JPH04326814A - 論理回路 - Google Patents
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
電位検出点の電位をクロック信号と入力信号に基づいて
高速に検出する論理回路に関する。
回路の構成を示す図であり、図11は図10に示す論理
回路の動作タイミングを示す図である。
PチャネルのMOSトランジスタ(以下、「PMOS」
と呼ぶ)101とNチャンネルのMOSトランジスタ(
以下、「NMOS」と呼ぶ)からなる論理スイッチ10
2との直列接続点N1がプリチャージ期間に導通状態の
PMOS101により電源電位VDDにプリチャージさ
れた後、エバリュエーション期間に論理スイッチ102
が入力I1 〜In に基づいて接続点N1と接地電源
VSSとを短絡することにより接続点N1を接地電位に
引き落とし、この電位変化をインバータ回路103によ
り検出して出力する。
1の負荷容量104が大きい場合には、論理スイッチ1
02が接続点N1の電位を降下させて、図11に示すよ
うに、接続点N1の電位を電源電位VDDからインバー
タ回路103のスイッチング点の電位に降下させるまで
の時間TEVが長くなり、接続点N1の電位変化の検出
が遅れるといった不具合が生じていた。
に、インバータ回路103を構成するFETの回路定数
例えばしきい値電圧を変更することによって、スイッチ
ング点を電源電位側に移動させるといった方法があるが
、一般にインバータ回路のスイッチング点を大きく移動
させることは困難であり、また、スイッチング点の移動
によりハイレベルからロウレベルへの電位変化の検出は
速くなるが、ロウレベルからハイレベルの検出が非常に
遅くなり、検出のバランスが悪くなる。さらに、しきい
値電圧は、製造プロセスにより決定されるため、製造プ
ロセスの進歩がないかぎりしきい値の大幅な変更は極め
て困難である。
、図12に示すように、接続点N1をプリチャージする
トランジスタをNMOS105で構成し、接続点N1の
プリチャージレベルをVDD−VTN(VTNはNMO
S105のしきい値電圧)とする方法がある。しかしな
がら、この方法にあっては、接続点N1のプリチャージ
レベルにバラツキが生じ易くなり、動作マージンが少な
くなってしまう。また、接続点N1が長時間ディスチャ
ージされない場合には、NMOS105における非導通
時のリーク電流により接続点N1の電位が電源電位VD
Dまで引き上げられてしまい、高速な電位検出ができな
くなってしまう。
電位変化を検出する従来のダイナミック型の論理回路に
あっては、電位検出点の負荷が大きい場合に高速な電位
検出が困難となり、電位検出を高速に行なおうとすると
、検出のバランスが悪化したり動作マージンが少なくな
るといった不具合を招いていた。
たものであり、その目的とするところは、検出バランス
ならびに動作マージンを損なうことなく、低消費電力で
高速な電位変化の検出を達成し得る論理回路を提供する
ことにある。
に、この発明は、電位検出点の電位の高低を判定する出
力手段と、前記出力手段のスイッチング点の電位と第1
の電源電位との間の電位を出力端から供給する電圧供給
手段と、前記電圧供給手段の出力端と前記電位検出点と
の間を導通制御する第1導通型の第1のFET(電界効
果トランジス)と、前記電位検出点と第2の電源との間
を入力信号にしたがって導通制御するスイッチ手段とか
ら構成される。
電位を第1の電源電位と出力手段のスイッチング点の電
位との間の電位に電圧供給手段により設定した状態で、
電位検出点の入力信号による電位変化を検出するように
している。
する。
の構成を示す図である。同図に示す実施例の論理回路は
、電位変化を検出する検出点をクロック信号にしたがっ
てハイレベルにプリチャージした状態において、検出点
の電位が接地電位に達するような電位変化を検出するよ
うにしたものである。
φにしたがって導通制御されるプリチャージ用のPMO
S1が、高位電源VDDの電位を降下させる電源電圧降
圧回路2の出力端と入力信号I1 〜In にしたがっ
て導通制御される論理スイッチ3との間に接続され、そ
の接続点N1が電位変化の検出点として接続点N1の電
位を反転出力するインバータ回路4に接続されて構成さ
れている。なお、接続点N1に接続されている容量5は
、接続点N1に付加した寄性容量である。
ミングチャートに示すように、プリチャージ期間に、接
続点N1の電位が電源電圧降圧回路2によって、インバ
ータ回路4のスイッチング点の電位(ほぼ電源電位VD
Dの半分とする)と電源電位VDDとのほぼ中間の電位
にプリチャージされ、このような状態において、例えば
入力信号に基づいて接続点N1と接地電源が論理スイッ
チ3を介して短絡され、この時の電位変化がインバータ
回路4の出力として検出される。
のプリチャージ電位、すなわち電源電圧降圧回路2の出
力電位は、電源電位VDDとインバータ回路4のスイッ
チング点の電位との間の電位が設定され、PMOS1の
しきい値電圧をVTPとすると、(電源電位VDD−2
|VTP|)で決まる電位よりも高い電位とし、特に低
消費電力用としては(VDD−|VTP|)程度に設定
するのが好ましい。
バータ回路の伝達特性を参照して説明する。
rinciple of CMOS VLSI
Design P.506」に示されている図3の伝
達特性において、動作マージンが確保される入力電圧(
Vi )の範囲を、|dVo /dVi (特性曲線の
傾き)|<1と定義する。このような定義は当技術分野
にあっては妥当なものと言える。
るために、|VTP|=VTN(VTNはNMOSのし
きい値電圧とする)とし、(βn /βp )=1(β
p ,βn はそれぞれPMOS,NMOSのコンダク
タンスとする)とし、さらに、電源電圧VDDとVTN
との関係をVTN=VDD/5という現実的な値に設定
すると、動作マージンが確保される入力電圧Vi の範
囲は、 0≦Vi <17VTN/8, VDD−(17|VTP|/8)<Vi ≦VDDとな
る。
位からそれぞれのPMOS,NMOSのしきい値電圧の
絶対値の2倍の値の範囲では、動作マージンが確保され
るということが結論づけられる。特に、入力電圧Vi
が、 VDD−|VTP|≦Vi ≦VDD の範囲にあっては、電位変化を検出出力するインバータ
回路4を構成するPMOSが完全に非導通状態となるた
め、より一層の低消費電力及び高動作マージンを実現す
ることが可能となる。
れた状態で接続点N1のプリチャージ電位が電源電位V
DDよりも低く設定されることによって、例えば接続点
N1のプリチャージ電位を(VDD−|VTP|)とし
、説明を簡単にするために、|VTP|=VDD/5、
インバータ回路4のスイッチング点の電位VSPをVD
D/2とすると、従来例と本発明との接続点N1におけ
る電位変化を表した図4に示すように、接続点N1の電
位がスイッチング点の電位VSPに達するまでの時間が
大幅に短縮され、次式で表わされるように、電位変化の
検出速度を約40%程度向上させることができるように
なる。
=1−{(VDD/2)−(VDD/5)}/(VDD
/2)=1−(3/5)=40(%) 次に、図1に示した論理回路の具体的な一実施例を説明
する。
を示す図である。
は、PMOS21と微小定電流回路22とからなる基準
電圧発生回路5と、図5(b)に示すように構成された
カレントミラー形の差動増幅器23と、接続点N1をプ
リチャージする電圧を出力するPMOS24とから構成
されている。
ば高抵抗のポリシリコンや長チャンネル長のトランジス
タからなる微小定電流回路22によりほぼ非導通状態と
なるように流れる電流が設定され、そのドレイン端子か
ら電源電圧VDD−|VTP|前後の基準電圧(Vre
f )が差動増幅器23の一方の入力端に与えられる。 これにより、電源電圧降圧回路2の出力端となる差動増
幅器23の他方の入力端及びPMOS24のドレイン端
子に基準電圧(Vref )が生成され、この基準電圧
がプリチャージ電圧として接続点N1に与えられる。
は、上述した基準電圧を受けてPMOS21と同様にほ
ぼ非導通状態となり、プリチャージ状態にあってはイン
バータ回路4はロウレベル出力を与えることになり、動
作マージンは確保されることになる。また、インバータ
回路4のPMOS41がほぼ非導通状態であるため、イ
ンバータ回路4の貫通電流は極めて微小なものとなり、
低消費電力を実現することができる。
それぞれ対応する入力信号I1 〜In により導通制
御されるn個のNMOSが接続点N1と接地電源との間
に並列接続されて構成され、エバリュエーション期間に
少なくとも1以上の入力信号がハイレベルになることに
よって接続点N1の電位をロウレベルに低下させる。こ
のような論理スイッチ3では、NMOSのドレイン容量
及び配線容量が接続点N1の負荷容量となるため、NM
OSの個数が増加するにしたがって負荷容量が増え、接
続点N1における電位の降下速度は制限を受けることに
なる。
を電源電位VDDよりも低く設定することにより、接続
点N1の負荷容量が大きい場合にあっても、高速に電位
変化を検出できることになる。
いて、より低消費電力で高動作マージンを実現するため
には、基準電圧発生回路のPMOS21のしきい値電圧
をインバータ回路4のPMOSのしきい値よりも小さく
設定するようにすればよい。
タ回路4を含む論理回路全体を、同一の半導体基板に集
積化して形成することにより、接続点N1のプリチャー
ジ電位とインバータ回路4におけるスイッチング点の電
位との間に整合性がとれ、製造プロセスのバラツキや電
源電圧、温度変化に対して、マージンのある動作を実現
することができる。
型のRAMにおけるメモリセル及びその周辺回路に適用
した構成を示す図であり、図6において、プリチャージ
用のトランジスタがビット線(BL,/BL)をプリチ
ャージするPMOS12に、論理スイッチがメモリセル
13に、出力回路がインバータ14にそれぞれ相当する
。
モリセルのトランスファゲートやドライバトランジスタ
の大きさは小さいため、ビット線の駆動能力が低くなり
、また、ビット線には大きな寄性容量が付くためビット
線をディスチャージする速度は遅くなるので、この発明
の適用が極めて有効に作用することになる。
リ(CAM)を含むTLB(Translation
Look−aside Buffer )に適用した構
成を示す図である。図7において、論理スイッチがCA
Mのメモリセル15に、電位検出点がマッチ線16に、
プリチャージ用のトランジスタがPMOS17に、出力
回路がインバータ回路18にそれぞれ相当する。
5がマッチ線16をディスチャージする速度に制限を受
けるので、この発明の適用は極めて有効なものとなる。
るものではなく、例えば図8に示すように、図1に示し
た論理回路に対して論理スイッチ3と接地電源との間に
クロック信号により導通制御されるNMOS30を挿入
し、接続点N1のプリチャージ期間においてNMOS3
0を非導通状態にして、貫通電流を防止するようにして
もよい。
もコンダクタンスの高いNMOSを用いて論理スイッチ
3を構成し、占有面積及び速度に対して特に有利性を得
ているが図9に示すように、論理スイッチ31をPMO
Sで構成し、接続点N1のプリディスチャージ用のトラ
ンジスタをNMOS32で構成し、接地電源を前述した
と同様の論理に基づいて昇圧(上昇)させる接地電位昇
圧回路33により接続点N1をプリディスチャージした
状態において電位変化の検出を行うようにしてもよい。
、電位検出点の電位を第1の電源電位と出力手段のスイ
ッチング点の電位との間の電位に電圧供給手段から供給
される電位によって設定した状態で、電位検出点の入力
信号による電位変化を検出するようにしたので、検出バ
ランス及び動作マージンを損なうことなく、低消費電力
で高速な電位変化の検出を達成することができる。また
、電位検出点の振幅が制限されるため、低消費電力な動
作も実現することができる。
す図である。
る。
す図である。
図である。
示す図である。
示す図である。
す図である。
である。
を示す図である。
タ2 電源電圧降圧回路 3,31 論理スイッチ 4 インバータ 5 負荷 22 微小定電流回路 23 差動増幅器 32 NチャネルMOSトランジスタ33 接地電
位昇圧回路
Claims (5)
- 【請求項1】 電位検出点の電位の高低を判定する出
力手段と、前記出力手段のスイッチング点の電位と第1
の電源電位との間の電位を出力端から供給する電圧供給
手段と、前記電圧供給手段の出力端と前記電位検出点と
の間を導通制御する第1導電型の第1のFET(電界効
果トランジス)と、前記電位検出点と第2の電源との間
を入力信号にしたがって導通制御するスイッチ手段とを
有することを特徴とする論理回路。 - 【請求項2】 前記スイッチ手段と第2の電源との間
に接続されて前記第1のFETの状態と逆の状態に導通
制御されてなる第2導電型の第2のFETを有すること
を特徴とする請求項1記載の論理回路。 - 【請求項3】 前記第1のFETのしきい値電圧をV
T とすると、前記電圧供給手段は、その供給電位が(
第1の電源電位)−2|VT |よりも高いことを特徴
とする請求項1又は2記載の論理回路。 - 【請求項4】 前記電圧供給手段は、ゲート端子が基
準電圧出力端に接続されて第1の電源と前記基準電圧出
力端との間に挿入された第1導電型のFETと、このF
ETに流れる電流を設定する電流設定手段とからなる基
準電圧発生手段と、一方の入力端に前記基準電圧発生手
段から発生される基準電圧が与えられ、他方の入力端が
前記電圧供給手段の出力端とする差動増幅器と、前記差
動増幅器の出力により導通制御されて第1の電源と前記
電圧供給手段の出力端との間に接続された第1導電型の
FETとを備えてなることを特徴とする請求項1,2又
は3記載の論理回路。 - 【請求項5】 前記第1導電型のFETは、そのしき
い値電圧の絶対値が前記出力手段を構成する一方のトラ
ンジスタのしきい値電圧の絶対値よりも高いことを特徴
とする請求項4記載の論理回路。
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