
め、練歯磨中に多含せしめることが可能となり、
練歯磨の保形性も大幅に改善できる。 今、本発明の合成無定形ジルコニウム結合珪酸
塩の有する物性を具体的に例示すれば概ね次の通
りである。 具体例 １ 150mmψタービン翼を有する攪拌機を設けた20
容邪魔板付き反応容器にSiO2100ｇ／Kgを含有
する珪酸ナトリウム（Na2Ｏ・3.1 SiO2）水溶液
10Kgを入れ反応温度87℃に保持し、第１表の如く
ジルコニア含有量の異なる合成無定形ジルコニウ
ム結合珪酸塩を得るためジルコニア濃度を変量せ
しめた塩化ジルコニル含有10％硫酸3688ｇを36
ｇ／minの流速で添加した。次いで10％硫酸を83
ｇ／minの流速で添加し、反応系PHが2.8になつ
たとき酸の添加を止めそのまゝ15分間熟成した。 過、水洗を繰り返し、110℃に保つた乾燥機
中で乾燥後微粉砕し合成無定形ジルコニウム結合
珪酸塩を得た。 一方、珪酸ナトリウム水溶液の代りにNa2O33
ｇ／Kgを含有する水酸化ナトリウム水溶液を用い
て上述した方法に従つて得られた水酸化ジルコニ
ル（ZrO（OH）2）を第１表のジルコニウムを含有
しない沈降性微粉末珪酸に均一に混合せしめジル
コニア含有量の異なる沈降性微粉末珪酸と水酸化
ジルコニルの混合物を得た。 こうして得られた合成無定形ジルコニウム結合
珪酸塩及び沈降性微粉末珪酸（比較例）と水酸化
ジルコニルの混合物の物性を第１表に掲げる。
びその製造方法に関し、歯磨用基剤として、また
ゴム用充填剤として有用な合成無定形ジルコニウ
ム結合珪酸塩を提供することをその目的とする。 従来、研磨剤、殊に歯磨用基剤として湿式法あ
るいは乾式法により製造した微粉末珪酸、天然鉱
物であるケイ酸ジルコニウムが使用され、その製
造方法、改良使用技術の進歩は驚くばかりであ
る。これらの例としては特公昭49−11159号公報、
特開昭51−12869号公報同51−136481号公報及び
特公昭57−36245号公報等がありその枚挙にいと
まがない。 ところで、日常使用する練歯磨において、歯磨
基剤として要求される性質は、歯牙を損傷させな
い適度な研磨性を有し、且つ適度な吸液量を有す
ることである。 上記の如く天然のケイ酸ジルコニウム
（ZrSiO4）を歯磨用基剤に用いる方法が提案され
ているがこのものは結晶構造を有し、比重が4.7
と大きく、且つ、モース硬度も7.5と高いために、
充分粉砕しても研磨性が高きに過ぎ、練歯磨中へ
多含させることができず、その結果として歯磨の
保形性が保持できない欠点がある。 一方、ジルコニウムとシリカが結合した球状の
ジルコニウム結合珪酸塩が知られている（特開昭
58−110414号）が、かかる珪酸塩はジルコニウム
アルコレートとアルコキシシランとをアルカリ性
の有機溶媒中で製造するものであるから、所謂微
粉末珪酸の湿式製造法として知られる水溶性アル
カリ金属珪酸塩と鉱酸との反応により製造される
微粉末珪酸とは、その性状が全く異なり、第１図
に示す如く球状であり、一次粒子が認められず、
湿式法により製造された合成無定形ジルコニウム
結合珪酸塩（第２図参照）の如く、一次粒子が凝
集して二次粒子を形成したものとはその形状を全
く異にし、このような単分散球状のジルコニウム
結合珪酸塩は研磨力を有さず、練歯磨基剤として
は適切でない。 また他方、ジルコニウムを含有した珪酸塩とし
て、ジルコニウム含有シリカゲルが知られている
（塩化物溶液からのルテニウムの共沈、東北大学
選鉱製錬研究所彙報、Vol，35，No.２，P93，’
79）が、かかるゲルの製造方法は反応を酸性側か
ら開始するものであり、ゲル状である結果走査型
電子顕微鏡写真では、一次粒子が観察されず数ミ
クロン以上のガラス状単一粒子として観察され
る。従つてジルコニウム含有シリカゲルは吸液量
が小さく、これを練歯磨基剤として使用しても、
練歯磨に必要な保形性を附与することができな
い。またかかるシリカゲルは研磨力が大きく、練
歯磨中に多含せしめることができず、この点から
も練歯磨基剤としては適切でない。 更にまた、透明歯磨用基剤としてシリカがアル
ミナと相互結合した基剤が提案されている（特公
昭57−45411号、特公昭57−45412号）が、かかる
基剤は透明性と経時安定性に劣り必ずしも満足す
べきものではない。 一方、一般に湿式法即ち水溶性アルカリ金属珪
酸塩溶液と鉱酸とを反応させて沈降せる微粉末珪
酸を分離、乾燥、粉砕することにより、沈降性微
粉末珪酸を製造する方法は種々提案され、また各
種実施されている。 しかして、沈降性微粉末珪酸の一般的性質とし
て吸液量と研磨力はほぼ反比例の関係にあり吸液
量が低下すると研磨力は増大する。例えば吸液量
が0.8，1.0，1.3ml／ｇのときは後述する研磨力は
それぞれ55.2，26.8，7.3mgとなる。 一方、練歯磨としては可能なかぎり基剤を多含
（例えば30〜50％含有）せしめることが望ましい。
何んとなれば、基剤含量が少量なるときは湿潤
剤、粘結剤等の種類により若干相違はあるものの
保形性が悪く糸引状態を呈し、使用感も悪い。 しかるに基剤を多含せしめるときは、保形性も
よくなり湿潤剤、粘結剤等による糸引状態も改善
され、使用感も優れたものとなる。 しかしながら、沈降性微粉末珪酸基剤は、その
物性が如上の通りの関係にあるため、その要請に
もかかわらず多含せしめることができなかつた。 即ち、低吸液量の沈降性微粉末珪酸を基剤とし
て使用するときは、これを歯磨ペースト中に多含
せしめることが可能なるも、研磨力が大なるため
歯磨基剤が歯牙を損傷する恐れがあり、他方歯磨
基剤として適度の研磨力を有する沈降性微粉末珪
酸は吸液量が高きに過ぎ、これを多含せしめると
きは粘性が増大し、固形状を呈し使用感は悪化
し、商品価値が著しく低下する。 そこで、本発明者らは、沈降性微粉末珪酸の前
記性質を崩壊せしめるべく、種々検討を重ねた結
果、沈降性微粉末珪酸製造時に無機の水溶性ジル
コニル塩を使用すれば、吸液量の低下とともに歯
磨基剤として適切な範囲に於て研磨力も低下せし
めることが可能なることを見い出しかかる知見に
基づき本発明を完成したものである。 即ち、本発明は水溶性アルカリ金属珪酸塩と無
機の水溶性ジルコニル塩と鉱酸とを主原料として
反応させて得た。ジルコニウムがZrO2として
SiO2に対し0.1〜10重量％の範囲で結合している
合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩に関し、殊に
歯磨基剤として有用な合成無定形ジルコニウム結
合珪酸塩を提供することを目的とする。 そこで先ず、本発明の合成無定形ジルコニウム
結合珪酸塩の製造方法について詳述する。 本発明に用いられる水溶性アルカリ金属珪酸塩
としてはナトリウム、カリウム及びリチウムの珪
酸塩を挙げることができるが、比較的安価な点か
ら珪酸ナトリウムが一般的である。 そのモル比、即ちSiO2／X2Ｏ（但し、Ｘはアル
カリ金属を示す。）は２〜４の範囲の水溶性アル
カリ金属珪酸塩を用いることができる。また、本
発明において、水溶性アルカリ金属珪酸塩の酸性
化剤として鉱酸、例えば塩酸、硫酸及び硝酸が用
いられるが、本発明において特に重要な点は、反
応をアルカリ側から開始することにあり、また更
には、アルカリ金属珪酸塩溶液と鉱酸とを反応さ
せ、沈降性微粉末珪酸を得る工程においてジルコ
ニウムを添加することにあり、ジルコニウム供与
物質としては、後述の水溶性ジルコニル塩を用い
ることができその実施態様としては、別個に水溶
性ジルコニル塩溶液として反応させてもよいが、
本発明者らが推奨する最良の方法はあらかじめ水
溶性ジルコニル塩を鉱酸に添加して、ジルコニウ
ム含有鉱酸とし、これを水溶性アルカリ金属珪酸
塩溶液と反応せしめる方法である。この方法によ
るときは、他の方法に比べてシリカ中に極めて均
一にジルコニウムを結合した状態でこれを製造す
ることができる。本発明に用いられる水溶性ジル
コニル塩としては、塩化ジルコニル、硫酸ジルコ
ニル、酢酸ジルコニル等を例示できるが、これら
に限定されるものではない。又、ジルコニウムを
含有せしめた鉱酸を用いる場合、その鉱酸中のジ
ルコニア（ZrO2）濃度に関しては原料である水
溶性アルカリ金属珪酸塩及び鉱酸の濃度、組成等
によつて特段限定されないが、合成無定形ジルコ
ニウム結合珪酸塩中のジルコニウムがZrO2とし
てSiO2に対して0.1〜10重量％になるように適宜
調整して反応に供すればよい。下限を下廻る場
合、ジルコニウムの添加効果が顕著でなく、上限
を越えると歯磨基剤として必要な研摩力を具有し
なくなると共に、反応条件如何によつては、水酸
化ジルコニルが生成することがあり望ましくな
い。 ところで、水溶性アルカリ金属珪酸塩と無機の
水溶性ジルコニル塩と鉱酸との反応は、前述の如
く反応をアルカリ側から開始することが重要であ
る。反応をアルカリ側から開始することの必要性
は、反応を酸性側から開始した場合、単一粒子の
凝集体、即ち二次粒子が形成されず吸液量が低く
過度の研摩性を有するゲル状物質が生成すること
による。 尚、本発明で云う反応をアルカリ側から開始す
るとは、核生成をアルカリ側で行なわせることを
云い、具体的には、例えば、反応槽に予じめ水
溶性アルカリ金属珪酸塩を仕込んでおきこれに水
溶性ジルコニル塩、及び鉱酸を添加反応せしめる
方法。反応槽に水溶性ジルコニル塩含有鉱酸と
水溶性アルカリ金属珪酸塩とを同時添加する方法
に於て、水溶性アルカリ金属珪酸塩の添加量比が
水溶性ジルコニル含有鉱酸の当量以上とする方
法。反応槽に予じめ水溶性アルカリ金属珪酸塩
を仕込み、鉱酸と水溶性アルカリ金属珪酸塩を所
望量、同時若しくは別々に添加する方法等であ
り、要は核生成をアルカリ側で行なわせることを
云う。 反応温度及びPHに関して云えば、温度は50〜
100℃で行ない、反応終了PHは２〜８となること
が重要である。 すなわち、他の反応条件が同一である場合、温
度が50℃を下廻ると一次粒子凝集体の生成が起り
難く、過性が悪化する。また一方PHが８を越え
ると、合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩の析出
が完全に行なわれず、反応収率は悪くなり、PHが
２以下になると製品が酸性化し、適用場面が制限
され望ましくない。 また鉱酸を添加する際の水溶性アルカリ金属珪
酸塩溶液のSiO2濃度については５〜15重量％程
度であることが望ましく、更に酸濃度も５〜15重
量％程度が製造上好ましく、原料濃度は他の条件
を適宜選択することにより、この範囲内で目的と
する本発明の合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩
の物性を附与することができる。 本発明においてその目的を更によく達成させる
ためには、即ち所望する研磨性を附与するためア
ルカリ金属珪酸塩溶液とジルコニウム含有鉱酸を
反応させ、合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩を
析出させる工程において電解質物質を介在せしめ
ることが有益である。 電解質物質の存在下で鉱酸とアルカリ金属珪酸
塩溶液とを反応せしめて得られる合成無定形ジル
コニウム結合珪酸塩は、電解質物質の不存在下で
得られる沈降性微粉末珪酸に比べて研磨力が大と
なり、その傾向は電解質物質のある一定の範囲内
に於ては、略比例関係にある。即ち電解質物質の
使用量増大とともに研磨力も増大する。ところが
前述の如く吸液量と研磨力とは大略、反比例の関
係にあるため、吸液量と研磨力とを所望するもの
に調整することは原料濃度、反応温度、反応PH、
反応速度、攪拌速度等多大の反応条件を変動して
もできない。 一方、本発明方法に於ては、ジルコニル塩の使
用により、不使用の場合に比べて吸液量の小さい
低研磨力の合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩を
製造しうるが、ジルコニル塩不使用の場合の沈降
性微粉末珪酸が低研磨性即ち高吸液量沈降性微粉
末珪酸であるときは、研磨性を附与する処法はな
く如何ともし難い。かかる場合に於て、電解質物
質とジルコニル塩を適当な割合で調合し、使用す
れば任意の研磨力を有し、低吸液量の合成無定形
ジルコニウム結合珪酸塩を製造することができ
る。 この意味に於て電解質物質の利用は、本発明と
の関係に於て極めて有益である。 本発明に用いられる電解質物質としては、水溶
性アルカリ金属の鉱酸塩が好ましく、例えばナト
リウム、カリウム等の鉱酸塩であり、塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリ
ウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム等を例示す
ることができる。又、その使用量に関しては、合
成無定形ジルコニウム結合珪酸塩の研磨性との関
係からSiO2に対して５〜60重量％までの範囲内
で適宜用いられる。その実施態様としては、電解
質物質を予めアルカリ金属珪酸塩溶液に含有させ
ることが、合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩の
研磨性を附与することから好ましいが、電解質
量、反応温度、反応時間等を適宜選択することに
より、鉱酸に電解質を添加し、反応させることを
さまたげるものではない。 さて、本発明の合成無定形ジルコニウム結合珪
酸塩の製造上の留意点としては、反応をアルカリ
側で開始することに加えて、水溶性アルカリ金属
珪酸塩溶液中のシリカ（SiO2）分が完全に析出
し終えるまでの工程で水溶性ジルコニル塩を添
加、反応させることにあり、望ましくは水溶性ジ
ルコニル塩を予め鉱酸中に含有せしめる方法が良
い。即ち、全シリカが析出し終つた時点から水溶
性ジルコニル塩を添加しても本発明の無定形ジル
コニウム結合珪酸塩を得ることができない。例え
ば、水溶性アルカリ金属珪酸塩溶液と鉱酸とを同
時添加する方法においては、前者の添加終了時ま
でに水溶性ジルコニル塩を添加すべきである。水
溶性ジルコニル塩の添加終了後、用途により所望
するPHまで鉱酸を添加すればよい。 次いで、本発明の製造条件について更に言及す
れば、特段限定されないが、合成無定形ジルコニ
ウム結合珪酸塩の所望する物性に応じて適度の攪
拌下で電解質の未添加の場合には反応温度50〜
100℃、電解質添加の場合には60〜100℃で反応時
間30分〜４時間の間で適宜反応を行なう。また反
応終了時のPHは２〜８とする。 反応終了後は、通常の方法により過水洗を行
い、得られた合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩
を液から分離し、乾燥、粉砕して製品とする。 このようにして得られた合成無定形ジルコニウ
ム結合珪酸塩はジルコニウムがZrO2としてSiO2
に対し、0.1〜10重量％の範囲でジルコニウムと
シリカとが結合したものである。またその一次粒
子の平均粒子径が0.01〜0.5μmであり、且つ凝集
体の平均粒子径が1.5〜30μmBET法による比表面
積が５〜800m2／ｇであり、且つCTAB法による
比表面積が５〜300m2／ｇ更には見掛比重が0.1〜
0.9ｇ／ml、吸液量が0.4〜2.8ml／ｇ、屈折率が
1.40〜1.50、細孔容積が0.5〜6.0c.c.／ｇの物性で
あり、この合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩を
殊に歯磨用基剤に用いた場合、吸液量が小さく、
その研磨力も適正な範囲に於て調整されているた
め、練歯磨中に多含せしめることが可能となり、
練歯磨の保形性も大幅に改善できる。 今、本発明の合成無定形ジルコニウム結合珪酸
塩の有する物性を具体的に例示すれば概ね次の通
りである。 具体例 １ 150mmψタービン翼を有する攪拌機を設けた20
容邪魔板付き反応容器にSiO2100ｇ／Kgを含有
する珪酸ナトリウム（Na2Ｏ・3.1 SiO2）水溶液
10Kgを入れ反応温度87℃に保持し、第１表の如く
ジルコニア含有量の異なる合成無定形ジルコニウ
ム結合珪酸塩を得るためジルコニア濃度を変量せ
しめた塩化ジルコニル含有10％硫酸3688ｇを36
ｇ／minの流速で添加した。次いで10％硫酸を83
ｇ／minの流速で添加し、反応系PHが2.8になつ
たとき酸の添加を止めそのまゝ15分間熟成した。 過、水洗を繰り返し、110℃に保つた乾燥機
中で乾燥後微粉砕し合成無定形ジルコニウム結合
珪酸塩を得た。 一方、珪酸ナトリウム水溶液の代りにNa2O33
ｇ／Kgを含有する水酸化ナトリウム水溶液を用い
て上述した方法に従つて得られた水酸化ジルコニ
ル（ZrO（OH）2）を第１表のジルコニウムを含有
しない沈降性微粉末珪酸に均一に混合せしめジル
コニア含有量の異なる沈降性微粉末珪酸と水酸化
ジルコニルの混合物を得た。 こうして得られた合成無定形ジルコニウム結合
珪酸塩及び沈降性微粉末珪酸（比較例）と水酸化
ジルコニルの混合物の物性を第１表に掲げる。
【表】
具体例 ２
具体例１に於て、珪酸ナトリウム水溶液及び水
酸化ナトリウム水溶液の代りにNacl20ｇ／Kgを
含有する珪酸ナトリウム水溶液及びNacl20ｇ／
Kgを含有する水酸化ナトリウム水溶液を用いて同
様の試験を行なつた。 こうして得られた合成無定形ジルコニウム結合
珪酸塩及び沈降性微粉末珪酸（比較例）、水酸化
ジルコニルの混合物の物性を第２表に掲げる。
酸化ナトリウム水溶液の代りにNacl20ｇ／Kgを
含有する珪酸ナトリウム水溶液及びNacl20ｇ／
Kgを含有する水酸化ナトリウム水溶液を用いて同
様の試験を行なつた。 こうして得られた合成無定形ジルコニウム結合
珪酸塩及び沈降性微粉末珪酸（比較例）、水酸化
ジルコニルの混合物の物性を第２表に掲げる。
【表】
本発明を更に詳細に説明するに当り、本発明に
用いる用語、Ｘ線回折、吸液量、研摩減量、屈折
率、最低濁度、強熱減量、ジルコニウム溶出率、
BET法による比表面積、CTAB法による比表面
積、平均一次粒子径、平均凝集粒子径、見掛比重
及び細孔容積について説明する。 １ Ｘ線回折 Ｘ線回折装置は、理学電機(株)製ガイガーフレツ
クスRAD−IA型を使用した。また試料は一部試
料について結晶形体の比較を行うことの目的より
900℃、１時間の熱処理を行つたものを使用した。 ２ 吸液量 試料1.0ｇを秤量し、ガラス板上に取り、47.5
％グリセリン水溶液を５mlのミクロビユーレツト
より少量づつ加えながら、ステンレス製のヘラで
液分が全体にゆきわたる様に均一に混合する。試
料が粒状を呈し、更にかたいパテ状の一塊とな
り、しかも試料と油の混合物がガラス板上にべと
つかぬ様になつた時点を終点とし、それに要した
液量（ml）を試料の無水物当りの吸液量に換算
し、吸液量とする。 ３ 研磨減量 水平往復ブラツシング式研磨機を使用し、微粉
末珪酸25％を含む60％グリセリン水溶液を表面平
滑なしんちゆう板上に載せ、荷重500ｇをかけて
18000回研磨した後、しんちゆう板の減量を測定
し、これを研磨減量とする。 ５ 屈折率 グリセリンと水を適当量混合し、種々の屈折率
をもつ分散媒を調整し、各分散媒35ｇ中に試料15
ｇを分散させ、真空攪拌槽漬機を用いて10分回脱
泡混合させる。 この混合物の25℃における屈折率と濁度を測定
し、屈折率−濁度曲線をえがき、濁度が最少とな
る時の混合物の屈折率を試料の屈折率とする。 屈折率測定には、アツペの屈折計を用い、濁度
測定には積分球式濁度計を用い、試料厚み１mmの
ときの透過度から濁度を求める。 尚、屈折率が1.47を越える試料については分散
媒にヨウ化メチレンとエタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール等のアルコールとの混合溶
液を使用した。 ５ 強熱減量 試料２ｇを白金ルツボにとり、105℃において
２時間乾燥後の試料重量W1を測定する。 次いで900℃の電気炉中で１時間強熱後デシケ
ーター中で放冷して試料重量W2を測定し、次式
により強熱減量を求める。 強熱減量（％）＝W1−W2／W1×100 ６ ジルコニウム溶出率 試料２ｇを300ml容のトールビーカに取り2N塩
酸100mlを加え１時間煮沸する。冷却後No.5Cの
紙を用いて過した液を250ml容メスフラスコ
に移し、これを供試液とする。 ジルコニウムの分析はアルセナゾによる比色
法で行ない、試料１ｇ当りのジルコニウム溶出量
（ａｇ）を求めた。 一方、試料１ｇを白金皿に取り、水10ml、50％
硫酸0.5ml、弗化水素酸10mlを加え砂浴上で蒸発
乾固させた後、上述した方法に従つて試料１ｇ当
りのジルコニウム含有量（ｂｇ）を求め、次式に
よりジルコニウム溶出率を算出した。 ジルコニウム溶出率（％）＝ａ／ｂ×100 ７ BET法による比表面積測定法 液体窒素を冷却剤に用い、−196℃における窒素
ガス吸着量から分子断面積を16.2Å2としてBET
法により無水物グラム当りの表面積を算出する。 試料の脱ガスは真空度１×10-5mmＨｇ、140℃
で60分間行う。 ８ CTAB法による比表面積測定法 試料表面に臭化セチルメチルアンモニウム
（CTAB）を水溶液中で飽和吸着させ、その吸着
量から分子断面積を35〓2として無水物グラム当
りの表面積を算出する。 水分既知の試料１ｇを300ml容共栓付三角フラ
スコに秤取し、0.55％のCTAB溶液100mlを加え、
Ｎ／10NaOH溶液でPH9.0に調整した後、マグネ
テツクスターラーで２時間攪拌する。 その懸濁液を遠心沈降させ上澄液10mlを滴定用
として300ml容三角フラスコに取り、イオン交換
水50ml、クロロホルム25ml、ブロモフエノールブ
ルー指示薬を加え、予めCTAB標準溶液で標定
されたスルフオコハク酸ジオクテルナトリウム溶
液（エーロゾルOT）で滴定を行なう。 クロロホルム層が無色になり、水層が僅かに藤
色がかつた時点を終点としてエーロゾルOT溶液
の滴定量V2を求める。 次いで吸着操作前のCTAB溶液の10mlを同様
の操作で滴定を行ない、エーロゾルOT溶液の滴
定量V1を求める。 無水物グラム当りの表面積（Ｓm2／ｇ）を次式
により算出する。 Ｓ＝5.78×（V1−V2）×ａ／Ｘ 但し、Ｘ：試料の無水物換算量（ｇ） ａ：エーロゾル溶液１mlに相当する
CTAB量（mg） ９ 平均一次粒子径 走査型電子顕微鏡観察により、単位粒子径の算
術平均値を求める。 10 平均凝集粒子径 島津遠心沈降式粒度分布測定装置（SA−CP2
型）により、水を分散媒に使用し、粒度分布を測
定し、累積分布が50重量パーセントにおける粒子
径を平均凝集粒子径とする。 11 見掛け比重 内径30mmψ、容積100mlのガラス製目盛付き試
験管に試料10ｇを秤り取り、落下高さ10mmにおい
て500回タツピングした後試料の容積を測定し、
次式により見掛け比重を求める。 見掛け比重（ｇ／ml）＝試料の重量（ｇ）／充填試料
の容積（ml） 12 細孔容積 ポアサイザ9300（島津製作所）を用いて水銀圧
入法により、圧力０〜30000Psiaにおいて測定し
たときの全細孔容積を求める。 さて、第３図にZrO2を2.97％含有する合成無定
形ジルコニウム結合珪酸塩（以下本発明珪酸塩と
いう）のＸ線回折図また第４図に本発明珪酸塩の
熱処理物のＸ線回折図を示した。 更に、第５図に沈降性微粉末珪酸と水酸化ジル
コニルの混合物（ZrO228％含有、以下混合物と
いう）の熱処理物のＸ線回折図、第６図に水酸化
ジルコニルの熱処理物のＸ線回折図第７図にジル
コンフラワー（珪酸ジルコニウム）のＸ線回折
図、第８図にジルコンフラワーと沈降性微粉末珪
酸の混合物のＸ線回折図をそれぞれ示した。 第３図、第４図の結果から明らかなように本発
明珪酸塩は、未熱処理及び熱処理のいずに於ても
無定形形態をとり、第５図、第６図の結果と比較
し、本発明珪酸塩はこのような回折ピークを示さ
ない。 また更に第７図、第８図の結果より明らかなよ
うに、本発明珪酸塩は沈降性微粉末珪酸と珪酸ジ
ルコニウムの混合物のＸ線回折ピークとも異なつ
ており、本発明珪酸塩がこれらの混合物でないこ
ともまた明らかである。 これらＸ線回折の結果から、本発明珪酸塩はジ
ルコニウムがシリカ中に均一に結合し存在してい
ることが認められる。 また第１表及び第２表から明らかな通り、混合
物では吸液量の低下はほとんど認められないが、
本発明珪酸塩はそのジルコニウム含量に従つて吸
液量は低下し、研磨力も低下する。 更に本発明珪酸塩は、ジルコニウム含量の増加
に従つて、細孔容積が減少し、見掛比重が増大す
る傾向を示すが、このような現象は一般の沈降性
微粉末珪酸では研摩力が増大する傾向にある。し
かしながら、予想に反し本発明珪酸塩では、逆に
研摩力は低下する。 このように、吸液量、細孔容積の低下、及び見
掛比重の増加に伴ない、研摩力も低下する原因
は、必ずしも定かではないが、ジルコニウム含量
の増加に伴なつて、平均一次粒子径が小さくなる
傾向を示すことから、本発明珪酸塩の一次あるい
はその凝集体生成時に、ジルコニウムが関与して
いるものと推定される。 またジルコニウム含有量により濁度が高まるこ
となく屈折率が変化することからジルコニウムが
均一に珪酸塩内部に分散されていることが判る。 ことに、水溶性アルカリ金属珪酸塩と無機の水
溶性ジルコニル塩と鉱酸とを反応させて得た本発
明珪酸塩は、透明歯磨用基剤として極めて重要な
ものであり、従来の微粉末珪酸では望むべくもな
いものであつた。 ところで、本発明珪酸塩の強熱減量は混合物に
比べてかなり高いことが判る。一般に微粉末珪酸
の強熱減量はシリカ表面の水酸基の離脱量と比例
すると考えられており、即ち強熱減量法はシリカ
表面の水酸基量を知るために利用される手法であ
る。従つて、強熱減量の増加は、シラノール基
（Si−OH）の増加を意味する。即ち本発明方法
では、ジルコニウムがシロキサン結合（Si−Ｏ−
Si）の形成を妨害していることが予想される。 かゝる現象は、ジルコニウムの単なる附着吸蔵
からは説明し得ないことから、ジルコニウムがシ
リカと何らかの結合をしているものと推定され
る。 かかる推定を肯認しうる現象として、ジルコニ
ウム溶出率を例示することができる。第１表およ
び第２表から明らかなように、本発明珪酸塩のジ
ルコニウム塩酸溶出率が著しく小さいのに対し、
混合物のそれは著しく高い。 このことはジルコニウムがシリカと何らかの結
合をしていることを意味するものである。 また本発明珪酸塩は、ジルコニウム含量の増大
に従つて、BET法比表面積、CTAB法比表面積
がともに増大し、ゴム用充填剤としても有用なこ
とが判る。 さて、本発明珪酸塩は、以上説明した如き物性
を有するものであり、歯磨用基剤、殊に透明歯磨
用基剤として有用であるが、実施例で示す通りゴ
ム用充填剤として、使用するときも極めて有益な
効果を示す。本発明の珪酸塩はこれまでの説明か
ら明らかなように、歯磨用基剤、ゴム用充填剤と
しては勿論のこと通常の沈降性微粉末珪酸と同
様、塗料、インキの沈降防止剤、農薬担体、プラ
ステイツク充填剤、油脂の耐熱剤、化粧品の乳化
剤、製紙用の艶消剤、研磨剤、断熱剤、接着剤の
透明化剤等として使用しうることは勿論である。 以下に本発明の実施例を挙げて更に説明する。 実施例 １ 150mmψのタービン翼を有する攪拌機を設けた
20の容邪魔板付き反応容器にSiO295ｇ／Kgと
NaClを第２表の如く含有する珪酸ナトリウム
（Na2Ｏ・2.8SiO2）10Kgを入れ反応温度80℃に保
持し、第３表の如くジルコニア含有量の異なる本
発明珪酸塩を得るためジルコニア濃度を変量せし
めた硫酸ジルコニル含有10％硫酸3879ｇを61ｇ／
minの流速で添加した。次いで10％硫酸を61ｇ／
minの流速で添加し、反応系PHが5.8になつたと
き酸の添加を止めそのまゝ20分間熱成した。
過、水洗を繰り返し、110℃に保つた乾燥機中で
乾燥後微粉砕し、本発明珪酸塩を得た。こうして
得られた本発明珪酸塩の物性は第３表の通りであ
る。 尚、本発明珪酸塩をＸ線回折に供した結果、未
熱処理物及び熱処理物（900℃、１時間）共に無
定形であつた。
用いる用語、Ｘ線回折、吸液量、研摩減量、屈折
率、最低濁度、強熱減量、ジルコニウム溶出率、
BET法による比表面積、CTAB法による比表面
積、平均一次粒子径、平均凝集粒子径、見掛比重
及び細孔容積について説明する。 １ Ｘ線回折 Ｘ線回折装置は、理学電機(株)製ガイガーフレツ
クスRAD−IA型を使用した。また試料は一部試
料について結晶形体の比較を行うことの目的より
900℃、１時間の熱処理を行つたものを使用した。 ２ 吸液量 試料1.0ｇを秤量し、ガラス板上に取り、47.5
％グリセリン水溶液を５mlのミクロビユーレツト
より少量づつ加えながら、ステンレス製のヘラで
液分が全体にゆきわたる様に均一に混合する。試
料が粒状を呈し、更にかたいパテ状の一塊とな
り、しかも試料と油の混合物がガラス板上にべと
つかぬ様になつた時点を終点とし、それに要した
液量（ml）を試料の無水物当りの吸液量に換算
し、吸液量とする。 ３ 研磨減量 水平往復ブラツシング式研磨機を使用し、微粉
末珪酸25％を含む60％グリセリン水溶液を表面平
滑なしんちゆう板上に載せ、荷重500ｇをかけて
18000回研磨した後、しんちゆう板の減量を測定
し、これを研磨減量とする。 ５ 屈折率 グリセリンと水を適当量混合し、種々の屈折率
をもつ分散媒を調整し、各分散媒35ｇ中に試料15
ｇを分散させ、真空攪拌槽漬機を用いて10分回脱
泡混合させる。 この混合物の25℃における屈折率と濁度を測定
し、屈折率−濁度曲線をえがき、濁度が最少とな
る時の混合物の屈折率を試料の屈折率とする。 屈折率測定には、アツペの屈折計を用い、濁度
測定には積分球式濁度計を用い、試料厚み１mmの
ときの透過度から濁度を求める。 尚、屈折率が1.47を越える試料については分散
媒にヨウ化メチレンとエタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール等のアルコールとの混合溶
液を使用した。 ５ 強熱減量 試料２ｇを白金ルツボにとり、105℃において
２時間乾燥後の試料重量W1を測定する。 次いで900℃の電気炉中で１時間強熱後デシケ
ーター中で放冷して試料重量W2を測定し、次式
により強熱減量を求める。 強熱減量（％）＝W1−W2／W1×100 ６ ジルコニウム溶出率 試料２ｇを300ml容のトールビーカに取り2N塩
酸100mlを加え１時間煮沸する。冷却後No.5Cの
紙を用いて過した液を250ml容メスフラスコ
に移し、これを供試液とする。 ジルコニウムの分析はアルセナゾによる比色
法で行ない、試料１ｇ当りのジルコニウム溶出量
（ａｇ）を求めた。 一方、試料１ｇを白金皿に取り、水10ml、50％
硫酸0.5ml、弗化水素酸10mlを加え砂浴上で蒸発
乾固させた後、上述した方法に従つて試料１ｇ当
りのジルコニウム含有量（ｂｇ）を求め、次式に
よりジルコニウム溶出率を算出した。 ジルコニウム溶出率（％）＝ａ／ｂ×100 ７ BET法による比表面積測定法 液体窒素を冷却剤に用い、−196℃における窒素
ガス吸着量から分子断面積を16.2Å2としてBET
法により無水物グラム当りの表面積を算出する。 試料の脱ガスは真空度１×10-5mmＨｇ、140℃
で60分間行う。 ８ CTAB法による比表面積測定法 試料表面に臭化セチルメチルアンモニウム
（CTAB）を水溶液中で飽和吸着させ、その吸着
量から分子断面積を35〓2として無水物グラム当
りの表面積を算出する。 水分既知の試料１ｇを300ml容共栓付三角フラ
スコに秤取し、0.55％のCTAB溶液100mlを加え、
Ｎ／10NaOH溶液でPH9.0に調整した後、マグネ
テツクスターラーで２時間攪拌する。 その懸濁液を遠心沈降させ上澄液10mlを滴定用
として300ml容三角フラスコに取り、イオン交換
水50ml、クロロホルム25ml、ブロモフエノールブ
ルー指示薬を加え、予めCTAB標準溶液で標定
されたスルフオコハク酸ジオクテルナトリウム溶
液（エーロゾルOT）で滴定を行なう。 クロロホルム層が無色になり、水層が僅かに藤
色がかつた時点を終点としてエーロゾルOT溶液
の滴定量V2を求める。 次いで吸着操作前のCTAB溶液の10mlを同様
の操作で滴定を行ない、エーロゾルOT溶液の滴
定量V1を求める。 無水物グラム当りの表面積（Ｓm2／ｇ）を次式
により算出する。 Ｓ＝5.78×（V1−V2）×ａ／Ｘ 但し、Ｘ：試料の無水物換算量（ｇ） ａ：エーロゾル溶液１mlに相当する
CTAB量（mg） ９ 平均一次粒子径 走査型電子顕微鏡観察により、単位粒子径の算
術平均値を求める。 10 平均凝集粒子径 島津遠心沈降式粒度分布測定装置（SA−CP2
型）により、水を分散媒に使用し、粒度分布を測
定し、累積分布が50重量パーセントにおける粒子
径を平均凝集粒子径とする。 11 見掛け比重 内径30mmψ、容積100mlのガラス製目盛付き試
験管に試料10ｇを秤り取り、落下高さ10mmにおい
て500回タツピングした後試料の容積を測定し、
次式により見掛け比重を求める。 見掛け比重（ｇ／ml）＝試料の重量（ｇ）／充填試料
の容積（ml） 12 細孔容積 ポアサイザ9300（島津製作所）を用いて水銀圧
入法により、圧力０〜30000Psiaにおいて測定し
たときの全細孔容積を求める。 さて、第３図にZrO2を2.97％含有する合成無定
形ジルコニウム結合珪酸塩（以下本発明珪酸塩と
いう）のＸ線回折図また第４図に本発明珪酸塩の
熱処理物のＸ線回折図を示した。 更に、第５図に沈降性微粉末珪酸と水酸化ジル
コニルの混合物（ZrO228％含有、以下混合物と
いう）の熱処理物のＸ線回折図、第６図に水酸化
ジルコニルの熱処理物のＸ線回折図第７図にジル
コンフラワー（珪酸ジルコニウム）のＸ線回折
図、第８図にジルコンフラワーと沈降性微粉末珪
酸の混合物のＸ線回折図をそれぞれ示した。 第３図、第４図の結果から明らかなように本発
明珪酸塩は、未熱処理及び熱処理のいずに於ても
無定形形態をとり、第５図、第６図の結果と比較
し、本発明珪酸塩はこのような回折ピークを示さ
ない。 また更に第７図、第８図の結果より明らかなよ
うに、本発明珪酸塩は沈降性微粉末珪酸と珪酸ジ
ルコニウムの混合物のＸ線回折ピークとも異なつ
ており、本発明珪酸塩がこれらの混合物でないこ
ともまた明らかである。 これらＸ線回折の結果から、本発明珪酸塩はジ
ルコニウムがシリカ中に均一に結合し存在してい
ることが認められる。 また第１表及び第２表から明らかな通り、混合
物では吸液量の低下はほとんど認められないが、
本発明珪酸塩はそのジルコニウム含量に従つて吸
液量は低下し、研磨力も低下する。 更に本発明珪酸塩は、ジルコニウム含量の増加
に従つて、細孔容積が減少し、見掛比重が増大す
る傾向を示すが、このような現象は一般の沈降性
微粉末珪酸では研摩力が増大する傾向にある。し
かしながら、予想に反し本発明珪酸塩では、逆に
研摩力は低下する。 このように、吸液量、細孔容積の低下、及び見
掛比重の増加に伴ない、研摩力も低下する原因
は、必ずしも定かではないが、ジルコニウム含量
の増加に伴なつて、平均一次粒子径が小さくなる
傾向を示すことから、本発明珪酸塩の一次あるい
はその凝集体生成時に、ジルコニウムが関与して
いるものと推定される。 またジルコニウム含有量により濁度が高まるこ
となく屈折率が変化することからジルコニウムが
均一に珪酸塩内部に分散されていることが判る。 ことに、水溶性アルカリ金属珪酸塩と無機の水
溶性ジルコニル塩と鉱酸とを反応させて得た本発
明珪酸塩は、透明歯磨用基剤として極めて重要な
ものであり、従来の微粉末珪酸では望むべくもな
いものであつた。 ところで、本発明珪酸塩の強熱減量は混合物に
比べてかなり高いことが判る。一般に微粉末珪酸
の強熱減量はシリカ表面の水酸基の離脱量と比例
すると考えられており、即ち強熱減量法はシリカ
表面の水酸基量を知るために利用される手法であ
る。従つて、強熱減量の増加は、シラノール基
（Si−OH）の増加を意味する。即ち本発明方法
では、ジルコニウムがシロキサン結合（Si−Ｏ−
Si）の形成を妨害していることが予想される。 かゝる現象は、ジルコニウムの単なる附着吸蔵
からは説明し得ないことから、ジルコニウムがシ
リカと何らかの結合をしているものと推定され
る。 かかる推定を肯認しうる現象として、ジルコニ
ウム溶出率を例示することができる。第１表およ
び第２表から明らかなように、本発明珪酸塩のジ
ルコニウム塩酸溶出率が著しく小さいのに対し、
混合物のそれは著しく高い。 このことはジルコニウムがシリカと何らかの結
合をしていることを意味するものである。 また本発明珪酸塩は、ジルコニウム含量の増大
に従つて、BET法比表面積、CTAB法比表面積
がともに増大し、ゴム用充填剤としても有用なこ
とが判る。 さて、本発明珪酸塩は、以上説明した如き物性
を有するものであり、歯磨用基剤、殊に透明歯磨
用基剤として有用であるが、実施例で示す通りゴ
ム用充填剤として、使用するときも極めて有益な
効果を示す。本発明の珪酸塩はこれまでの説明か
ら明らかなように、歯磨用基剤、ゴム用充填剤と
しては勿論のこと通常の沈降性微粉末珪酸と同
様、塗料、インキの沈降防止剤、農薬担体、プラ
ステイツク充填剤、油脂の耐熱剤、化粧品の乳化
剤、製紙用の艶消剤、研磨剤、断熱剤、接着剤の
透明化剤等として使用しうることは勿論である。 以下に本発明の実施例を挙げて更に説明する。 実施例 １ 150mmψのタービン翼を有する攪拌機を設けた
20の容邪魔板付き反応容器にSiO295ｇ／Kgと
NaClを第２表の如く含有する珪酸ナトリウム
（Na2Ｏ・2.8SiO2）10Kgを入れ反応温度80℃に保
持し、第３表の如くジルコニア含有量の異なる本
発明珪酸塩を得るためジルコニア濃度を変量せし
めた硫酸ジルコニル含有10％硫酸3879ｇを61ｇ／
minの流速で添加した。次いで10％硫酸を61ｇ／
minの流速で添加し、反応系PHが5.8になつたと
き酸の添加を止めそのまゝ20分間熱成した。
過、水洗を繰り返し、110℃に保つた乾燥機中で
乾燥後微粉砕し、本発明珪酸塩を得た。こうして
得られた本発明珪酸塩の物性は第３表の通りであ
る。 尚、本発明珪酸塩をＸ線回折に供した結果、未
熱処理物及び熱処理物（900℃、１時間）共に無
定形であつた。
【表】
第３表から明らかな様に、電解質量により吸液
量を減少せしめたものは、研磨減量が増大するの
に対し、本発明珪酸塩はジルコニア含量の増大に
ともない吸液量と研磨減量がともに減少している
ことが判る。かかる特性は練歯磨に基剤を多含せ
しめることを可能ならしめ、しかも歯牙を損傷す
ることのない適切な研磨力を有する練歯磨を得る
のに有用である。 また、電解質の不存在下で得られた本発明珪酸
塩は、ジルコニウム含量の増大に伴ない、BET
法による比表面積、CTAB法による比表面積、
共に増大することから、ゴム用充てん剤としても
有用であることがわかる。またその他塗料、イン
キの沈降防止剤、農薬担体、プラステイツク充て
ん剤等にも使用し得る。 実施例 ２ 実施例１で使用した反応容器に硫酸カリウム67
ｇを含有する硫酸カリウム水溶液３Kgを入れ、反
応温度75℃に保持した。 次いでSiO2120ｇ／Kgを含有する珪酸カリウム
（K2Ｏ・3.1SiO2）水溶液８KgとZrO210ｇ／Kgを
含有する硫酸ジルコニル水溶液384ｇ及び８％塩
酸水溶液をそれぞれ流速106ｇ／min、5.1ｇ／
min、44ｇ／minにおいて同時に添加を開始し
た。珪酸カリウム水溶液及び硫酸ジルコニル水溶
液の添加が終了した後、引き続き８％塩酸水溶液
の添加を行ない、反応系PHが7.2になつたとき酸
の添加を止め、95℃において20分間熟成を行なつ
た。 過、水洗を繰り返し、110℃に保つた乾燥機
中で乾燥後微粉砕し、本発明珪酸塩を得た。 こうして得られた本発明珪酸塩の物性は平均一
次粒子径0.05μm平均凝集粒子径9.2μmBET法比
表面積43m2／ｇCTAB法比表面積38m2／ｇ見掛
け比重0.45ｇ／ml、吸液量0.86ml／ｇ、屈折率
1.438細孔容積1.1c.c.／ｇであり、歯磨用基剤とし
て適切な研磨性を有していた。 実施例 ３ 実施例１で使用した反応容器にSiO2110ｇ／Kg
を含有する珪酸ナトリウム（Na2Ｏ・2.8SiO2）
水溶液10Kgを入れ反応温度60℃に保持し、第４表
の如くジルコニア含有量の異なる本発明珪酸塩を
得るため、ジルコニア濃度を変量せしめた塩化ジ
ルコニル含有10％硫酸4492ｇを106ｇ／minの流
速で添加した。 次いで10％硫酸を106ｇ／minの流速で添加し、
反応系PHが5.3になつたとき酸の添加を止め、95
℃において30分間熟成した。 過、水洗を繰り返し、110℃に保つた乾燥機
中で乾燥後微粉砕し、本発明珪酸塩を得た。 こうして得られた本発明珪酸塩をスチレン−ブ
タジエンゴムに対し１：２の割合で配合し140℃
において加流した後、引張り強さと300％引張り
応力を測定した。 その結果を第３表に示す。 尚、本発明珪酸塩は未熱処理物及び熱処理物
（900℃、１時間）共にＸ線回折の結果、無定形で
あつた。
量を減少せしめたものは、研磨減量が増大するの
に対し、本発明珪酸塩はジルコニア含量の増大に
ともない吸液量と研磨減量がともに減少している
ことが判る。かかる特性は練歯磨に基剤を多含せ
しめることを可能ならしめ、しかも歯牙を損傷す
ることのない適切な研磨力を有する練歯磨を得る
のに有用である。 また、電解質の不存在下で得られた本発明珪酸
塩は、ジルコニウム含量の増大に伴ない、BET
法による比表面積、CTAB法による比表面積、
共に増大することから、ゴム用充てん剤としても
有用であることがわかる。またその他塗料、イン
キの沈降防止剤、農薬担体、プラステイツク充て
ん剤等にも使用し得る。 実施例 ２ 実施例１で使用した反応容器に硫酸カリウム67
ｇを含有する硫酸カリウム水溶液３Kgを入れ、反
応温度75℃に保持した。 次いでSiO2120ｇ／Kgを含有する珪酸カリウム
（K2Ｏ・3.1SiO2）水溶液８KgとZrO210ｇ／Kgを
含有する硫酸ジルコニル水溶液384ｇ及び８％塩
酸水溶液をそれぞれ流速106ｇ／min、5.1ｇ／
min、44ｇ／minにおいて同時に添加を開始し
た。珪酸カリウム水溶液及び硫酸ジルコニル水溶
液の添加が終了した後、引き続き８％塩酸水溶液
の添加を行ない、反応系PHが7.2になつたとき酸
の添加を止め、95℃において20分間熟成を行なつ
た。 過、水洗を繰り返し、110℃に保つた乾燥機
中で乾燥後微粉砕し、本発明珪酸塩を得た。 こうして得られた本発明珪酸塩の物性は平均一
次粒子径0.05μm平均凝集粒子径9.2μmBET法比
表面積43m2／ｇCTAB法比表面積38m2／ｇ見掛
け比重0.45ｇ／ml、吸液量0.86ml／ｇ、屈折率
1.438細孔容積1.1c.c.／ｇであり、歯磨用基剤とし
て適切な研磨性を有していた。 実施例 ３ 実施例１で使用した反応容器にSiO2110ｇ／Kg
を含有する珪酸ナトリウム（Na2Ｏ・2.8SiO2）
水溶液10Kgを入れ反応温度60℃に保持し、第４表
の如くジルコニア含有量の異なる本発明珪酸塩を
得るため、ジルコニア濃度を変量せしめた塩化ジ
ルコニル含有10％硫酸4492ｇを106ｇ／minの流
速で添加した。 次いで10％硫酸を106ｇ／minの流速で添加し、
反応系PHが5.3になつたとき酸の添加を止め、95
℃において30分間熟成した。 過、水洗を繰り返し、110℃に保つた乾燥機
中で乾燥後微粉砕し、本発明珪酸塩を得た。 こうして得られた本発明珪酸塩をスチレン−ブ
タジエンゴムに対し１：２の割合で配合し140℃
において加流した後、引張り強さと300％引張り
応力を測定した。 その結果を第３表に示す。 尚、本発明珪酸塩は未熱処理物及び熱処理物
（900℃、１時間）共にＸ線回折の結果、無定形で
あつた。
【表】
第３表から明らかなように本発明珪酸塩はジル
コニア含量が増大するに従つて引張り強さ、300
％引張応力ともに増加している。かかる特性は前
述した如く本発明珪酸塩のシラノール基及び
CTAB法比表面積が大なることに関係している
ものと考えられるが、ゴム補強剤として殊に有用
であることが判る。
コニア含量が増大するに従つて引張り強さ、300
％引張応力ともに増加している。かかる特性は前
述した如く本発明珪酸塩のシラノール基及び
CTAB法比表面積が大なることに関係している
ものと考えられるが、ゴム補強剤として殊に有用
であることが判る。
第１図は、ジルコニウムとシリカが結合した球
状のジルコニウム結合珪酸塩の電子顕微鏡写真、
第２図は、合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩
（本発明品）の電子顕微鏡写真、第３図は合成無
定形ジルコニウム結合珪酸塩（本発明品）のＸ線
回折図、第４図は合成無定形ジルコニウム結合珪
酸塩（本発明品）の熱処理物のＸ線回折図、第５
図は沈降性微粉末珪酸と水酸化シルコニル混合物
の熱処理物のＸ線回折図、第６図は水酸化ジルコ
ニルの熱処理物のＸ線回折図、第７図はジルコン
フラワー（珪酸ジルコニウム）のＸ線回折図、第
８図はジルコンフラワーと沈降性微粉末珪酸混合
物のＸ線回折図である。
状のジルコニウム結合珪酸塩の電子顕微鏡写真、
第２図は、合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩
（本発明品）の電子顕微鏡写真、第３図は合成無
定形ジルコニウム結合珪酸塩（本発明品）のＸ線
回折図、第４図は合成無定形ジルコニウム結合珪
酸塩（本発明品）の熱処理物のＸ線回折図、第５
図は沈降性微粉末珪酸と水酸化シルコニル混合物
の熱処理物のＸ線回折図、第６図は水酸化ジルコ
ニルの熱処理物のＸ線回折図、第７図はジルコン
フラワー（珪酸ジルコニウム）のＸ線回折図、第
８図はジルコンフラワーと沈降性微粉末珪酸混合
物のＸ線回折図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 水溶性アルカリ金属珪酸塩と無機の水溶性ジ
ルコニル塩と鉱酸とを主原料として反応させて得
たジルコニウムがZrO2としてSiO2に対し0.1〜10
重量％の範囲で結合している合成無定形ジルコニ
ウム結合珪酸塩。 ２ 一次粒子の平均粒子径が0.01〜0.5μmであり、
且つ凝集体の平均粒子径が1.5〜30μmである特許
請求の範囲第１項記載の珪酸塩。 ３ 反応をアルカリ側から開始することを特徴と
して得られた特許請求の範囲第１項記載の珪酸
塩。 ４ BET法によつ比表面積が５〜800m2／ｇであ
り、且つCTAB法による比表面積が５〜300m2／
ｇである特許請求の範囲第１項記載の珪酸塩。 ５ 見掛比重が0.1〜0.9ｇ／mlである特許請求の
範囲第１項記載の珪酸塩。 ６ 吸液量が0.4〜2.8ml／ｇである特許請求の範
囲第１項記載の珪酸塩。 ７ 屈折率が1.40〜1.50である特許請求の範囲第
１項記載の珪酸塩。 ８ 細孔容積が0.5〜6.0c.c.／ｇである特許請求の
範囲第１項記載の珪酸塩。 ９ 水溶性アルカリ金属珪酸塩と無機の水溶性ジ
ルコニル塩と鉱酸とを主原料として反応させるこ
とを特徴とする合成無定形ジルコニウム結合珪酸
塩の製造方法。 １０ 反応をアルカリ側から開始することを特徴
とする特許請求の範囲第９項記載の方法。 １１ 反応温度が50〜100℃である特許請求の範
囲第９項記載の方法。 １２ 反応終了PHが２〜８である特許請求の範囲
第９項記載の方法。 １３ 水溶性アルカリ金属珪酸塩のSiO2に対す
る無機の水溶性ジルコニル塩のZrO2の使用割合
が0.1〜10.重量％の範囲である特許請求の範囲第
９項記載の方法。 １４ 水溶性アルカリ金属珪酸塩溶液とジルコニ
ウム含有鉱酸とを反応させることを特徴とする合
成無定形ジルコニウム結合珪酸塩の製造方法。 １５ 反応をアルカリ側から開始することを特徴
とする特許請求の範囲第１４項記載の方法。 １６ ジルコニウム含有鉱酸が無機の水溶性ジル
コニル塩と鉱酸との混合物である特許請求の範囲
第１４項記載の方法。 １７ 反応温度が50〜100℃である特許請求の範
囲第１４項記載の方法。 １８ 反応終了PHが２〜８である特許請求の範囲
第１４項記載の方法。 １９ 水溶性アルカリ金属珪酸塩のSiO2に対す
るジルコニウム含有鉱酸のZrO2の使用割合が0.1
〜10重量％の範囲である特許請求の範囲第１４項
記載の方法。 ２０ ジルコニウム含有鉱酸の酸濃度が５〜15重
量％である特許請求の範囲第１４項記載の方法。 ２１ 電解質物質の存在下で水溶性アルカリ金属
珪酸塩溶液とジルコニウム含有鉱酸とを反応させ
ることを特徴とする合成無定形ジルコニウム結合
珪酸塩の製造方法。 ２２ 反応をアルカリ側から開始することを特徴
とする特許請求の範囲第２１項記載の方法。 ２３ 反応温度が60〜100℃である特許請求の範
囲第２１項記載の方法。 ２４ 反応終了PHが２〜８である特許請求の範囲
第２１項記載の方法。 ２５ 電解質物質の存在量が水溶性アルカリ金属
珪酸塩溶液中のSiO2に対し５〜60重量％である
特許請求の範囲第２１項記載の方法。 ２６ 電解質物質がアルカリ金属の鉱酸塩である
特許請求の範囲第２１項記載の方法。 ２７ 電解質物質が予めアルカリ金属珪酸塩溶液
中に含まれていることを特徴とする特許請求の範
囲第２１項記載の方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58153157A JPS6046915A (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩及びその製造方法 |
| US06/639,111 US4581292A (en) | 1983-08-24 | 1984-08-09 | Synthetic amorphous zirconium-bonded silicate and method for making same |
| DE3430931A DE3430931C2 (de) | 1983-08-24 | 1984-08-22 | Zahnputzmittel und Verfahren zur Herstellung des darin enthaltenen synthetischen, amorphen, zirkongebundenen Silikats |
| CA000461577A CA1215817A (en) | 1983-08-24 | 1984-08-22 | Synthetic amorphous zirconium-bonded silicate and method for making same |
| NL8402582A NL8402582A (nl) | 1983-08-24 | 1984-08-23 | Synthetisch amorf zirkonium-gebonden silicaat en werkwijze ter bereiding daarvan. |
| GB08421387A GB2145703B (en) | 1983-08-24 | 1984-08-23 | Synthetic amorphous zirconium-bonded silicate and method for making same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58153157A JPS6046915A (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6046915A JPS6046915A (ja) | 1985-03-14 |
| JPH0435402B2 true JPH0435402B2 (ja) | 1992-06-11 |
Family
ID=15556274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58153157A Granted JPS6046915A (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 合成無定形ジルコニウム結合珪酸塩及びその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4581292A (ja) |
| JP (1) | JPS6046915A (ja) |
| CA (1) | CA1215817A (ja) |
| DE (1) | DE3430931C2 (ja) |
| GB (1) | GB2145703B (ja) |
| NL (1) | NL8402582A (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60105609A (ja) * | 1983-03-04 | 1985-06-11 | Taki Chem Co Ltd | 歯磨用シリカ基剤及びその製造方法 |
| JPS6096589A (ja) * | 1983-10-26 | 1985-05-30 | 京セラ株式会社 | 宝飾部材 |
| JPS61155317A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-15 | Lion Corp | 口腔用組成物 |
| DE3688190T2 (de) * | 1985-11-29 | 1993-09-09 | Redco Nv | Kristalline konglomerate aus synthetischen xonotlith und verfahren zu deren herstellung. |
| FR2603224B1 (fr) * | 1986-09-02 | 1989-07-13 | Jacky Delage | Godet melangeur adaptable sur les machines ou vehicules automoteurs pour l'excavation et/ou le chargement et/ou le melange. |
| US5286478A (en) * | 1987-11-04 | 1994-02-15 | Rhone-Poulenc Chimie | Dentifrice-compatible silica particulates |
| US5614177A (en) * | 1987-11-04 | 1997-03-25 | Rhone-Poulenc Chimie | Dentifrice-compatible silica particulates |
| US5069816A (en) * | 1988-01-11 | 1991-12-03 | Mmii Incorporated | Zirconium silica hydrogel compositions and methods of preparation |
| FR2632185B1 (fr) * | 1988-06-01 | 1992-05-22 | Rhone Poulenc Chimie | Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec le zinc |
| FR2649089B1 (fr) * | 1989-07-03 | 1991-12-13 | Rhone Poulenc Chimie | Silice a porosite controlee et son procede d'obtention |
| NZ514069A (en) | 1999-03-12 | 2004-01-30 | Pfizer Prod Inc | Compositions comprising a potassium salt active ingredient including oral compositions for reducing dental nerve and dentin sensitivity comprising a non-menthol flavouring |
| DE10112441A1 (de) * | 2001-03-15 | 2002-09-19 | Degussa | Kieselsäure durch Fällung mit konstanter Alkalizahl und deren Verwendung |
| CN100447091C (zh) * | 2004-10-16 | 2008-12-31 | 太原理工大学 | 介孔二氧化锆分子筛的合成方法 |
| RU2448769C1 (ru) * | 2010-11-17 | 2012-04-27 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Южно-Уральский государственный университет" (ГОУ ВПО "ЮУрГУ") | Способ получения сорбентов на основе смешанных гелей оксигидрата циркония и кремниевой кислоты |
| DK2673237T3 (en) * | 2011-02-11 | 2019-02-18 | Zs Pharma Inc | APPLICATION OF A ZIRCONIUM SILICATE FOR THE TREATMENT OF HYPERCALIA |
| TWI647178B (zh) | 2013-04-17 | 2019-01-11 | 美商巴斯夫公司 | 第４族金屬矽酸鹽的製備方法及其用途 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3775068A (en) * | 1971-06-23 | 1973-11-27 | Transelco | Glass polishing agent of sodium zirconium silicate |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2444913A (en) * | 1944-05-12 | 1948-07-13 | Houdry Process Corp | Preparation of zirconia containing catalysis |
| US3954961A (en) * | 1972-10-30 | 1976-05-04 | Colgate-Palmolive Company | Dental polishing creams |
| US3960586A (en) * | 1973-10-03 | 1976-06-01 | J. M. Huber Corporation | Amorphous precipitated siliceous pigments and improved process for producing such pigments |
| CA1063357A (en) * | 1974-05-21 | 1979-10-02 | James J. Benedict | Abrasive composition |
| US4170634A (en) * | 1975-01-28 | 1979-10-09 | Colgate Palmolive Company | Modified abrasive system for dentifrices |
| US4246137A (en) * | 1979-05-31 | 1981-01-20 | Chemplex Company | Method of preparing zirconia-silica xerogels, the xerogels, and xerogel catalysts |
| US4279780A (en) * | 1980-04-18 | 1981-07-21 | Chemplex Company | Method of preparing catalyst supports |
| JPS58110414A (ja) * | 1981-12-23 | 1983-07-01 | Tokuyama Soda Co Ltd | 無機酸化物及びその製造方法 |
-
1983
- 1983-08-24 JP JP58153157A patent/JPS6046915A/ja active Granted
-
1984
- 1984-08-09 US US06/639,111 patent/US4581292A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-08-22 CA CA000461577A patent/CA1215817A/en not_active Expired
- 1984-08-22 DE DE3430931A patent/DE3430931C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1984-08-23 NL NL8402582A patent/NL8402582A/nl not_active Application Discontinuation
- 1984-08-23 GB GB08421387A patent/GB2145703B/en not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3775068A (en) * | 1971-06-23 | 1973-11-27 | Transelco | Glass polishing agent of sodium zirconium silicate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB8421387D0 (en) | 1984-09-26 |
| CA1215817A (en) | 1986-12-30 |
| DE3430931A1 (de) | 1985-03-14 |
| GB2145703B (en) | 1987-08-05 |
| DE3430931C2 (de) | 1994-08-25 |
| JPS6046915A (ja) | 1985-03-14 |
| GB2145703A (en) | 1985-04-03 |
| NL8402582A (nl) | 1985-03-18 |
| US4581292A (en) | 1986-04-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0435402B2 (ja) | ||
| US2731326A (en) | Process of preparing dense amorphous silica aggregates and product | |
| US4122160A (en) | Toothpaste compositions containing improved amorphous precipitated silicas | |
| US4105757A (en) | Amorphous precipitated siliceous pigments for cosmetic or dentifrice use and methods for their production | |
| JPH0331642B2 (ja) | ||
| US4067746A (en) | Amorphous precipitated silicas and methods for their preparation | |
| TW298587B (ja) | ||
| US6663963B2 (en) | Very high structure, highly absorptive hybrid silica and methods for making same | |
| JPS6217968B2 (ja) | ||
| JP2882518B2 (ja) | シリカ、硫酸アルミニウム又は明ばんの懸濁液、この懸濁液の製造法及び用途 | |
| JP5844480B2 (ja) | 沈澱シリカ製造方法 | |
| JPH08502716A (ja) | 沈降シリカ | |
| JPS6217969B2 (ja) | ||
| WO2008082795A1 (en) | Precipitated silica materials exhibiting high compatibility with cetylpyridinium chloride | |
| JP3444670B2 (ja) | 粒状非晶質シリカの製造方法 | |
| TW393503B (en) | New process for the preparation of precipitated silica, new precipitated silicas containing zinc and their use for the reinforcement of elastomers | |
| KR100808037B1 (ko) | 수분 흡수율이 낮은 고도로 구조화된 실리카, 이의 제조방법 및 용도 | |
| CN1318300C (zh) | 无机氧化物 | |
| JP2563027B2 (ja) | 新規なシリカ、それらの製造法及び特に紙の充填剤としてのそれらの使用 | |
| JP2013091589A (ja) | 多孔質２次凝集シリカゾル及びその製造方法 | |
| WO2023117446A1 (en) | Precipitated silica and methods thereof | |
| JPH06279589A (ja) | 球状シリコーン微粒子の製造方法 | |
| JP3894518B2 (ja) | 鱗片状の低結晶性シリカとその製造方法 | |
| CN100572456C (zh) | 纳米内核夹心式结构二氧化硅消光剂及其制备方法 | |
| JP3662202B2 (ja) | 合成無定形ケイ酸塩 |