KR100808037B1 - 수분 흡수율이 낮은 고도로 구조화된 실리카, 이의 제조방법 및 용도 - Google Patents
수분 흡수율이 낮은 고도로 구조화된 실리카, 이의 제조방법 및 용도 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (43)
- 하기를 나타내는 침전 실리카:● 140 내지 230 ㎡/g 의 CTAB 비표면,● 300 ml/100 g 초과 450 ml/100 g 이하의 DOP 오일 흡수량,● 6 % 미만 3 % 초과의 수분 흡수율,● 3.5 내지 7.5 의 pH,● 2 % 이하의, 황산 나트륨으로 표현되는 잔류 음이온 수준,● 5 ㎛ 이상 30 ㎛ 미만의 평균 입자 크기.
- 삭제
- 하기를 나타내는 침전 실리카:● 140 내지 230 ㎡/g 의 CTAB 비표면,● 300 ml/100 g 초과 450 ml/100 g 이하의 DOP 오일 흡수량,● 6 % 미만 3 % 초과의 수분 흡수율,● 3.5 내지 7.5 의 pH,● 2 % 이하의, 황산 나트륨으로 표현되는 잔류 음이온 수준,● 30 ㎛ 내지 20 mm 의 평균 입자 크기.
- 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 초음파 하에서의 탈응집 후에, 35 ㎛ 이하의 중간 입자 직경을 나타내는 것을 특징으로 하는 실리카.
- 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, BET-CTAB 차이가 30 ㎡/g 이하이도록 하는 BET 비표면을 나타내는 것을 특징으로 하는 실리카.
- 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 0.04 내지 0.3 g/ml 의 충전 밀도를 나타내는 것을 특징으로 하는 실리카.
- 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 분말의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 실리카.
- 하기 단계를 포함하는, 제 1 항 또는 제 3 항의 실리카의 제조 방법으로서:● (a) 물 및 규산염을 포함한, 80 내지 100 ℃ 의 온도인 시초 용기 하층물을 제조하는 단계로서, SiO2 당량으로 표현되는 상기 용기 하층물 내 규산염의 농도가 1 내지 15 g/l 인 단계;● (b) 80 내지 100 ℃ 의 온도에서 산성화제를 첨가하여, 매질의 pH 가 7 내지 8 의 값에 이르게 하는 단계;● (c) 이로써 생성된 매질 중에, 80 내지 100 ℃ 의 온도에서 규산염 및 산성화제의 동시 첨가를 수행하는 단계로서, 시간에 따라 첨가된 규산염 및 산성화제 각각의 양은, 첨가가 지속되는 동안 하기를 유지하도록 구체적으로 선택되는 단계:- 반응 매질의 pH 는 7 내지 8 로 유지되고;- SiO2 당량으로 표현되는 매질 중 규소의 농도는 35 g/l 이하로 유지됨;● (d) 80 내지 100 ℃ 의 온도에서, 단계 (c) 의 결과로 수득된 매질에 산성화제를 첨가함으로써, 매질의 pH 가 3 내지 6.5 에 이르게 하는 단계;● (e) 수득된 수성 실리카 분산액을 여과하는 단계;● (f) 여과의 결과로 생성된 여과 케이크를 건조시키는 단계,단계 (f) 에서 건조시키기 전의 여과 케이크가, 1000 ℃ 에서 82 % 초과 88 % 이하의 강열감량 (loss on ignition) 을 나타내는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항 또는 제 3 항의 실리카의, 신발창에 대한, 탄성중합체(들) 기재 매트릭스에서의 강화 충전제로서의 사용 방법.
- 제 1 항 또는 제 3 항의 실리카의, 실리콘(들) 기재 매트릭스에서의 강화 충전제로서의 사용 방법.
- 제 1 항 또는 제 3 항의 실리카의, 액체용 담체로서의 사용 방법.
- 제 1 항 또는 제 3 항의 실리카의, 페이스트, 겔, 고체 또는 액체 유기 또는 수성 매트릭스에서의 증점 충전제, 담체, 부형제 또는 이들의 조합으로서의 사용 방법.
- 제 12 항에 있어서, 페이스트 또는 겔형 치분 조성물에서의 증점 충전제로서의 사용 방법.
- 제 1 항 또는 제 3 항의 실리카의, 배터리 격리막 제조에서의 사용 방법.
- 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 145 내지 185 ㎡/g 의 CTAB 비표면을 나타내는 것을 특징으로 하는 실리카.
- 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 4 % 이상 5.8 % 이하의 수분 흡수율을 나타내는 것을 특징으로 하는 실리카.
- 하기를 나타내는 침전 실리카:● 140 내지 230 ㎡/g 의 CTAB 비표면,● 300 ml/100 g 초과 450 ml/100 g 이하의 DOP 오일 흡수량,● 6 % 미만 3 % 초과의 수분 흡수율,● 3.5 내지 7.5 의 pH,● 2 % 이하의, 황산 나트륨으로 표현되는 잔류 음이온 수준,● 5 ㎛ 이상 30 ㎛ 미만의 중간 입자 직경.
- 하기를 나타내는 침전 실리카:● 140 내지 230 ㎡/g 의 CTAB 비표면,● 300 ml/100 g 초과 450 ml/100 g 이하의 DOP 오일 흡수량,● 6 % 미만 3 % 초과의 수분 흡수율,● 3.5 내지 7.5 의 pH,● 2 % 이하의, 황산 나트륨으로 표현되는 잔류 음이온 수준,● 30 ㎛ 내지 20 mm 의 중간 입자 직경.
- 제 17 항 또는 제 18 항에 있어서, 초음파 하에서의 탈응집 후에, 35 ㎛ 이하의 중간 입자 직경을 나타내는 것을 특징으로 하는 실리카.
- 제 17 항 또는 제 18 항에 있어서, BET-CTAB 차이가 30 ㎡/g 이하이도록 하는 BET 비표면을 나타내는 것을 특징으로 하는 실리카.
- 제 17 항 또는 제 18 항에 있어서, 0.04 내지 0.3 g/ml 의 충전 밀도를 나타내는 것을 특징으로 하는 실리카.
- 제 17 항 또는 제 18 항에 있어서, 분말의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 실리카.
- 하기 단계를 포함하는, 제 17 항 또는 제 18 항의 실리카의 제조 방법으로서:● (a) 물 및 규산염을 포함한, 80 내지 100 ℃ 의 온도인 시초 용기 하층물을 제조하는 단계로서, SiO2 당량으로 표현되는 상기 용기 하층물 내 규산염의 농도가 1 내지 15 g/l 인 단계;● (b) 80 내지 100 ℃ 의 온도에서 산성화제를 첨가하여, 매질의 pH 가 7 내지 8 의 값에 이르게 하는 단계;● (c) 이로써 생성된 매질 중에, 80 내지 100 ℃ 의 온도에서 규산염 및 산성화제의 동시 첨가를 수행하는 단계로서, 시간에 따라 첨가된 규산염 및 산성화제 각각의 양은, 첨가가 지속되는 동안 하기를 유지하도록 구체적으로 선택되는 단계:- 반응 매질의 pH 는 7 내지 8 로 유지되고;- SiO2 당량으로 표현되는 매질 중 규소의 농도는 35 g/l 이하로 유지됨;● (d) 80 내지 100 ℃ 의 온도에서, 단계 (c) 의 결과로 수득된 매질에 산성화제를 첨가함으로써, 매질의 pH 가 3 내지 6.5 에 이르게 하는 단계;● (e) 수득된 수성 실리카 분산액을 여과하는 단계;● (f) 여과의 결과로 생성된 여과 케이크를 건조시키는 단계,단계 (f) 에서 건조시키기 전의 여과 케이크가, 1000 ℃ 에서 82 % 초과 88 % 이하의 강열감량 (loss on ignition) 을 나타내는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 17 항 또는 제 18 항의 실리카의, 신발창에 대한, 탄성중합체(들) 기재 매트릭스에서의 강화 충전제로서의 사용 방법.
- 제 17 항 또는 제 18 항의 실리카의, 실리콘(들) 기재 매트릭스에서의 강화 충전제로서의 사용 방법.
- 제 17 항 또는 제 18 항의 실리카의, 액체용 담체로서의 사용 방법.
- 제 17 항 또는 제 18 항의 실리카의, 페이스트, 겔, 고체 또는 액체 유기 또는 수성 매트릭스에서의 증점 충전제, 담체, 부형제 또는 이들의 조합으로서의 사용 방법.
- 제 27 항에 있어서, 페이스트 또는 겔형 치분 조성물에서의 증점 충전제로서의 사용 방법.
- 제 17 항 또는 제 18 항의 실리카의, 배터리 격리막 제조에서의 사용 방법.
- 제 17 항 또는 제 18 항에 있어서, 145 내지 185 ㎡/g 의 CTAB 비표면을 나타내는 것을 특징으로 하는 실리카.
- 제 17 항 또는 제 18 항에 있어서, 4 % 이상 5.8 % 이하의 수분 흡수율을 나타내는 것을 특징으로 하는 실리카.
- 제 8 항의 방법으로 수득된 실리카의, 신발창에 대한, 탄성중합체(들) 기재 매트릭스에서의 강화 충전제로서의 사용 방법.
- 제 8 항의 방법으로 수득된 실리카의, 실리콘(들) 기재 매트릭스에서의 강화 충전제로서의 사용 방법.
- 제 8 항의 방법으로 수득된 실리카의, 액체용 담체로서의 사용 방법.
- 제 8 항의 방법으로 수득된 실리카의, 페이스트, 겔, 고체 또는 액체 유기 또는 수성 매트릭스에서의 증점 충전제, 담체, 부형제 또는 이들의 조합으로서의 사용 방법.
- 제 35 항에 있어서, 페이스트 또는 겔형 치분 조성물에서의 증점 충전제로서의 사용 방법.
- 제 8 항의 방법으로 수득된 실리카의, 배터리 격리막 제조에서의 사용 방법.
- 제 23 항의 방법으로 수득된 실리카의, 신발창에 대한, 탄성중합체(들) 기재 매트릭스에서의 강화 충전제로서의 사용 방법.
- 제 23 항의 방법으로 수득된 실리카의, 실리콘(들) 기재 매트릭스에서의 강화 충전제로서의 사용 방법.
- 제 23 항의 방법으로 수득된 실리카의, 액체용 담체로서의 사용 방법.
- 제 23 항의 방법으로 수득된 실리카의, 페이스트, 겔, 고체 또는 액체 유기 또는 수성 매트릭스에서의 증점 충전제, 담체, 부형제 또는 이들의 조합으로서의 사용 방법.
- 제 41 항에 있어서, 페이스트 또는 겔형 치분 조성물에서의 증점 충전제로서의 사용 방법.
- 제 23 항의 방법으로 수득된 실리카의, 배터리 격리막 제조에서의 사용 방법.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0315063A FR2864063B1 (fr) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | Silice de haute structure a faible reprise en eau |
FR0315063 | 2003-12-19 | ||
FR0403700 | 2004-04-08 | ||
FR0403700A FR2868766B1 (fr) | 2003-12-19 | 2004-04-08 | Silice de haute structure a faible reprise en eau, procede de preparation et utilisations |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060109945A KR20060109945A (ko) | 2006-10-23 |
KR100808037B1 true KR100808037B1 (ko) | 2008-03-03 |
Family
ID=34712668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020067012091A KR100808037B1 (ko) | 2003-12-19 | 2004-12-20 | 수분 흡수율이 낮은 고도로 구조화된 실리카, 이의 제조방법 및 용도 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7799304B2 (ko) |
EP (1) | EP1694601B1 (ko) |
JP (1) | JP4672672B2 (ko) |
KR (1) | KR100808037B1 (ko) |
CN (1) | CN100534902C (ko) |
BR (1) | BRPI0417782B1 (ko) |
CA (1) | CA2548902C (ko) |
ES (1) | ES2692830T3 (ko) |
FR (2) | FR2864063B1 (ko) |
MX (1) | MXPA06006866A (ko) |
PL (1) | PL1694601T3 (ko) |
TR (1) | TR201815944T4 (ko) |
WO (1) | WO2005061384A2 (ko) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060178289A1 (en) * | 2004-07-20 | 2006-08-10 | Enrique Hernandez | Multifunctional material compositions and methods |
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DE102007052269A1 (de) | 2007-11-02 | 2009-05-07 | Evonik Degussa Gmbh | Fällungskieselsäuren für lagerstabile RTV-1 Siliconkautschukformulierungen ohne Stabilisator |
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2003
- 2003-12-19 FR FR0315063A patent/FR2864063B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-04-08 FR FR0403700A patent/FR2868766B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-20 KR KR1020067012091A patent/KR100808037B1/ko active IP Right Grant
- 2004-12-20 MX MXPA06006866A patent/MXPA06006866A/es active IP Right Grant
- 2004-12-20 US US10/583,417 patent/US7799304B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-20 EP EP04816446.1A patent/EP1694601B1/fr active Active
- 2004-12-20 PL PL04816446T patent/PL1694601T3/pl unknown
- 2004-12-20 JP JP2006544508A patent/JP4672672B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-20 ES ES04816446.1T patent/ES2692830T3/es active Active
- 2004-12-20 TR TR2018/15944T patent/TR201815944T4/tr unknown
- 2004-12-20 CN CNB2004800402292A patent/CN100534902C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-20 CA CA2548902A patent/CA2548902C/fr not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-20 WO PCT/FR2004/003313 patent/WO2005061384A2/fr active Application Filing
- 2004-12-20 BR BRPI0417782-7A patent/BRPI0417782B1/pt not_active IP Right Cessation
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---|---|---|---|---|
EP0407262A1 (fr) * | 1989-07-03 | 1991-01-09 | Rhone-Poulenc Chimie | Silice à porosité controlée et son procédé d'obtention |
WO1995009128A1 (fr) * | 1993-09-29 | 1995-04-06 | Rhone-Poulenc Chimie | Silices precipitees |
WO1995009127A1 (fr) * | 1993-09-29 | 1995-04-06 | Rhone-Poulenc Chimie | Silice precipitee |
WO2003055801A1 (fr) * | 2001-12-26 | 2003-07-10 | Rhodia Chimie | Silices a faible reprise en eau |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PL1694601T3 (pl) | 2019-03-29 |
TR201815944T4 (tr) | 2018-11-21 |
KR20060109945A (ko) | 2006-10-23 |
FR2864063B1 (fr) | 2006-04-07 |
FR2864063A1 (fr) | 2005-06-24 |
BRPI0417782A (pt) | 2007-03-20 |
WO2005061384A3 (fr) | 2006-05-04 |
US20080019898A1 (en) | 2008-01-24 |
CN100534902C (zh) | 2009-09-02 |
BRPI0417782B1 (pt) | 2014-12-09 |
CN1902131A (zh) | 2007-01-24 |
FR2868766B1 (fr) | 2006-06-02 |
JP4672672B2 (ja) | 2011-04-20 |
FR2868766A1 (fr) | 2005-10-14 |
EP1694601B1 (fr) | 2018-08-01 |
ES2692830T3 (es) | 2018-12-05 |
WO2005061384A2 (fr) | 2005-07-07 |
CA2548902A1 (fr) | 2005-07-07 |
CA2548902C (fr) | 2011-06-14 |
EP1694601A2 (fr) | 2006-08-30 |
JP2007519593A (ja) | 2007-07-19 |
MXPA06006866A (es) | 2006-08-23 |
US7799304B2 (en) | 2010-09-21 |
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