JPH04337740A - 静電荷潜像現像用磁性現像剤 - Google Patents
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- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
静電印刷、磁気記録の如き画像形成方法に於ける潜像を
現像するための現像剤に関する。
297,691号明細書等が知られている。一般には光
導電性物質を利用し、種々の手段により感光体上に電気
的潜像を形成し、次いで該潜像を現像剤を用いて現像し
、必要に応じて紙の如き転写材にトナー画像または現像
剤画像を転写した後、加熱、圧力、熱圧あるいは溶剤蒸
気により定着し、複写物を得るものである。トナー画像
を転写する工程を有する場合には、通常、感光体上の残
余のトナーまたは現像剤を除去するためのクリーニング
工程が設けられる。
法は、例えば米国特許第2,874,063号明細書に
記載されている磁気ブラシ法、同2,618,552号
明細書に記載されているカスケード現像法及び同2,2
21,776号明細書に記載されているパウダークラウ
ド法、同3,909,258号明細書に記載されている
導電性の磁性トナーを用いる方法、特公昭41−947
5号公報に記載されている絶縁性の磁性トナーを用いる
方法が知られている。
、従来、天然あるいは合成樹脂中に染料又は/及び顔料
を分散させた微粉末が使用されている。例えば、ポリス
チレンの如き結着樹脂中に着色剤を分散させたものを1
〜30μ程度に微粉砕した粒子がトナーまたは現像剤と
して用いられている。磁性現像剤としてはマグネタイト
またはフェライトの如き磁性体粒子を含有せしめたもの
が用いられている。二成分現像剤を用いる方式の場合に
は、現像剤は通常ガラスビーズ、鉄粉、フェライト粒子
の如きキャリアー粒子と混合されて用いられる。
現像剤を以下トナーと称す。)に充分なトリボ電荷を与
え、かつ転写効率を高めるために、乾式法あるいは湿式
法で製造したケイ酸微粉体を、乾式混合によってトナー
粒子表面に付与することが知られている。しかし、シリ
カ微粉体自体は親水性である為に、現像剤の環境特性を
悪化させ、特に高温高湿度下に於いて著しい画像濃度の
低下を来す。従ってこの問題点を克服する為に、シリカ
微粉体の表面処理による疎水化が提案されている。例え
ば特公昭54−16219号公報,特開昭55−120
041号公報,特開昭58−186751号公報がある
。これらに於いて、種々のカップリング剤で、ケイ酸微
粉体を表面処理し、得られた疎水性ケイ酸微粉体を含有
した現像剤が提案されている。更にシリカ微粉体の一層
の疎水化と帯電性の制御を目的として、特開昭58−6
0754号公報、特開昭59−201063号公報に於
いて、種々のシリコーンオイルまたは、変性シリコーン
オイルを用いて表面処理を行なったシリカ微粉体を添加
した現像剤が提案されている。
カ微粉体を、従来の一般的な乾式混合機にて、トナー粒
子表面に付与した現像剤を用いて、長期の画出し耐久を
行った場合、シリカ表面の疎水化度が高いために、チャ
ージアップ(過剰のトリボ付与)をおこし、画像濃度低
下や画像ガサツキを生じるという問題がある。
おいて、疎水性シリカとシリコンオイル処理された親水
性シリカの2種のシリカを用いた現像剤が提案されてい
る。
たシリカを用いると処理の時に帯電性の低いダマ(シリ
カの凝集物)が多くできる。この帯電性の低いダマが現
像剤化した時に、飛散し帯電ワイヤーを汚染し、画像濃
度ムラを起こすという問題がある。
疎水性無機酸化物の帯電量とBETを規定し、さらに親
水性無機化合物の帯電量とBETを規定し、2つの物質
の含有比を規定した現像剤が提案されている。
性・帯電性は良好なものの凝集物が多くできる。これが
飛散し帯電ワイヤーを汚染するという問題がある。
のごとく、高湿環境においても画像濃度が安定し、低湿
環境においてもガサツキがなく安定した画像濃度を得る
ことができる環境安定性の高い静電荷潜像現像用現像剤
を提供するものである。
電荷潜像現像用現像剤を提供するものである。
カ微粉体を乾式混合によって現像剤の表面近傍に含有す
る現像剤において、 (a)窒素吸着BET比表面積が180m2/g以上で
あり、疎水化率が90%以上であり、かつカサ密度が3
5g/l〜55g/l以下である表面処理シリカ微粉体
(b)窒素吸着BET比表面積が150m2/g以下で
あり、カサ密度が55g/l以下である親水性シリカ微
粉体 の(a),(b)2種類のシリカ微粉体を含有し、表面
処理シリカ(a)と親水性シリカ(b)の比が80/2
0〜95/5の範囲であることを特徴とする静電荷潜像
現像用現像剤に関する。
においても高い画像濃度を維持し、低湿環境においても
チャージアップせず、ガサツキのない安定した画質で高
い画像濃度を維持することが可能である。
が得られる理由は必ずしも明確でないが以下のように推
定される。
)としては、BET比表面積が180m2/g以上、疎
水化率が90%以上であり、カサ密度が35g/l〜5
5g/lであることが一つの特徴である。
、流動性が悪化し、トナー化した時現像器への取り込み
が悪くなる。また、疎水化率が90%未満では、高湿下
の現像特性が低下し、画像濃度の低下をおこす。特に、
疎水化率が95%以上のときに特に優れた結果が得られ
る。さらに、カサ密度が35g/l未満では、全体とし
ての流動性は良好になるが飛散しやすくなり、機内飛散
やワイヤー汚れの原因となる。また、カサ密度が55g
/lを超える場合では、シリカ表面処理時のダマが多く
流動性は低下し、低帯電のダマはワイヤー汚れの原因と
なる。また感光体ドラム融着を起こしやすくなる。
体(b)は、BET比表面積が150m2/g以下であ
り、カサ密度が55g/l以下であることを一つの特徴
としている。
50m2/g以下であるとき、シリカ微粉体表面でトナ
ーと接触する面に多くのOH基等の電荷のリークサイト
を持っており、過剰な帯電を緩和する。また、BETが
150m2/g以上のとき、シリカ微粉体の表面積は増
加するが、複雑な形状のためリークサイトは内部表面に
増加し、トナーに接触するような面のリークサイトはか
えって減少するため過剰の帯電を緩和する効果は小さい
。また、カサ密度が55g/l以下のとき良好な流動性
を示す。55g/lを超える場合ではドラム融着等を起
こしやすくなる。
(a)微粉体と親水性シリカ微粉体(b)の2種のシリ
カを含有し、その比が80/20〜95/5の範囲であ
ることが一つの特徴である。
環境で過剰の帯電から画像のガサツキ、トビチリ、濃度
薄を起こす。親水性シリカ微粉体のみを用いると高湿環
境で現像剤が吸湿し帯電性が低下し、画像濃度が低下す
る。さらに、表面処理シリカ微粉体と親水性シリカ微粉
体の比率が重要であり80/20(表面処理シリカ微粉
体/親水性シリカ微粉体)より親水性シリカ微粉体の比
を増したとき、高湿環境で帯電が低下し、現像性が低下
する。95/5より親水性のシリカ微粉体の比を減じた
とき、低湿での過剰な帯電からガサツキ、トビチリとい
った画質の悪化や画像濃度の低下を起こす。
境で流動性、帯電安定性、現像性に優れ高い画像濃度を
維持することができる。
は、種々の方法によって測定できるが、本発明において
は、可視分光透過法によって行った。
ブルビーム分光光度計UV−210型(島津製作所)を
用いた。まず、200mlの分液ロート(TOPS.R
.G 200)に試料1.0gを電子上皿天秤(ザル
トリウス1404MP−8)で秤量し、イオン交換水1
00mlをメスシリンダー(柴田科学器機工業)にて計
量し、分液ロートに加える。次にターブラーシェーカー
ミキサーT2C型(シンマルエンタープライゼス)に分
液ロートをセットし、90rpmで10分間分散を行な
う。そして、分液ロートをターブラーシェーカーミキサ
ーT2C型から取外し、10分間静置する。静置後、2
0〜30ml抜き出した後、10mmセル(比色計用)
に分取する。イオン交換水をブランクにして比色計で波
長500nmにて透過率を読みとる。この時の読みを疎
水化度とする。
にして求められる値である。内径2.52cm、高さ5
.00cmの容量100cm3の円筒容器を水平面上に
静置し、容器の開口部の約3cm上方から静かに試料を
落して容器内に充填させ、開口部の水平面より高く盛り
上がった過剰分を除去し、容器内の試料重量値から、該
嵩密度を算出した値である。
は、正帯電性シリカ微粉体及び負帯電性シリカ微粉体の
いずれも使用できる。
るいは湿式法で製造したシリカ微粉体を正帯電性を示す
様に表面処理したものが使用できる。負帯電性シリカ微
粉体としては、乾式あるいは湿式法で製造したシリカ微
粉体を、負帯電性を示すように表面処理したものが使用
できる。
合物の蒸気相酸化により生成するシリカ微粉体の製造方
法である。例えば四塩化ケイ素ガスの酸素水素中におけ
る熱分解酸化反応を利用する方法で、基礎となる反応式
は次の様なものである。
HClこの製造工程において例えば、塩化アルミニウム
又は、塩化チタンの如き他の金属ハロゲン化合物をケイ
素ハロゲン化合物と共に用いる事によってシリカと他の
金属酸化物の複合微粉体を得る事も可能であり、それら
も包含する。
の蒸気相酸化により生成された市販のシリカ微粉体とし
ては、例えば、以下の様な商品名で市販されているもの
がある。
130 (日本アエロジル社
) 200
300
380
OX50
TT600
MOX80
MOX17
0
COK
84 Ca−O−SiL(Ca−O−ジル)
M−5 (CABOTO(キャ
ボット)Co.社) MS−7
MS−75
HS−5
EH−5 Wacke
r HDK N 20
V−15 (WACKER−CHEMIE(ヴァッカ
ー ケミ)GMBH社)
N−20E
T−30
T−40 D−C Fin
e Silica(ファイン シリカ)
(ダウコーニング Co.社) F
ransol(フランゾル)(Fransil(フラン
ジル)社)本発明に用いられるシリカ微粉体を湿式法で
製造する方法は、種々の方法が適用できる。例えば、ケ
イ酸ナトリウムの酸による分解、一般反応式で下記に示
す。
SiO2・nH2O+NaClその他、ケイ酸ナトリウ
ムのアンモニア塩類またはアルカリ塩類による分解、ケ
イ酸ナトリウムよりアルカリ土類金属ケイ酸塩を生成せ
しめた後、酸で分解しケイ酸とする方法、ケイ酸ナトリ
ウム溶液をイオン交換樹脂によりケイ酸とする方法、天
然ケイ酸またはケイ酸塩を利用する方法がある。
しては、例えば、以下のような商品名で市販されている
ものがある。 カープレックス
塩野義製薬ニップシール
日本シリカトクシール,ファインシール
徳山曹達ビタシール
多木製肥シルトン,シルネック
ス 水沢化学スターシル
神島化学ヒメジー
ル 愛媛
薬品サイロイド
富士デビソン化学Hi−sil(ハイシール) Pittsburgh Plate
Glass.Co. (ピッツバーグ プ
レート グラス)Durosil(ドゥロシール) Ultorasil(ウルトラシール) F
iillstoff−Gesellschaft M
arquart (フユールストッフ ゲ
ゼールシャフトマルクオルト)Manosil(マノシ
ール) Hardman and Holde
n (ハードマン アンド ホールデン
)Hoesch(ヘッシュ) Chemische Fabrik
Hoesch K−G (ヒエミッシェ
ファブリーク ヘッシュ)Sil−Stone(シ
ル−ストーン) Stoner Rubb
er Co.(ストーナー ラバー)Nalco(
ナルコ) Nalco Chem.Co.(ナルコ
ケミカル)Quso(クソ) Philadelphia Quart
z Co.(フィラデルフィア クオーツ) Imsil(イムシル) Illinois Minerals
Co.(イリノイス ミネラル)Calcium
Silikat(カルシウム ジリカート)
Chemische Fabrik Hoe
sch.K−G (ヒエミッシェ ファブ
リーク ヘッシュ)Calsil(カルジル) Fiillstoff−Gesellsc
haft Marquart (フユール
ストッフ−ゲゼルシャフトマルクオルト)Fortaf
il(フォルタフィル) Imperial Chemical
Industries.Ltd. (イン
ペリアル ケミカル インダストリース)Micr
ocal(ミクロカル) Joseph Crosfiels
& Sons.Ltd. (ジョセフ
クロスフィールド アンド サンズ)Vulkas
il(ブルカジール) Farbenfabriken Bry
er.A.−G. (ファルベンファブリー
ケンバーヤー)Tufknit(タフニット) Durham Chemicals.
Ltd. (ドウルハム ケミカルズ)
シルモス 白石工業スターレッ
クス 神島化学 フリコシル 多木製肥正帯電性シリ
カ微粉体を得る具体的な方法としては、上述した未処理
のシリカ微粉体を、窒素含有のシランカップリング剤で
処理する方法、等がある。
で測定した時に、鉄粉キャリアーに対しプラスのトリボ
電荷を有するものをいう。
剤は、一般に下記式で示される構造を有する。
ノ基又は窒素原子を少なくとも1つ以上有するオルガノ
基を示し、mおよびnは1〜3の整数であってm+n=
4である。)窒素原子を少なくとも1つ以上有するオル
ガノ基としては、有機基を置換基として有するアミノ基
または含窒素複素環基または含窒素複素環基を有する基
が例示される。含窒素複素環基としては、不飽和複素環
基または飽和複素環基がある。不飽和複素環基としては
、例えば下記のものが例示される。
。
ると五員環または六員環のものが良い。含窒素シランカ
ップリング剤の好ましい使用量は、シリカ微粉体100
重量部に対して0.1〜100重量部である。
ピルトリメトキシシラン,アミノプロピルトリエトキシ
シラン,ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン,
ジエチルアミノプロピルトリメトキシシラン,ジプロピ
ルアミノプロピルトリメトキシシラン,ジブチルアミノ
プロピルトリメトキシシラン,モノブチルアミノプロピ
ルトリメトキシシラン,ジオクチルアミノプロピルトリ
メトキシシラン,ジブチルアミノプロピルジメチルメト
キシシラン,ジブチルアミノプロピルジエチルモノメト
キシシラン,ジメチルアミノフェニルトリエトキシシラ
ン,トリメトキシシリル−γ−プロピルフェニルアミン
,トリメトキシシリル−γ−プロピルベンジルアミンが
ある。さらに含有窒素複合素子環境としては、前述の構
造のものが使用でき、そのような化合物の例として、ト
リメトキシシリル−γ−プロピルピペリジン,トリメト
キシシリル−γ−プロピルモルホリン,トリメトキシシ
リル−γ−プロピルイミダゾール等がある。これら疎水
化処理剤の好ましい使用量はシリカ微粉体100重量部
に対して0.1〜100重量部である。
で測定した時に、鉄粉キャリアーに対しマイナスのトリ
ボ電荷を有するものをいう。
、シランカップリング剤,疎水化の目的で有機ケイ素化
合物,等で処理しても良く、シリカ微粉体と反応あるい
は物理吸着する上記処理剤で処理される。
メチルジシラザン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、トリメチルシラン、トリメチルク
ロルシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジク
ロルシラン、メチルトリクロルシラン、アリルジメチル
クロルシラン、アリルフェニルジクロルシラン、ベンジ
ルジメチルクロルシラン、ブロムメチルジメチルクロル
シラン、α−クロルエチルトリクロルシラン、β−クロ
ルエチルトリクロルシラン、クロルメチルジメチルクロ
ルシラン、トリオルガノシリルメルカプタン、トリメチ
ルシリルメルカプタン、トリオルガノシリルアクリレー
ト、ビニルメチルアセトキシシラン、ジメチルエトキシ
シラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジエト
キシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、1,3−ジビ
ニルテトラメチルジシロキサン、1,3−ジフェニルテ
トラメチルジシロキサン、および1分子当り2から12
個のシロキサン単位を有し、末端に位置する単位にそれ
ぞれ1個宛のSiに結合した水酸基を含有するジメチル
ポリシロキサンがある。これらの1種あるいは2種以上
の混合物が用いられる。
、未処理の状態のものか、あるいは、親水性を損なわな
い様表面処理したものが用いられる。
ては、オイル塗布する装置を有する加熱加圧ローラ定着
装置を使用する場合には、下記トナー用結着樹脂の使用
が可能である。
スチレン、ポリビニルトルエンなどのスチレン及びその
置換体の単重合体;スチレン−p−クロルスチレン共重
合体、スチレン−ビニルトルエン共重合体、スチレン−
ビニルナフタリン共重合体、スチレン−アクリル酸エス
テル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合
体、スチレン−α−クロルメタクリル酸メチル共重合体
、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ビ
ニルメチルエーテル共重合体、スチレン−ビニルエチル
エーテル共重合体、スチレン−ビニルメチルケトン共重
合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソ
プレン共重合体、スチレン−アクリロニトリル−インデ
ン共重合体の如きスチレン系共重合体;ポリ塩化ビニル
、フェノール樹脂、天然変性フェノール樹脂、天然樹脂
変性マレイン酸樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、
ポリ酢酸ビニール、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂
、ポリウレタン、ポリアミド樹脂、フラン樹脂、エポキ
シ樹脂、キシレン樹脂、ポリビニルブチラール、テルペ
ン樹脂、クマロンインデン樹脂、石油系樹脂が使用でき
る。
着方式においては、転写材の如き現像剤像支持体部材上
の現像剤像の一部が加熱ローラに転移するオフセット現
象、および現像剤像支持部材に対する現像剤の密着性が
重要な問題である。より少ない熱エネルギーで定着する
現像剤は、通常保存中もしくは現像器中でブロッキング
もしくはケーキングし易い性質があるので、同時にこれ
らの問題も考慮しなければならない。これらの現象には
現像剤中の結着樹脂の物性が最も大きく関与しているが
、本発明者らの研究によれば、現像剤中の磁性体の含有
量を減らすと、定着時に現像剤像支持部材に対する現像
剤の密着性は良くなるが、オフセットが起こり易くなり
、ブロッキングもしくはケーキングも生じ易くなる。 それゆえ、本発明においてオイルを殆ど塗布しない加熱
加圧ローラ定着方式を用いる時には、結着樹脂の選択が
より重要である。好ましい結着物質としては、架橋され
たスチレン系共重合体もしくは架橋されたポリエステル
がある。
対するコモノマーとしては、以下のビニル単量体及びそ
れらの混合物が例示される。アクリル酸、アクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−2−エ
チルヘキシル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸、メ
タクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸
ブチル、メタクリル酸オクチル、アクリロニトリル、メ
タクリニトリル、アクリルアミドなどのような二重結合
を有するモノカルボン酸もしくはその置換体;例えば、
マレイン酸、マレイン酸ブチル、マレイン酸メチル、マ
レイン酸ジメチルのような二重結合を有するジカルボン
酸及びその置換体;塩化ビニル、酢酸ビニル、安息香酸
ビニルのようなビニルエステル類;エチレン、プロピレ
ン、ブチレンのようなエチレン系オレフィン類;ビニル
メチルケトン、ビニルヘキシルケトンのようなビニルケ
トン類;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル
、ビニルイソブチルエーテルのようなビニルエーテル類
;架橋剤としては主として2個以上の重合可能な二重結
合を有する化合物が用いられる。例えば、ジビニルベン
ゼン、ジビニルナフタレンのような芳香族ジビニル化合
物;エチレングリコールジアクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメ
タクリレートのような二重結合を2個有するカルボン酸
エステル;ジビニルアニリン、ジビニルエーテル、ジビ
ニルスルフィド、ジビニルスルホンの如きジビニル化合
物;及び3個以上のビニル基を有する化合物;が単独も
しくは混合物として用いられる。架橋剤の好ましい使用
量は、モノマー100重量部当り0.01〜5重量部で
ある。
力定着現像剤用結着樹脂の使用が可能であり、例えばポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリメチレン、ポリウレ
タンエラストマー、エチレン−エチルアクリレート共重
合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹
脂、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプ
レン共重合体、線状飽和ポリエステル、パラフィンがあ
る。
子に配合(内添)、または現像剤粒子と混合(外添)し
て用いることが好ましい。荷電制御剤によって、現像シ
ステムに応じた最適の荷電量コントロールが可能となり
、特に本発明では粒度分布と荷電とのバランスをさらに
安定しものとすることが可能である。正荷電制御剤とし
ては、ニグロシン及び脂肪酸金属塩等による変成物;ト
リブチルベンジルアンモニウム−1−ヒドロキシ−4−
ナフトスルフォン酸塩、テトラブチルアンモニウムテト
ラフルオロボレートの如き四級アンモニウム塩;ジブチ
ルスズオキサイド、ジオクチルスズオキサイド、ジシク
ロヘキシルスズオキサイドの如きジオルガノスズオキサ
イド;ジブチルスズボレート、ジオクチルスズボレート
、ジシクロヘキシルスズボレートの如きジオルガノスズ
ボレートを単独であるいは2種類以上組合せて用いるこ
とができる。これらの中でも、ニグロシン系、四級アン
モニウム塩の如き荷電制御剤が特に好ましく用いられる
。
ルキル基(好ましくはC1〜C4)]で表わされるモノ
マーの単重合体:前述したスチレン、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステルの如き重合性モノマーとの共
重合体を正荷電性制御剤として用いることができる。こ
の場合これらの荷電制御剤は、結着樹脂(の全部または
一部)としての作用をも有する。
剤としては、例えば有機金属錯体、キレート化合物が有
効である。その例としてはアルミニウムアセチルアセト
ナート、鉄(II)アセチルアセトナート、3,5−ジ
ターシャリーブチルサリチル酸クロムがあり、特にアセ
チルアセトン金属錯体、サリチル酸系金属錯体または塩
が好ましく、特にサリチル酸系金属錯体またはサリチル
酸系金属塩が好ましい。
用を有しないもの)は、微粒子状として用いることが好
ましい。この場合、この荷電制御剤の個数平均粒径は、
具体的には、4μm以下(更には3μm以下)が好まし
い。
剤は、結着樹脂100重量部に対して0.1〜20重量
部(更には0.2〜10重量部)用いることが好ましい
。
加剤を内添あるいは外添混合しても良い。
及び顔料が使用可能であり、通常、結着樹脂100重量
部に対して0.5〜20重量部使用しても良い。他の添
加剤としては、例えばステアリン酸亜鉛の如き滑剤;酸
化セリウム、炭化ケイ素、チタン酸ストロンチウムの如
き研磨剤;樹脂微粒子;酸化アルミニウムの如き流動性
付与剤、ケーキング防止剤;カーボンブラック、酸化ス
ズの如き導電性付与剤がある。
低分子量ポリエチレン、低分子量ポリプロピレン、マイ
クロクリスタリンワックス、カルナバワックス、サゾー
ルワックス、パラフィンワックスの如きワックス状物質
を0.5〜5wt%程度トナー中に加えることも本発明
の好ましい形態の1つである。
割を兼ねても良いが、磁性材料を含有しても良く、磁性
材料としては、マグネタイト、γ−酸化鉄、フェライト
、鉄過剰型フェライトの如き酸化鉄;鉄、コバルト、ニ
ッケルのような金属或はこれらの金属とアルミニウム、
コバルト、銅、鉛、マグネシウム、スズ、亜鉛、アンチ
モン、ベリリウム、ビスマス、カドミウム、カルシウム
、マンガン、セレン、チタン、タングステン、バナジウ
ムのような金属との合金およびその組成物が挙げられる
。
m、好ましくは0.1〜0.5μm程度のものが好まし
い。トナー中に含有させる量としては樹脂成分100重
量部に対し30〜120重量部、好ましくは樹脂成分1
00重量部に対し40〜110重量部である。
非ビニル系の熱可塑性樹脂、必要に応じて、磁性粉、着
色剤としての顔料または染料、荷電制御剤、その他の添
加剤をボールミルの如き混合機により充分混合してから
加熱ロール、ニーダー、エクストルーダーの如き熱混練
機を用いて溶融,混練して樹脂類を互いに相溶せしめた
中に、磁性粉、着色剤、荷電制御剤、その他の添加剤を
分散又は溶解せしめ、冷却固化後粉砕及び分級をおこな
った後、シリカ微粉体及び、必要に応じて、その他の外
添剤を乾式混合方法によって、外添混合され本発明に係
るところの現像剤を得ることが出来る。
重合体 100重量部 (共重合比 8
0/19.5/0.5、重量平均分子量 32万)
四三酸化鉄(平均粒径0.2μm)
80重量部
モノアゾ染料の金属錯体
4
重量部 低分子プロピレン−エチレン共重合体
4重
量部上記材料をブレンダーでよく混合した後、150℃
に設定した2軸混練押出機にて混練した。得られた混練
物を冷却し、カッターミルにて粗粉砕した後、ジェット
気流を用いた微粉砕機を用いて微粉砕し、得られた微粉
砕粉を固定壁型風力分級機で分級して分級粉を生成した
。さらに、得られた分級粉をコアンダ効果を利用した多
分割分級装置(日鉄鉱業社製エルボジェット分級機)で
超微粉及び粗粉を同時に厳密に分級除去して体積平均径
9.0μmの負帯電性磁性トナーAを得た。
100重量部 負帯電性疎水性乾式シリカ
0.9重量部 (BET200m2/g
、疎水化度95%、カサ密度43g/l) 親水性シ
リカ
0.1重
量部 (BET100m2/g、カサ密度45g
/l) チタン酸ストロンチウム
1.5重量部上記物質をヘンシェルミキサーで混合し、
一成分系磁性現像剤を得た。
6650機で15℃/10%と32.5℃/85%の2
種類の環境で50000枚の耐久画出しを行った。
い画像濃度を維持した。結果を表1に示す。
100重量部 負帯電性疎水性乾式シリカ
0.82重量部 (BET200m2/g、
疎水化度95%、カサ密度43g/l) 親水性シリ
カ
0.18重量部
(BET100m2/g、カサ密度45g/l
) チタン酸ストロンチウム
1.
5重量部上記物質を実施例1と同様の方法で製造し同様
の方法で評価を行った。結果を表1に示す。
100重量部 負帯電性疎水性乾式シリカ
0.75重量部 (BET200m2/g、
疎水化度95%、カサ密度40g/l) 親水性シリ
カ
0.25重量部
(BET100m2/g、カサ密度45g/l
) チタン酸ストロンチウム
1.
5重量部上記物質を実施例1と同様の方法で製造し、評
価を行った。結果を表1に示す。
100重量部 負帯電性疎水性乾式シリカ
0.95重量部 (BET200m2/g、
疎水化度95%、カサ密度40g/l) 親水性シリ
カ
0.02重量部
(BET100m2/g、カサ密度45g/l
) チタン酸ストロンチウム
1.
5重量部上記物質を実施例1と同様の方法で製造し、評
価を行った。結果を表1に示す。
100重量部 負帯電性疎水性乾式シリカ
0.95重量部 (BET250m2/g、
疎水化度98%、カサ密度36g/l) 親水性乾式
シリカ
0.05重量部
(BET130m2/g、カサ密度43g/l)
チタン酸ストロンチウム
2.0重
量部上記物質を実施例1と同様の方法で製造し、評価を
行った。結果を表1に示す。
100重量部 負帯電性疎水性乾式シリカ
0.95重量部 (BET150m2/g、
疎水化度95%、カサ密度55g/l) 親水性乾式
シリカ
0.05重量部
(BET130m2/g、カサ密度43g/l)
チタン酸ストロンチウム
2.0重
量部上記物質を実施例1と同様の方法で製造し、評価を
行った。結果を表1に示す。
100重量部 負帯電性疎水性乾式シリカ
0.95重量部 (BET250m2/g、
疎水化度85%、カサ密度40g/l) 親水性乾式
シリカ
0.05重量部
(BET130m2/g、カサ密度43g/l)
チタン酸ストロンチウム
2.0重
量部上記物質を実施例1と同様の方法で製造し、評価を
行った。結果を表1に示す。
100重量部 負帯電性疎水性乾式シリカ
0.95重量部 (BET250m2/g、
疎水化度95%、カサ密度36g/l) 親水性乾式
シリカ
0.05重量部
(BET160m2/g、カサ密度40g/l)
チタン酸ストロンチウム
2.0重
量部上記物質を実施例1と同様の方法で製造、評価を行
った。結果を表1に示す。
100重量部 四三酸化鉄
90重
量部 ジアルキルサルチル酸の金属塩
1重量部 低分子プロピレン−エチレン共重合体
3
重量部上記材料を実施例1と同様の方法を用い体積平均
径9.0μmの負帯電性磁性トナーBを得た。
100重量部 負帯電性疎水性シリカ
0.9重量部 (BET200m2
/g、疎水化度98%、カサ密度50g/l) 親水
性シリカ
0.
1重量部 (BET130m2/g、カサ密度4
3g/l) チタン酸ストロンチウム
3.0重量部上記物質をヘンシェルミキサーで混合
し、一成分現像剤とした後、実施例1と同様の方法で評
価を行った。その結果を表1に示す。
100重量部 負帯電性疎水性シリカ
0.85重量部 (BET200m2/
g、疎水化度98%、カサ密度50g/l) 親水性
シリカ
0.15重
量部 (BET130m2/g、カサ密度43g
/l) チタン酸ストロンチウム
3.0重量部上記材料を実施例1と同様の方法で製造し
同様の方法で評価を行った。結果は表1に示す。
100重量部 負帯電性疎水性シリカ
0.9重量部 (BET180m2
/g、疎水化度91%、カサ密度57g/l) 親水
性シリカ
0.
1重量部 (BET130m2/g、カサ密度4
3g/l) チタン酸ストロンチウム
3.0重量部上記物質を実施例1と同様の方法で製
造し、同様の方法で評価を行った。結果を表1に示す。
100重量部 負帯電性疎水性シリカ
0.9重量部 (BET300m2
/g、疎水化度99%、カサ密度33g/l) 親水
性シリカ
0.
1重量部 (BET130m2/g、カサ密度4
3g/l) チタン酸ストロンチウム
3.0重量部上記物質を実施例1と同様の方法で製
造し、同様の方法で評価を行った。結果を表1に示す。
100重量部 負帯電性疎水性シリカ
0.9重量部 (BET200m2
/g、疎水化度98%、カサ密度50g/l) 親水
性シリカ
0.
1重量部 (BET150m2/g、カサ密度5
6g/l) チタン酸ストロンチウム
3.0重量部上記物質を実施例1と同様の方法で製
造し、評価を行った。結果を表1に示す。
よれば、高い環境安定性を示し、高湿環境、低湿環境に
おいても安定した画像濃度の画像を与える。
Claims (1)
- 【請求項1】 シリカ微粉体を乾式混合によって現像
剤の表面近傍に含有する現像剤において、(a)窒素吸
着BET比表面積が180m2/g以上であり、疎水化
率が90%以上であり、かつカサ密度が35g/l〜5
5g/lである表面処理シリカ微粉体(b)窒素吸着B
ET比表面積が150m2/g以下であり、カサ密度が
55g/l以下である親水性シリカ微粉体 の(a),(b)2種のシリカ微粉体を含有し、表面処
理シリカ(a)と親水性シリカ(b)の比が80/20
〜95/5の範囲であることを特徴とする静電荷潜像現
像用現像剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3137007A JP3049278B2 (ja) | 1991-05-14 | 1991-05-14 | 静電荷潜像現像用磁性現像剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3137007A JP3049278B2 (ja) | 1991-05-14 | 1991-05-14 | 静電荷潜像現像用磁性現像剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04337740A true JPH04337740A (ja) | 1992-11-25 |
JP3049278B2 JP3049278B2 (ja) | 2000-06-05 |
Family
ID=15188631
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3137007A Expired - Fee Related JP3049278B2 (ja) | 1991-05-14 | 1991-05-14 | 静電荷潜像現像用磁性現像剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3049278B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015125272A (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-06 | キヤノン株式会社 | トナーの製造方法 |
JP2015125271A (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-06 | キヤノン株式会社 | トナーの製造方法 |
CN105573077A (zh) * | 2016-03-17 | 2016-05-11 | 湖北远东卓越科技股份有限公司 | 一种高浓度磁性碳粉及其制备工艺 |
-
1991
- 1991-05-14 JP JP3137007A patent/JP3049278B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2015125271A (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-06 | キヤノン株式会社 | トナーの製造方法 |
CN105573077A (zh) * | 2016-03-17 | 2016-05-11 | 湖北远东卓越科技股份有限公司 | 一种高浓度磁性碳粉及其制备工艺 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3049278B2 (ja) | 2000-06-05 |
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