JPH04330036A - 半合成のジアステレオマー的に純粋なn−グリシジルアントラサイクリンの立体選択的な製造方法 - Google Patents
半合成のジアステレオマー的に純粋なn−グリシジルアントラサイクリンの立体選択的な製造方法Info
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Abstract
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Description
−(S)−グリシジルアントラサイクリンおよびジアス
テレオマー的に純粋なN−グリシジルアントラサイクリ
ン誘導体、特に7−O−(3−N−メチル−3−N−(
R)−グリシジル−α−L−ダウノサミニル)−β−ロ
ードマイシノンおよび7−O−(3−N−メチル−3−
N−(S)−グリシジル−α−L−ダウノサミニル)−
β−ロードマイシノンの立体選択的な製法に関するもの
であって、これらの化合物は、その細胞増殖抑制活性の
ために、癌の治療に適している。
ロキシル基であり、R2は、水素、ヒドロキシル基また
はアルキルオキシ基(C1〜C4)であり、R3は、水
素、ヒドロキシル基または式II
、COCH2OH、CHOHCH3またはCHOHCH
2OHであり、R5は、水素、ヒドロキシル基、メトキ
シカルボニル基または式IIの構造の基であり(R3も
しくはR5のどちらか一方またはこれらの両方は式II
の構造の基であらねばならない)、R6は、水素、アル
キル基(C1〜C4)、アリル基、ベンジル基またはモ
ノ−もしくはジ−メチルオキシ置換ベンジル基、テトラ
ヒドロピラニル基であり、R7は、水素、アルキル基(
Cl〜C4)、アリル基、ベンジル基またはモノ−もし
くはジ−メチルオキシ置換ベンジル基であり、そしてR
8は式IIIまたはIV
/S)−グリシジル−α−L−ダウノサミニル)−β−
ロードマイシノンの製造およびその細胞毒活性は、立体
非特異的合成法として特許出願DE 3,819,09
2A1に記載されている。この方法は、ラセミエピブロ
モヒドリンから出発し、これをアントラサイクリン上の
ダウノサミンのN−メチルアミノ基上に付加させる。こ
の方法は、ジアステレオマーの混合物として本発明によ
る化合物を与え、このジアステレオマーの混合物は、多
数の錯雑なクロマトグラフィーを使用して多量の損失を
もって分離することができるにすぎない。このことから
、化合物の大なる不安定性のために、R/Sジアステレ
オマーの混合物のクロマトグラフィー処理は、必要な純
度の純粋なジアステレオマーを与えることができないこ
とおよび分離中に大なる物質の量がシリカゲル支持体に
非可逆的に結合するために、必要な量を与えることがで
きないという事実が明らかである。
. Chem. 43、4876〜4878(1978
)およびJ. Org. Chem. 47、3581
〜3585(1982)は、R−およびS−エピブロモ
ヒドリンの製造を開示している。 これらの方法は、多工程の錯雑な合成法であって、この
方法は、再生産において、不十分な光学的純度のR−お
よびS−エピブロモヒドリンの不十分な収量を与えるに
すぎない。
リン合成からの中間体、すなわち3−ブロモ−1−トシ
ルオキシ−2−(R)−プロパノール〔J. Org.
Chem. 47、3581〜3585(1982)
〕と7−O−(3−N−メチル−α−L−ダウノサミニ
ル)−β−ロードマイシノン(DE3,641,833
A1)との反応によって、直接、7−O−(3−N−
メチル−3−N−(S)−グリシジル−α−L−ダウノ
サミニル)−β−ロードマイシノンが得られるというこ
とが見出された。
ールからシャープレスエポキシ化および次のトシル化に
より容易に且つ非常にエナンチオマー的に純粋に製造す
ることのできる(R)−グリシジルトシレートおよび(
S)−グリシジルトシレート〔J. Org. Che
m. 51、3710〜3712(1986)〕は、同
様に、7−O−(3−N−メチル−α−L−ダウノサミ
ニル)−β−ロードマイシノンと反応させて7−O−(
3−N−メチル−3−N−(S)−グリシジル−α−L
−ダウノサミニル)−β−ロードマイシノンを得ること
ができるということが見出された。
カゲルに非可逆的に結合することなしに、酸性の水性緩
衝液で予備処理しそして不活性化したシリカゲル上のク
ロマトグラフィー処理によって反応生成物を精製するこ
とができる。
して、良好な収量で且つ96%以上の純度で立体選択的
合成法でN−(R)−グリシジルアントラサイクリンお
よびN−(S)−グリシジルアントラサイクリンを与え
ることができそして既知の方法に比較して簡単である新
規な方法を開発せんとするものである。
2は、水素、ヒドロキシル基またはアルキルオキシ基(
C1〜C4)であり、R3は、水素、ヒドロキシル基ま
たは式II
、COCH2OH、CHOHCH3またはCHOHCH
2OHであり、R5は、水素、ヒドロキシル基、メトキ
シカルボニル基または式IIの構造の基であり(R3も
しくはR5のどちらか一方またはこれら両方は式IIの
構造の基であらねばならない)、R6は、水素、アルキ
ル基(C1〜C4)、アリル基、ベンジル基またはモノ
−もしくはジ−メチルオキシ置換ベンジル基、テトラヒ
ドロピラニル基であり、R7は、水素、アルキル基(C
l〜C4)、アリル基、ベンジル基またはモノ−もしく
はジ−メチルオキシ置換ベンジル基であり、そしてR8
は、式IIIまたはIV
サイクリンまたはN−(S)−グリシジルアントラサイ
クリンの製法によって本発明により達成され、そしてこ
の目的は、構造I〔式中、R1、R2およびR4は上記
定義の通りであり、R3は水素、ヒドロキシル基または
式V
キシカルボニル基または式Vの構造の基であり(R3も
しくはR5のどちらか一方またはこれらの両方は式Vの
構造の基であらねばならない)、そしてR6およびR7
は上記定義の通りである〕のアントラサイクリン誘導体
を(R)−または(S)−グリシジルスルホネート、例
えば(R)−または(S)−グリシジルトシレート、(
R)−または(S)−グリシジルメシレート、(R)−
または(S)−グリシジルブロシレートまたは(R)−
または(S)−グリシジルトリフルオロメタンスルホネ
ートと反応させそして次に生成物を単離することからな
る。
えば炭酸カリウム、トリエチルアミンまたはピリジンの
存在下そして適当な有機溶剤または溶剤の混合物、例え
ばN,N−ジメチルホルムアミドまたはアセトニトリル
中で、20℃〜溶剤の還流温度で1〜48時間撹拌しそ
して次に反応溶液を処理することができる。必要に応じ
中和後濃縮または抽出により溶液から粗製生成物を単離
し、そして必要に応じ好ましくは緩衝剤水溶液で不活性
化したシリカゲル上のクロマトグラフィーによりそれを
精製することによって処理して96%より大なる純度で
式Iの生成物を得ることができる。
造される式Iの化合物は、R1が、ヒドロキシル基であ
り、R2が、ヒドロキシル基またはメチルオキシ基であ
り、R3が、式II
、COCH2OHであり、R5が、水素、ヒドロキシル
基またはメトキシカルボニル基であり、R6が、水素ま
たはテトラヒドロピラニル基であり、R7が、水素また
はメチルであり、R8が、式IIIまたはIV
6】
キシル基であり、R2が、水素、ヒドロキシル基または
アルキルオキシ基(C1〜C4)であり、R3が、水素
、ヒドロキシル基または式IIの構造の基であり、R4
が、CH2CH3、COCH3、COCH2OH、CH
OHCH3またはCHOHCH2OHであり、R5が、
水素、ヒドロキシル基、メトキシカルボニル基または式
IIの構造の基であり(R3もしくはR5のどちらか一
方またはこれらの両方は式IIの構造の基であらねばな
らない)、R6が、水素、アルキル基(C1〜C4)、
アリル基、ベンジル基またはモノ−もしくはジ−メチル
オキシ置換ベンジル基、テトラヒドロピラニル基であり
、R7が、水素、アルキル基(C1〜C4)、アリル基
、ベンジル基またはモノ−もしくはジ−メチルオキシ置
換ベンジル基であり、そしてR8が、式IIIまたはI
Vの構造の基である式Iに相当するN−グリシジルアン
トラサイクリン誘導体および無機または有機酸とのその
塩に関するものである。
はヒドロキシル基であり、R2が、水素、ヒドロキシル
基またはメトキシ基であり、R3が、式IIの構造の基
であり、R4が、CH2CH3、COCH3、COCH
2OH、CHOHCH3またはCHOHCH2OHであ
り、R5が、水素、ヒドロキシル基、メトキシカルボニ
ル基または式IIの構造の基であり、R6が、水素、ア
ルキル基(C1〜C4)、アリル基、ベンジル基または
モノ−もしくはジ−メチルオキシ置換ベンジル基、テト
ラヒドロピラニル基であり、R7が、水素、アルキル基
(C1〜C4)、アリル基、ベンジル基またはモノ−ま
たはジ−メチルオキシ置換ベンジル基であり、そしてR
8が、式IIIまたはIVの構造の基である式IのN−
グリシジルアントラサイクリン誘導体。
、R2が、水素、ヒドロキシル基またはメトキシ基であ
り、R3が、式IIの構造の基であり、R4が、CH2
CH3、COCH3、COCH2OH、CHOHCH3
またはCHOHCH2OHであり、R5が、水素、ヒド
ロキシル基、メトキシカルボニル基であり、R6が、水
素、アルキル基(C1〜C4)、アリル基、ベンジル基
またはモノ−もしくはジ−メチルオキシ置換ベンジル基
、テトラヒドロピラニル基であり、R7が、水素、アル
キル基(Cl〜C4)、アリル基、ベンジル基またはモ
ノ−もしくはジ−メチルオキシ置換ベンジル基であり、
そしてR8が、式IIIまたはIVの構造の基である式
IのN−グリシジルアントラサイクリン誘導体。
ロキシル基またはメトキシ基であり、R3が、式IIの
構造の基であり、R4が、CH2CH3、COCH3、
COCH2OH、CHOHCH3またはCHOHCH2
OHであり、R5が、水素、ヒドロキシル基、メトキシ
カルボニル基であり、R6が、水素、テトラヒドロピラ
ニル基であり、R7が、水素、アルキル基(Cl〜C4
)、アリル基、ベンジル基またはモノ−もしくはジ−メ
チルオキシ置換ベンジル基であり、そしてR8が、式I
IIまたはIVの構造の基である式IのN−グリシジル
アントラサイクリン誘導体。
ロキシル基またはメトキシ基であり、R3が、式IIの
構造の基であり、R4が、CH2CH3、COCH3、
COCH2OH、CHOHCH3またはCHOHCH2
OHであり、R5が、水素、ヒドロキシル基、メトキシ
カルボニル基であり、R6が、水素、テトラヒドロピラ
ニル基であり、R7が、水素、アルキル基(Cl〜C4
)、アリル基であり、そしてR8が、式IIIまたはI
Vの構造の基である式IのN−グリシジルアントラサイ
クリン誘導体。
ル基またはメトキシ基であり、R3が、式IIの構造の
基であり、R4が、CH2CH3、COCH3またはC
OCH2OHであり、R5が、水素、ヒドロキシル基で
あり、R6が、水素であり、R7が、水素、アルキル基
(Cl〜C4)、アリル基であり、そしてR8が、式I
IIまたはIVの構造の基である式IのN−グリシジル
アントラサイクリン誘導体。
ル基であり、R3が、式IIの構造の基であり、R4が
、CH2CH3であり、R5が、ヒドロキシル基であり
、R6が、水素であり、R7が、メチル基であり、そし
てR8が、式IIIまたはIVの構造の基である式Iの
N−グリシジルアントラサイクリン誘導体。
ル基であり、R3が、式IIの構造の基であり、R4が
、CH2CH3であり、R5が、ヒドロキシル基であり
、R6が、水素であり、R7が、メチル基であり、そし
てR8が、式IIIの構造の基である式IのN−グリシ
ジルアントラサイクリン誘導体。
しに、本発明をより詳細に説明するものである。
ル−α−L−ダウノサミニル)−β−ロードマイシノン
ミリモル)および炭酸カリウム(3.2g、23.9ミ
リモル)を、順次乾燥N,N−ジメチルホルムアミド(
20ml)中の7−O−(3−N−メチル−α−L−ダ
ウノサミニル)−β−ロードマイシノン(1.25g、
2.36ミリモル)の溶液に加えそしてこの懸濁液を8
5℃で2.5時間撹拌する。室温に冷却した後反応溶液
を水(300ml)に注加し、濃酢酸で中和しそしてク
ロロホルム(5×50ml)で抽出する。合した有機抽
出液を再び水(100ml)で洗浄しそして高真空下低
温度で濃縮する。この物質を、カラムクロマトグラフィ
ー(水性トリエチルアミン/ホスフェート緩衝液(pH
3)とともに撹拌することにより不活性化しそして次に
吸引乾燥した、シリカゲル60、0.040〜0.06
3mm、Merck No.9385)(移動相:ジク
ロロメタン/イソプロパノール/アセトニトリル 80
/12/8)により予備精製する。最終精製は、中圧ク
ロマトグラフィー(水性トリエチルアミン/ホスフェー
ト緩衝液(pH3)とともに撹拌することにより不活性
化しそして次に吸引乾燥した、シリカゲルMacher
ey & Nagel Nucleosil 100〜
1525)(移動相:ジクロロメタン/イソプロパノー
ル/アセトニトリル 80/12/8)により実施する
。収量:150mg(11%)。純度 >98%。
ノール/アセトニトリル 80/12/8)。 融点:120℃(分解)。 〔α〕D20=+335°(CHCl3中 c=0.0
2)。
3中):δ13.61(s, 1H, OH−11)、
12.83(s, 1H, OH−6)、 12.1
5(s, 1H, OH−4)、 7.88(dd,
1H, J1,2=7.5Hz, J1,3=1.1H
z, H−1)、 7.72(t, 1H, J1,2
=J2,3=7.5Hz, H−2)、 7.32(d
d, 1H, J1,3=1.1Hz, J2,3=7
.5Hz, H−3)、 5.52(bs, 1H,
H−1′)、 5.30(dd,1H, J7,8a=
1.4Hz, J7,8b=4.1Hz, H−7)、
4.90(s, 1H, H−10)、 4.09(
q, 1H, J5′,6′=6.5Hz, H−5′
)、 4.02(s, 1H, OH)、 3.72(
bs, 1H, H−4)、 2.99(m, 1H,
H−2″)、 2.79(dd, 1H, J1a″
,1b″=−11.6Hz, J1a″,2″=3.4
Hz, H−1a″)、 2.75(t, J3a″,
3b″=J2″,3a″=4.3Hz, 1H, H−
3a″)、 2.55(m, 1H, H−3′)、
2.45(dd, 1H,J2″,3b″=2.7Hz
, J3a″,3b″=4.9Hz, H−3b″)、
2.37(dd, 1H, J1a″,1b″=−1
1.6Hz, J1b″,2″=3.1Hz, H−1
b″)、 2.36(s, 3H, NCH3)、 2
.25(dd, 1H, J7,8a=1.4Hz,
J8a,8b=−11.0Hz, H−8a)、 2.
15(dd, 1H, J7,8b=4.1Hz, J
8a,8b=−11.1Hz, H−8b)、 1.8
2(m, 4H, H−13a, H−13b, H−
2a′, H−2e′)、 1.41(d, 3H,
J5′,6′=6.5Hz, H−6′)、 1.12
(t, 3H, J13,14=7.5Hz, H−1
4) ppm。
3中)δ190.6(C−5)、 186.1(C−1
2)、 162.6(C−4)、 157.2(C−1
1)、 156.7(C−6)、 138.6(C−1
0a)、 137.1(C−2)、 134.9(C−
6a)、 133.2(C−12a)、 124.9(
C−3)、 119.7(C−1)、 115.9(C
−4a)、 112.0(C−5a)、 111.4(
C−11a)、101.3(C−1′)、 71.8(
C−9)、 70.8(C−7)、 66.7(C−5
′)、 66.5(C−10)、 66.3(C−4′
)、 57.9(C−3′)、 54.9(C−1″)
、 50.3(C−2″)、 45.3(C−3″)、
39.1(C−NCH3)、 32.8(C−8)、
30.3(C−13)、 28.5(C−2′)、
17.0(C−6′)、 6.6(C−14) ppm
。
)。 UVスペクトル:λmax MeOH nm(ε)23
0(25,200)、 292(10,000)、 4
94(17,200)、 528(13,500)、
587(4,400)。
440(νmax)、 2964、 1600、 14
60、 1437、 1405、 1291、 123
7、 1198、 1165、 1130、 1067
、 1022、 983。
して決定された。実施例1の化合物のエポキシドを、文
献〔例えば、Parker等:Chem.Rev. 5
9、737(1959)〕に記載されているように水性
酸媒質中において開裂すると、それによって、開裂がほ
とんどの置換されたC−O結合において行われそしてジ
オール5が遷移状態3を経て得られる。実施例1からこ
の化合物を製造する塩基性反応条件下においては、文献
〔例えば、Parker等:Chem. Rev. 5
9、737(1959)〕に記載されているように最小
の置換されたC−O結合の開裂を伴う塩基性エポキシド
開裂により生成される小量の副生物4が得られる。この
環状カーボネートは、ナトリウムメタノレートで処理す
ることによりジオール6に変化することができる。
なグリセルアルデヒドから特許DE3,641,833
A1に記載されているような異なる方法により製造し
そしてHPLC分析によってエポキシド開裂から得られ
た生成物と比較する。生成物5および6の形成から、実
施例1からの生成物はグリシジル基においてR配置を有
するものであると結論される。
ル−α−L−ダウノサミニル)−β−ロードマイシノン
−L−ダウノサミニル)−β−ロードマイシノンを(S
)−グリシジルトシレートと反応させ、処理しそして精
製する。
ノール/アセトニトリル 80/12/8)。 融点:212〜215℃。 〔α〕D20=+187°(CHCl3中 c=0.0
75)。
3中):δ13.58(s, 1H, OH−11)、
12.81(s, 1H, OH−6)、 12.1
1(s, 1H, OH−4)、 7.87(dd,
1H, J1,2=7.5Hz, J1,3=1.1H
z, H−1)、 7.71(t, 1H, J1,2
=J2,3=7.5Hz, H−2)、 7.31(d
d, 1H, J1,3=1.1Hz, J2,3=7
.5Hz, H−3)、 5.51(bs, 1H,
H−1′)、 5.14(dd,1H, J7,8a=
1.8Hz, J7,8b=4.0Hz, H−7)、
4.90(s, 1H, H−10)、 4.08(
q, 1H, J5′,6′=6.6Hz, H−5′
)、 4.03(s, 1H, OH)、 3.69(
bs, 1H, H−4)、 2.99(m, 1H,
H−2″)、 2.95(dd, 1H, J1a″
,1b″=−14.4Hz, J1a″,2″=2.8
Hz, H−1a″)、 2.72(dd, J3a″
,3b″=−4.8Hz, J2″,3a″=4.1H
z, 1H, H−3a″)、 2.54(m, 1H
, H−3′)、 2.49(dd, 1H, J2″
,3b″=2.3Hz, J3a″,3b″=4.8H
z, H−3b″)、 2.32(dd, 1H, J
1a″,1b″=−14.4Hz, J1b″,2″=
5.7Hz, H−1b″)、 2.31(s, 3H
,NCH3)、 2.24(dd, 1H,J7,8a
=1.8Hz, J8a,8b=−14.0Hz, H
−8a)、 2.11(dd, 1H, J7,8b=
4.0Hz, J8a,8b=−14.0Hz, H−
8b)、 1.82(m, 4H, H−13a, H
−13b, H−2a′, H−2e′)、 1.41
(d, 3H, J5′,6′=6.6Hz, H−6
′)、 1.12(t, 3H, J13,14=7.
5Hz, H−14) ppm。
l3中)δ190.5(C−5)、 186.0(C−
12)、 162.5(C−4)、 157.0(C−
11)、 156.6(C−6)、 138.4(C−
10a)、 136.9(C−2)、 134.7(C
−6a)、 133.0(C−12a)、 124.8
(C−3)、 119.5(C−1)、 115.7(
C−4a)、 111.9(C−5a)、 111.2
(C−11a)、101.1(C−1′)、 71.7
(C−9)、 70.6(C−7)、 66.5(C−
5′)、 66.4(C−10)、 66.0(C−4
′)、 57.6(C−3′)、 54.4(C−1″
)、 50.4(C−2″)、 44.5(C−3″)
、 39.1(C−NCH3)、 32.6(C−8)
、 30.2(C−13)、 28.4(C−2′)、
16.8(C−6′)、 6.4(C−14) pp
m。
)。 UVスペクトル:λmax MeOH nm(ε)23
5(62,800)、 295(13,900)、 5
12(18,500)、 541(21,700)、
586(17,400)。
446(νmax)、 2928、 1602、 14
60、 1437、 1404、 1290、 12
36、 1198、 1166、 1130、 106
7、 1024、 982。
Claims (24)
- 【請求項1】 式I 【化1】 に相当するN−グリシジルアントラサイクリン誘導体お
よび無機または有機酸とのその塩、上記式において、R
1は、水素またはヒドロキシル基であり、R2は、水素
、ヒドロキシル基またはアルキルオキシ基(C1〜C4
)であり、R3は、水素、ヒドロキシル基または式II
【化2】 の構造の基であり、R4は、CH2CH3、COCH3
、COCH2OH、CHOHCH3またはCHOHCH
2OHであり、R5は、水素、ヒドロキシル基、メトキ
シカルボニル基または式IIの構造の基であり、R6は
、水素、アルキル基(C1〜C4)、アリル基、ベンジ
ル基またはモノ−もしくはジ−メチルオキシ置換ベンジ
ル基、テトラヒドロピラニル基であり、R7は、水素、
アルキル基(Cl〜C4)、アリル基、ベンジル基また
はモノ−もしくはジ−メチルオキシ置換ベンジル基であ
り、そしてR8は式IIIまたはIV 【化3】 の構造の基である。 - 【請求項2】 R1が、水素またはヒドロキシル基で
あり、R2が、水素、ヒドロキシル基またはメトキシ基
であり、R3が、式IIの構造の基であり、R4が、C
H2CH3、COCH3、COCH2OH、CHOHC
H3またはCHOHCH2OHであり、R5が、水素、
ヒドロキシル基、メトキシカルボニル基または式IIの
構造の基であり、R6が、水素、アルキル基(C1〜C
4)、アリル基、ベンジル基またはモノ−もしくはジ−
メチルオキシ置換ベンジル基、テトラヒドロピラニル基
であり、R7が、水素、アルキル基(Cl〜C4)、ア
リル基、ベンジル基またはモノ−もしくはジ−メチルオ
キシ置換ベンジル基であり、そしてR8が、式IIIま
たはIVの構造の基である請求項1記載のN−グリシジ
ルアントラサイクリン誘導体。 - 【請求項3】 R1が、水素またはヒドロキシル基で
あり、R2が、水素、ヒドロキシル基またはメトキシ基
であり、R3が、式IIの構造の基であり、R4が、C
H2CH3、COCH3、COCH2OH、CHOHC
H3またはCHOHCH2OHであり、R5が、水素、
ヒドロキシル基、メトキシカルボニル基であり、R6が
、水素、アルキル基(C1〜C4)、アリル基、ベンジ
ル基またはモノ−もしくはジ−メチルオキシ置換ベンジ
ル基、テトラヒドロピラニル基であり、R7が、水素、
アルキル基(Cl〜C4)、アリル基、ベンジル基また
はモノ−もしくはジ−メチルオキシ置換ベンジル基であ
り、そしてR8が、式IIIまたはIVの構造の基であ
る請求項1記載のN−グリシジルアントラサイクリン誘
導体。 - 【請求項4】 R1が、水素であり、R2が、水素、
ヒドロキシル基またはメトキシ基であり、R3が、式I
Iの構造の基であり、R4が、CH2CH3、COCH
3、COCH2OH、CHOHCH3またはCHOHC
H2OHであり、R5が、水素、ヒドロキシル基、メト
キシカルボニル基であり、R6が、水素、テトラヒドロ
ピラニル基であり、R7が、水素、アルキル基(Cl〜
C4)、アリル基、ベンジル基またはモノ−もしくはジ
−メチルオキシ置換ベンジル基であり、そしてR8が、
式IIIまたはIVの構造の基である請求項1記載のN
−グリシジルアントラサイクリン誘導体。 - 【請求項5】 R1が、水素であり、R2が、水素、
ヒドロキシル基またはメトキシ基であり、R3が、式I
Iの構造の基であり、R4が、CH2CH3、COCH
3、COCH2OH、CHOHCH3またはCHOHC
H2OHであり、R5が、水素、ヒドロキシル基、メト
キシカルボニル基であり、R6が、水素、テトラヒドロ
ピラニル基であり、R7が、水素、アルキル基(Cl〜
C4)、アリル基であり、そしてR8が、式IIIまた
はIVの構造の基である請求項1記載のN−グリシジル
アントラサイクリン誘導体。 - 【請求項6】 R1が、水素であり、R2が、ヒドロ
キシル基またはメトキシ基であり、R3が、式IIの構
造の基であり、R4が、CH2CH3、COCH3また
はCOCH2OHであり、R5が、水素、ヒドロキシル
基であり、R6が、水素であり、R7が、水素、アルキ
ル基(Cl〜C4)、アリル基であり、そしてR8が、
式IIIまたはIVの構造の基である請求項1記載のN
−グリシジルアントラサイクリン誘導体。 - 【請求項7】 R1、が水素であり、R2が、ヒドロ
キシル基であり、R3が、式IIの構造の基であり、R
4が、CH2CH3であり、R5が、ヒドロキシル基で
あり、R6が、水素であり、R7が、メチル基であり、
そしてR8が、式IIIまたはIVの構造の基である請
求項1記載のN−グリシジルアントラサイクリン誘導体
。 - 【請求項8】 R1が、水素であり、R2が、ヒドロ
キシル基であり、R3が、式IIの構造の基であり、R
4が、CH2CH3であり、R5が、ヒドロキシル基で
あり、R6が、水素であり、R7が、メチル基であり、
そしてR8が、式IIIの構造の基である請求項1記載
のN−グリシジルアントラサイクリン誘導体。 - 【請求項9】 式I 【化4】 〔式中R1は、水素またはヒドロキシル基であり、R2
は、水素、ヒドロキシル基またはアルキルオキシ基(C
1〜C4)であり、R3は、水素、ヒドロキシル基また
は式II 【化5】 の構造の基であり、R4は、CH2CH3、COCH3
、COCH2OH、CHOHCH3またはCHOHCH
2OHであり、R5は、水素、ヒドロキシル基、メトキ
シカルボニル基または式IIの構造の基であり(R3ま
たはR5または両方は式IIの構造の基であらねばなら
ない)、R6は、水素、アルキル基(C1〜C4)、ア
リル基、ベンジル基またはモノ−もしくはジ−メチルオ
キシ置換ベンジル基、テトラヒドロピラニル基であり、
R7は、水素、アルキル基(Cl〜C4)、アリル基、
ベンジル基またはモノ−もしくはジ−メチルオキシ置換
ベンジル基であり、そしてR8は、式IIIまたはIV
【化6】 の構造の基である〕のN−(R)−グリシジルアントラ
サイクリンおよびN−(S)−グリシジルアントラサイ
クリンの製造において構造I〔式中、R1、R2および
R4は上記定義の通りであり、R3は水素、ヒドロキシ
ル基または式V 【化7】 の構造の基であり、R5は水素、ヒドロキシル基、メト
キシカルボニル基または式Vの構造の基であり(R3も
しくはR5のどちらか一方または両方は、式Vの構造の
基であらねばならない)そしてR6およびR7は上記定
義の通りである〕のアントラサイクリン誘導体を(R)
−または(S)−グリシジルスルホネートと反応させそ
して次に生成物を単離することからなるN−(R)−グ
リシジルアントラサイクリンおよびN−(S)−グリシ
ジルアントラサイクリンの製法。 - 【請求項10】 (R)−もしくは(S)−グリシジ
ルスルホネート、(R)−もしくは(S)−グリシジル
メシレート、(R)−もしくは(S)−グリシジルブロ
シレートまたは(R)−もしくは(S)−グリシジルト
リフルオロメタンスルホネートをグリシジルスルホネー
トとして使用する請求項9記載の方法。 - 【請求項11】 反応に際して、グリシジルスルホネ
ートを、塩基の存在下、適当な有機溶剤または溶剤の混
合物中において20℃〜溶剤の還流温度で1〜48時間
撹拌しそして次に反応溶液を処理する請求項9記載の方
法。 - 【請求項12】 反応溶液を水と混合し、必要に応じ
有機カルボン酸で中和しそして例えばクロロホルム、ジ
クロロメタンまたはジクロロエタンのようなハロゲン−
含有溶剤で抽出し、その後溶液を高真空下低温度で濃縮
しそして生成物をクロマトグラフィー分離により得るこ
とによって、処理を行う請求項9記載の方法。 - 【請求項13】 シリカゲルを緩衝剤水溶液による処
理により不活性化した予備処理したシリカゲル上でクロ
マトグラフィー分離を行うことによって精製を行う請求
項9記載の方法。 - 【請求項14】 予備的クロマトグラフィー分離を、
予備処理したシリカゲル(水性トリエチルアミン/ホス
フェート緩衝液(pH3)とともに撹拌することにより
不活性化しそして次に吸引乾燥した)上で実施し、その
後、中圧クロマトグラフィーによる最終分離を同様に予
備処理したシリカゲル(水性トリエチルアミン/ホスフ
ェート緩衝液(pH3)とともに撹拌することにより不
活性化しそして次に吸引乾燥した)上で行うような方法
で、精製を実施する請求項9記載の方法。 - 【請求項15】 反応溶液を水と混合し、必要に応じ
有機カルボン酸で中和しそして例えばクロロホルム、ジ
クロロメタンまたはジクロロエタンのようなハロゲン−
含有溶剤で抽出し、その後溶液を高真空下低温度で濃縮
し、そして例えばトルエン、イソプロパノール、アセト
ニトリルまたはジクロロメタンを含有する移動相混合物
を使用して、予備的クロマトグラフィー分離を予備処理
したシリカゲル(水性トリエチルアミン/ホスフェート
緩衝液(pH3)とともに撹拌することにより不活性化
しそして次に吸引乾燥した)上で実施し、その後中圧ク
ロマトグラフィーによる1回または2回以上の最終分離
を同様に予備処理したシリカゲル(水性トリエチルアミ
ン/ホスフェート緩衝液(pH3)とともに撹拌するこ
とにより不活性化しそしてその後吸引乾燥した)上で実
施するような方法で、処理および精製を実施する請求項
9記載の方法。 - 【請求項16】 R1が、水素またはヒドロキシル基
であり、R2が、水素、ヒドロキシル基またはメトキシ
基であり、R3が、式IIの構造の基であり、R4が、
CH2CH3、COCH3、COCH2OH、CHOH
CH3またはCHOHCH2OHであり、R5が、水素
、ヒドロキシル基、メトキシカルボニル基または式II
の構造の基であり、R6が、水素、アルキル基(C1〜
C4)、アリル基、ベンジル基またはモノ−もしくはジ
−メチルオキシ置換ベンジル基、テトラヒドロピラニル
基であり、R7が、水素、アルキル基(Cl〜C4)、
アリル基、ベンジル基またはモノ−もしくはジ−メチル
オキシ置換ベンジル基であり、そしてR8が、式III
またはIVの構造の基である式Iの化合物を製造する請
求項9記載の方法。 - 【請求項17】 R1が、水素またはヒドロキシル基
であり、R2が、水素、ヒドロキシル基またはメトキシ
基であり、R3が、式IIの構造の基であり、R4が、
CH2CH3、COCH3、COCH2OH、CHOH
CH3またはCHOHCH2OHであり、R5が、水素
、ヒドロキシル基、メトキシカルボニル基であり、R6
が、水素、アルキル基(C1〜C4)、アリル基、ベン
ジル基またはモノ−もしくはジ−メチルオキシ置換ベン
ジル基、テトラヒドロピラニル基であり、R7が、水素
、アルキル基(Cl〜C4)、アリル基、ベンジル基ま
たはモノ−もしくはジ−メチルオキシ置換ベンジル基で
あり、そしてR8が、式IIIまたはIVの構造の基で
ある式Iの化合物を製造する請求項9記載の方法。 - 【請求項18】 R1が、水素であり、R2が、水素
、ヒドロキシル基またはメトキシ基であり、R3が、式
IIの構造の基であり、R4が、CH2CH3、COC
H3、COCH2OH、CHOHCH3またはCHOH
CH2OHであり、R5が、水素、ヒドロキシル基、メ
トキシカルボニル基であり、R6が、水素、アルキル基
(C1〜C4)、アリル基、ベンジル基またはモノ−も
しくはジ−メチルオキシ置換ベンジル基、テトラヒドロ
ピラニル基であり、R7が、水素、アルキル基(Cl〜
C4)、アリル基、ベンジル基またはモノ−もしくはジ
−メチルオキシ置換ベンジル基であり、そしてR8が、
式IIIまたはIVの構造の基である式Iの化合物を製
造する請求項9記載の方法。 - 【請求項19】 R1が、水素であり、R2が、水素
、ヒドロキシル基またはメトキシ基であり、R3が、式
IIの構造の基であり、R4が、CH2CH3、COC
H3、COCH2OH、CHOHCH3またはCHOH
CH2OHであり、R5が、水素、ヒドロキシル基、メ
トキシカルボニル基であり、R6が、水素、テトラヒド
ロピラニル基であり、R7が、水素、アルキル基(Cl
〜C4)、アリル基、ベンジル基またはモノ−もしくは
ジ−メチルオキシ置換ベンジル基であり、そしてR8が
、式IIIまたはIVの構造の基である式Iの化合物を
製造する請求項9記載の方法。 - 【請求項20】 R1が、水素であり、R2が、水素
、ヒドロキシル基またはメトキシ基であり、R3が、式
IIの構造の基であり、R4が、CH2CH3、COC
H3、COCH2OH、CHOHCH3またはCHOH
CH2OHであり、R5が、水素、ヒドロキシル基、メ
トキシカルボニル基であり、R6が、水素、テトラヒド
ロピラニル基であり、R7が、水素、アルキル基(Cl
〜C4)、アリル基であり、そしてR8が、式IIIま
たはIVの構造の基である式Iの化合物を製造する請求
項9記載の方法。 - 【請求項21】 R1が、水素であり、R2が、ヒド
ロキシル基またはメトキシ基であり、R3が、式IIの
構造の基であり、R4が、CH2CH3、COCH3ま
たはCOCH2OHであり、R5が、水素、ヒドロキシ
ル基であり、R6が、水素であり、R7が、水素、アル
キル基(Cl〜C4)、アリル基であり、そしてR8が
、式IIIまたはIVの構造の基である式Iの化合物を
製造する請求項9記載の方法。 - 【請求項22】 R1が、水素であり、R2が、ヒド
ロキシル基であり、R3が、式IIの構造の基であり、
R4が、CH2CH3であり、R5が、ヒドロキシル基
であり、R6が、水素であり、R7が、メチル基であり
、そしてR8が、式IIIまたはIVの構造の基である
式Iの化合物を製造する請求項9記載の方法。 - 【請求項23】 R1が、水素であり、R2が、ヒド
ロキシル基であり、R3が、式IIの構造の基であり、
R4が、CH2CH3であり、R5が、ヒドロキシル基
であり、R6が、水素であり、R7が、メチル基であり
、そしてR8が、式IIIの構造の基である式Iの化合
物を製造する請求項9記載の方法。 - 【請求項24】 医薬としての請求項1記載の化合物
の使用。
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