JPH04350601A - エタロンの光学素子とその製造方法 - Google Patents
エタロンの光学素子とその製造方法Info
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- JPH04350601A JPH04350601A JP12418091A JP12418091A JPH04350601A JP H04350601 A JPH04350601 A JP H04350601A JP 12418091 A JP12418091 A JP 12418091A JP 12418091 A JP12418091 A JP 12418091A JP H04350601 A JPH04350601 A JP H04350601A
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Landscapes
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はエキシマレーザーなど
で光の波長を測定するのに用いられるエタロンの光学素
子とその製造方法に関する。
で光の波長を測定するのに用いられるエタロンの光学素
子とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は例えば、特開平２−９７９０１
号公報に開示された従来の光学素子の断面構造を示す概
念図である。図において、１は合成石英ガラスからなる
平行平面のプレートでディスク状をなす。２は上記プレ
ートの片面に被着した誘電体薄膜３は酸化シリコンと酸
化アルミニウムとの交互多層膜で高い反射率を有する。 ４は空気に触れる誘導体薄膜である。
号公報に開示された従来の光学素子の断面構造を示す概
念図である。図において、１は合成石英ガラスからなる
平行平面のプレートでディスク状をなす。２は上記プレ
ートの片面に被着した誘電体薄膜３は酸化シリコンと酸
化アルミニウムとの交互多層膜で高い反射率を有する。 ４は空気に触れる誘導体薄膜である。
【０００３】エタロンの光学素子は以上のように構成さ
れているが、交互多層膜３の側面の層間から空気中の水
分が侵入して交互多層膜３の屈折率が増加し経時と共に
光学的特性が変化する。光学的特性の多少の変化は普通
あまり問題にならないが、紫外領域のレーザー光に長時
間さらされると光学的特性の僅かな変化がエタロンの寿
命を著しく短縮することになる。
れているが、交互多層膜３の側面の層間から空気中の水
分が侵入して交互多層膜３の屈折率が増加し経時と共に
光学的特性が変化する。光学的特性の多少の変化は普通
あまり問題にならないが、紫外領域のレーザー光に長時
間さらされると光学的特性の僅かな変化がエタロンの寿
命を著しく短縮することになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の光学素子は以上
のように構成されているので、交互多層膜３の側面の層
間から水分の侵入するのを防ぐには水分の極めて少ない
周囲環境に置かねばならず、エタロンをエキシマレーザ
ーなどに装着する際はその収納容器を真空にして加熱す
るなどの前処理を必要とし、またエタロンを取り外して
保存する際も真空容器に入れなければならないなど取扱
が煩雑であると言う技術的課題があった。
のように構成されているので、交互多層膜３の側面の層
間から水分の侵入するのを防ぐには水分の極めて少ない
周囲環境に置かねばならず、エタロンをエキシマレーザ
ーなどに装着する際はその収納容器を真空にして加熱す
るなどの前処理を必要とし、またエタロンを取り外して
保存する際も真空容器に入れなければならないなど取扱
が煩雑であると言う技術的課題があった。
【０００５】この発明はかかる課題を解決するためにな
されたものであり、室内など通常の周囲環境に置いても
交互多層膜の側面の層間から空気中の水分が侵入するこ
とがなく、取扱の容易なエタロンの光学素子を得ること
を目的としており、さらにこの光学素子を容易に製造す
ることのできる製造方法を提供することを目的とする。
されたものであり、室内など通常の周囲環境に置いても
交互多層膜の側面の層間から空気中の水分が侵入するこ
とがなく、取扱の容易なエタロンの光学素子を得ること
を目的としており、さらにこの光学素子を容易に製造す
ることのできる製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係るエタロン
の光学素子は平行平面の透明なプレートの片面に反射率
の高い交互多層膜を被着形成したものにおいて、交互多
層膜の側面に水分の侵入を防ぐ保護膜を被着形成したも
のである。
の光学素子は平行平面の透明なプレートの片面に反射率
の高い交互多層膜を被着形成したものにおいて、交互多
層膜の側面に水分の侵入を防ぐ保護膜を被着形成したも
のである。
【０００７】また、この発明の製造方法は平行平面の透
明なプレートの片面の所定位置に第一のマスクを装着し
、その上に反射率の高い所定厚さの交互多層膜を被着形
成する工程、交互多層膜の被着した第一のマスクを取り
外す工程、プレートの片面に被着形成した交互多層膜の
所定位置に第二のマスクを装着し、交互多層膜の側面に
水分の侵入を防ぐ保護膜を被着形成する工程、保護膜の
被着形成した第二のマスクを取り外す工程を備えたもの
である。
明なプレートの片面の所定位置に第一のマスクを装着し
、その上に反射率の高い所定厚さの交互多層膜を被着形
成する工程、交互多層膜の被着した第一のマスクを取り
外す工程、プレートの片面に被着形成した交互多層膜の
所定位置に第二のマスクを装着し、交互多層膜の側面に
水分の侵入を防ぐ保護膜を被着形成する工程、保護膜の
被着形成した第二のマスクを取り外す工程を備えたもの
である。
【０００８】さらに、上記と異なるこの発明の製造方法
は平行平面の透明なプレートの片面の所定位置にマスク
を装着し、その上に反射率の高い所定厚さの交互多層膜
を被着形成する工程、交互多層膜の被着したマスクを取
り外し、プレートに被着した交互多層膜をの側面に水分
の侵入を防ぐ保護膜を被着形成する工程、保護膜の上に
レジストマスクを塗布し、保護膜の除去すべき部分に対
応するレジストマスクの部分を露光、現像により除去す
る工程、保護膜の除去すべき部分を溶媒で除去する工程
、レジストマスクを溶剤で除去する工程を備えたもので
ある。
は平行平面の透明なプレートの片面の所定位置にマスク
を装着し、その上に反射率の高い所定厚さの交互多層膜
を被着形成する工程、交互多層膜の被着したマスクを取
り外し、プレートに被着した交互多層膜をの側面に水分
の侵入を防ぐ保護膜を被着形成する工程、保護膜の上に
レジストマスクを塗布し、保護膜の除去すべき部分に対
応するレジストマスクの部分を露光、現像により除去す
る工程、保護膜の除去すべき部分を溶媒で除去する工程
、レジストマスクを溶剤で除去する工程を備えたもので
ある。
【０００９】
【作用】この発明における保護膜は交互多層膜の側面に
水分の侵入するのを防ぐ。
水分の侵入するのを防ぐ。
【００１０】また、この発明の製造方法ではプレートの
片面に被着形成した交互多層膜の所定位置に第二のマス
クを装着し、交互多層膜の側面に水分の侵入を防ぐ保護
膜を被着形成する工程と保護膜の被着した第二のマスク
を取り外す工程により交互多層膜の側面に保護膜を被着
形成するので、製造が容易になる。
片面に被着形成した交互多層膜の所定位置に第二のマス
クを装着し、交互多層膜の側面に水分の侵入を防ぐ保護
膜を被着形成する工程と保護膜の被着した第二のマスク
を取り外す工程により交互多層膜の側面に保護膜を被着
形成するので、製造が容易になる。
【００１１】さらに、上記と異なるこの発明の製造方法
ではプレートに被着した交互多層膜の側面に水分の侵入
を防ぐ保護膜を被着形成する工程と保護膜の上にレジス
トマスクを塗布し、保護膜の除去すべき部分に対応する
レジストマスクの部分を露光、現像により除去する工程
と保護膜の除去すべき部分を溶媒で除去する工程により
交互多層膜の側面に保護膜を被着形成するので、上記と
同様に製造が容易となる。
ではプレートに被着した交互多層膜の側面に水分の侵入
を防ぐ保護膜を被着形成する工程と保護膜の上にレジス
トマスクを塗布し、保護膜の除去すべき部分に対応する
レジストマスクの部分を露光、現像により除去する工程
と保護膜の除去すべき部分を溶媒で除去する工程により
交互多層膜の側面に保護膜を被着形成するので、上記と
同様に製造が容易となる。
【００１２】
実施例１．以下この発明の一実施例を図について説明す
る。図１１はこの発明の一実施例の光学素子からなるエ
タロンの断面構造を示す概念図であり、図において１、
３ は上記従来の光学素子におけるものと同じである。 ６は交互多層膜の側面を保護する保護膜、７は上記プレ
ート１と同じ合成石英ガラスからなる直径６ｍｍ 、厚
さ０．５ｍｍのスペーサであり、ディスク状の上記プレ
ート１の周辺部３ケ所に等間隔で設け、対向する２枚の
上記プレート１をオプティカルコンタクトにより接合す
る。８は上記プレート１の外側の平面に被着形成した反
射防止膜であり、上記プレート１側より酸化シリコン、
弗化マグネシウムからなる二層構造になっている。
る。図１１はこの発明の一実施例の光学素子からなるエ
タロンの断面構造を示す概念図であり、図において１、
３ は上記従来の光学素子におけるものと同じである。 ６は交互多層膜の側面を保護する保護膜、７は上記プレ
ート１と同じ合成石英ガラスからなる直径６ｍｍ 、厚
さ０．５ｍｍのスペーサであり、ディスク状の上記プレ
ート１の周辺部３ケ所に等間隔で設け、対向する２枚の
上記プレート１をオプティカルコンタクトにより接合す
る。８は上記プレート１の外側の平面に被着形成した反
射防止膜であり、上記プレート１側より酸化シリコン、
弗化マグネシウムからなる二層構造になっている。
【００１３】合成石英ガラスからなるディスク状のプレ
ート１の片面に酸化シリコンと酸化アルミニウムからな
る反射率の高い交互多層膜３を被着形成し、その側面に
水分の侵入を防ぐ保護膜６を被着形成する。保護膜６は
クロム、アルミニウム、銅などの金属からなるものでも
よくまた酸化シリコン、酸化アルミニウムなどの誘電体
からなるものでよいが、金属の場合、クロムがプレート
１や交互多層膜３の空気側最外層の成分である酸化シリ
コンとの密着性がよい。、また、誘電体の場合、交互多
層膜６の材料と同じであることが望ましい。以上のよう
に構成された２個の光学素子の交互多層膜３を互いに対
向させ、スペーサクを介してオプティカルコンタクトに
よりプレート１を互いに接合しエタロンとする。このエ
タロンは交互多層膜３の側面に保護膜６を被着形成して
いるので、その側面から水分が侵入することはなく取扱
が容易である。
ート１の片面に酸化シリコンと酸化アルミニウムからな
る反射率の高い交互多層膜３を被着形成し、その側面に
水分の侵入を防ぐ保護膜６を被着形成する。保護膜６は
クロム、アルミニウム、銅などの金属からなるものでも
よくまた酸化シリコン、酸化アルミニウムなどの誘電体
からなるものでよいが、金属の場合、クロムがプレート
１や交互多層膜３の空気側最外層の成分である酸化シリ
コンとの密着性がよい。、また、誘電体の場合、交互多
層膜６の材料と同じであることが望ましい。以上のよう
に構成された２個の光学素子の交互多層膜３を互いに対
向させ、スペーサクを介してオプティカルコンタクトに
よりプレート１を互いに接合しエタロンとする。このエ
タロンは交互多層膜３の側面に保護膜６を被着形成して
いるので、その側面から水分が侵入することはなく取扱
が容易である。
【００１４】実施例２．図２（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、
（Ｄ）は上記エタロンの光学素子の製造方法を示す工程
図であり、この製造工程は （イ）第１工程（図２（Ａ） 参照）：プレート１の片
面の所定位置に燐青銅あるいはステンレス鋼からなる厚
さ０．１ 〜０．５ｍｍ の第一のマスク１１を装着す
る。その上に真空蒸着法、イオンプレーティング法など
のいずれかにより厚さ０．１ 〜１ｕｍの交互多層膜３
を被着形成する。 （ロ）第２工程（図２（Ｂ） 参照）：交互多層膜３の
被着した第一のマスク１１を取り外す。 （ハ）第３工程（図２（Ｃ） 参照）：交互多層膜３の
所定位置に第二のマスク１２を装着し、その上に例えば
、クロムなどの金属あるいは酸化シリコンなどの誘電体
からなる保護膜６を被着形成する。 （ニ）第４工程（図２（Ｄ） 参照）：保護膜６の被着
した第二のマスク１２を取り外す。ことからなる。以上
の工程により交互多層膜３の側面に水分の侵入を防ぐ保
護膜６を被着形成した光学素子が得られる。
（Ｄ）は上記エタロンの光学素子の製造方法を示す工程
図であり、この製造工程は （イ）第１工程（図２（Ａ） 参照）：プレート１の片
面の所定位置に燐青銅あるいはステンレス鋼からなる厚
さ０．１ 〜０．５ｍｍ の第一のマスク１１を装着す
る。その上に真空蒸着法、イオンプレーティング法など
のいずれかにより厚さ０．１ 〜１ｕｍの交互多層膜３
を被着形成する。 （ロ）第２工程（図２（Ｂ） 参照）：交互多層膜３の
被着した第一のマスク１１を取り外す。 （ハ）第３工程（図２（Ｃ） 参照）：交互多層膜３の
所定位置に第二のマスク１２を装着し、その上に例えば
、クロムなどの金属あるいは酸化シリコンなどの誘電体
からなる保護膜６を被着形成する。 （ニ）第４工程（図２（Ｄ） 参照）：保護膜６の被着
した第二のマスク１２を取り外す。ことからなる。以上
の工程により交互多層膜３の側面に水分の侵入を防ぐ保
護膜６を被着形成した光学素子が得られる。
【００１５】実施例３．図３（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、
（Ｄ）、（Ｅ） は上記実施例２と異なる光学素子の製
造方法を示す工程図であり、この製造工程は （イ）第１工程（図３（Ａ） 参照）：プレート１の片
面の所定位置に燐青銅あるいはステンレス鋼からなるマ
スク１１を装着し、その上に真空蒸着法、イオンプレー
ティング法などのいずれかにより所定厚さの交互多層膜
を被着形成する。 （ロ）第２工程（図３（Ｂ） 参照）：交互多層膜３の
被着したマスク１１を取り外してその上にアルミニウム
からなる保護膜６を被着形成する。 （ハ）第３工程（図３（Ｃ） 参照）：保護膜６の上に
レジストマスク１３を塗布し、保護膜６の除去すべき部
分に対応するレジストマスク１３の部分を露光現像によ
り除去する。 （ニ）第４工程（図３（Ｄ） 参照）：保護膜６の除去
すべき部分を溶媒で除去する。保護膜６はアルミニウム
からなっているので、溶媒として１〜１０％の水酸化ナ
トリウム水溶液を用いる。 （ホ）第５工程（図３（Ｅ） 参照）：レジストマスク
１３を例えば、アセトンなどの有機溶剤で除去する。こ
とからなる。この実施例によっても交互多層膜３の側面
に水分の侵入を防ぐ保護膜６を被着形成した光学素子が
得られ、同様に所期の目的を達成することができる。
（Ｄ）、（Ｅ） は上記実施例２と異なる光学素子の製
造方法を示す工程図であり、この製造工程は （イ）第１工程（図３（Ａ） 参照）：プレート１の片
面の所定位置に燐青銅あるいはステンレス鋼からなるマ
スク１１を装着し、その上に真空蒸着法、イオンプレー
ティング法などのいずれかにより所定厚さの交互多層膜
を被着形成する。 （ロ）第２工程（図３（Ｂ） 参照）：交互多層膜３の
被着したマスク１１を取り外してその上にアルミニウム
からなる保護膜６を被着形成する。 （ハ）第３工程（図３（Ｃ） 参照）：保護膜６の上に
レジストマスク１３を塗布し、保護膜６の除去すべき部
分に対応するレジストマスク１３の部分を露光現像によ
り除去する。 （ニ）第４工程（図３（Ｄ） 参照）：保護膜６の除去
すべき部分を溶媒で除去する。保護膜６はアルミニウム
からなっているので、溶媒として１〜１０％の水酸化ナ
トリウム水溶液を用いる。 （ホ）第５工程（図３（Ｅ） 参照）：レジストマスク
１３を例えば、アセトンなどの有機溶剤で除去する。こ
とからなる。この実施例によっても交互多層膜３の側面
に水分の侵入を防ぐ保護膜６を被着形成した光学素子が
得られ、同様に所期の目的を達成することができる。
【００１６】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
ているので、室内など通常の周囲環境においても交互多
層膜の側面の層間から空気中の水分が侵入することがな
いと云う効果がある。
ているので、室内など通常の周囲環境においても交互多
層膜の側面の層間から空気中の水分が侵入することがな
いと云う効果がある。
【００１７】また、この発明の２つの製造方法によれば
、いずれも、平行平面の透明なプレートの片面に交互多
層膜を被着形成し、この交互多層膜の側面に水分の侵入
を防ぐ保護膜を被着形成するのが容易になると云う効果
がある。
、いずれも、平行平面の透明なプレートの片面に交互多
層膜を被着形成し、この交互多層膜の側面に水分の侵入
を防ぐ保護膜を被着形成するのが容易になると云う効果
がある。
【図１】この発明の実施例１を示す概念図である。
【図２】この発明の実施例２を示す工程図である。
【図３】この発明の実施例３を示す工程図である。
【図４】従来の光学素子を示す概念図である。
１ プレート
３ 交互多層膜
６ 保護膜
１１ 第一のマスク
１２ 第二のマスク
１３ レジストマスク
Claims (3)
- 【請求項１】 平行平面の透明なプレートの片面に反
射率の高い交互多層膜を被着形成したものにおいて、上
記交互多層膜の側面に水分の侵入を防ぐ保護膜を被着形
成したことを特徴とするエタロンの光学素子。 - 【請求項２】 平行平面の透明なプレートの片面の所
定位置に第一のマスクを装着し、その上に反射率の高い
所定厚さの交互多層膜を被着形成する工程、上記交互多
層膜の被着した上記第一のマスクを取り外す工程、上記
プレートの片面に被着形成した上記交互多層膜の所定位
置に第二のマスクを装着し、上記交互多層膜の側面に水
分の侵入を防ぐ保護膜を被着形成する工程、上記保護膜
の被着した上記第二のマスクを取り外す工程を備えたこ
とを特徴とする請求項第１項記載のエタロンの光学素子
の製造方法。 - 【請求項３】 平行平面の透明なプレートの片面の所
定位置にマスクを装着し、その上に反射率の高い所定厚
さの交互多層膜を被着形成す工程、上記交互多層膜の被
着した上記、マスクを取り外し、上記プレートに被着し
た上記交互多層膜の側面に水分の侵入を防ぐ保護膜を被
着形成する工程、上記保護膜の上にレジストマスクを塗
布し、保護膜の除去すべき部分に対応する上記レジスト
マスクの部分を露光、現像により除去する工程、上記保
護膜の除去すべき部分を溶媒で除去する工程、レジスト
マスクを溶剤で除去する工程を備えたことを特徴とする
請求項第１項記載のエタロンの光学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12418091A JPH04350601A (ja) | 1991-05-29 | 1991-05-29 | エタロンの光学素子とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12418091A JPH04350601A (ja) | 1991-05-29 | 1991-05-29 | エタロンの光学素子とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04350601A true JPH04350601A (ja) | 1992-12-04 |
Family
ID=14878959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12418091A Pending JPH04350601A (ja) | 1991-05-29 | 1991-05-29 | エタロンの光学素子とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04350601A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7508567B1 (en) | 2008-01-08 | 2009-03-24 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Metal etalon with enhancing stack |
| WO2013027400A1 (ja) * | 2011-08-25 | 2013-02-28 | 株式会社ニコン | 空間光変調素子の製造方法、空間光変調素子、空間光変調器および露光装置 |
-
1991
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