JPH0432582A - クロメート処理したステンレス鋼のエッチング方法 - Google Patents
クロメート処理したステンレス鋼のエッチング方法Info
- Publication number
- JPH0432582A JPH0432582A JP13839990A JP13839990A JPH0432582A JP H0432582 A JPH0432582 A JP H0432582A JP 13839990 A JP13839990 A JP 13839990A JP 13839990 A JP13839990 A JP 13839990A JP H0432582 A JPH0432582 A JP H0432582A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- chromate film
- stainless steel
- resist
- resist layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 14
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 18
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 7
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 aromatic azide compound Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はクロメート処理したステンレス鋼のエツチング
方法に関するものである。
方法に関するものである。
従来の技術
ステンレス鋼のエツチングは、最新表面処理技術委員全
編、表面処理技術総覧（１９８７）の１０８４頁に示さ
れているように、塩化第二鉄溶液、硝酸を含む塩化第二
鉄溶液又は塩酸と硝酸から成る溶液で直接エツチングに
よって製造することが紹介されている。
編、表面処理技術総覧（１９８７）の１０８４頁に示さ
れているように、塩化第二鉄溶液、硝酸を含む塩化第二
鉄溶液又は塩酸と硝酸から成る溶液で直接エツチングに
よって製造することが紹介されている。
発明が解決しようとする課題
クロメート皮膜は日本鉄鋼協会、鉄鋼便覧第３版（１９
Ｂ４）の４０８頁に示されているように、その組成は金
属クロムと水和酸化クロムからなり、膜厚さは１μｍ以
下と非常に薄い、しかし、そのクロメート皮膜は、ステ
ンレス鋼のエツチングに一般に用いられている塩化第二
鉄溶液等に対して耐酸性があり、不均一に溶解され易い
、このためクロメート皮膜直下のステンレス鋼の溶解の
され方に差が生じ、溶解面の凹凸や所要面寸扶などに影
響する不良が発生しやすい。
Ｂ４）の４０８頁に示されているように、その組成は金
属クロムと水和酸化クロムからなり、膜厚さは１μｍ以
下と非常に薄い、しかし、そのクロメート皮膜は、ステ
ンレス鋼のエツチングに一般に用いられている塩化第二
鉄溶液等に対して耐酸性があり、不均一に溶解され易い
、このためクロメート皮膜直下のステンレス鋼の溶解の
され方に差が生じ、溶解面の凹凸や所要面寸扶などに影
響する不良が発生しやすい。
そこで、本発明は塩化第二鉄溶液等に対して耐食性に優
れるレジスト除去部に露呈させたクロメート皮膜層を溶
解させる前処理によって短時間に除去し、次いで塩化第
二鉄溶液等によってエツチングする二段エツチングを行
うことにより、不均−溶解を解決し溶解面の凹凸をなく
し、高精度の画才法を得ることを目的とする。
れるレジスト除去部に露呈させたクロメート皮膜層を溶
解させる前処理によって短時間に除去し、次いで塩化第
二鉄溶液等によってエツチングする二段エツチングを行
うことにより、不均−溶解を解決し溶解面の凹凸をなく
し、高精度の画才法を得ることを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明はクロメート処理したステンレス材ノエッチング
において該クロメート皮膜の全面にレジスト層を形成し
、次いで該レジスト層を露光後現像させて不要部分のレ
ジストを除去して所定の模様をもつレジストパターンを
形成し、レジストを除去した部分の前記クロメート皮膜
の溶解を行う前処理を行い、次いでステンレス鋼をエツ
チングすることを特徴とするエツチング方法である。
において該クロメート皮膜の全面にレジスト層を形成し
、次いで該レジスト層を露光後現像させて不要部分のレ
ジストを除去して所定の模様をもつレジストパターンを
形成し、レジストを除去した部分の前記クロメート皮膜
の溶解を行う前処理を行い、次いでステンレス鋼をエツ
チングすることを特徴とするエツチング方法である。
作用
クロメート皮膜の溶解には日本鉄鋼協会、鉄鋼便覧第３
版（１９８４） （７） ４１０頁ニ９０〜１００”０
（７）水酸化ナトリウムで５分で可能とされいる。しか
し、フォトエツチングではレジスト除去部に露呈したク
ロメート皮膜を除去し、回りを保護しているレジストの
溶解又は剥離があってはならない、そのために短時間に
、且つ液温度がより低温でクロメト皮膜を除去すること
が望ましい。
版（１９８４） （７） ４１０頁ニ９０〜１００”０
（７）水酸化ナトリウムで５分で可能とされいる。しか
し、フォトエツチングではレジスト除去部に露呈したク
ロメート皮膜を除去し、回りを保護しているレジストの
溶解又は剥離があってはならない、そのために短時間に
、且つ液温度がより低温でクロメト皮膜を除去すること
が望ましい。
第１表にクロメート皮膜の溶解液例を示した。
クロメート皮膜を短時間に、作業性よく溶解する溶解液
は水酸化ナトリウムと過酸化水素水の水溶液であった。
は水酸化ナトリウムと過酸化水素水の水溶液であった。
水酸化ナトリウムと過酸化水素水の水溶液の水酸化ナト
リウムと過酸化水素水の濃度範囲は、試験をした第１表
中の水溶液の液温度が５０℃以上であれば何れも適用で
き、前者が２〜３０％、後者が２〜１２％である。クロ
メート皮膜の溶解の判定はクロメート処理面の色または
光沢などの目視判定で十分であり、エツチング面に凹凸
のない仕上がり形状に導かれる。
リウムと過酸化水素水の濃度範囲は、試験をした第１表
中の水溶液の液温度が５０℃以上であれば何れも適用で
き、前者が２〜３０％、後者が２〜１２％である。クロ
メート皮膜の溶解の判定はクロメート処理面の色または
光沢などの目視判定で十分であり、エツチング面に凹凸
のない仕上がり形状に導かれる。
実施例
以下、本発明の詳細な説明する。
クロメート処理したステンレス箔に耐酸性の良いフォト
ポリマー系油溶性レジストである環化ゴムと芳香族アジ
ド化合物とのキシレン溶液を一塗布し乾燥させる０次い
でフォトマスクとクロメート皮膜側とを密着させて露光
しパターンを焼き付ける。ついで溶剤を用い現像する。
ポリマー系油溶性レジストである環化ゴムと芳香族アジ
ド化合物とのキシレン溶液を一塗布し乾燥させる０次い
でフォトマスクとクロメート皮膜側とを密着させて露光
しパターンを焼き付ける。ついで溶剤を用い現像する。
現像によってレジスト除去部に露呈させたクロメート皮
膜を水酸化ナトリウム２．０ｗｔ％と過酸化水素水３．
５ｗｔ％の水溶液で液温度７０℃に５秒浸漬し、溶解さ
せた後に基板のステンレス鋼を塩化第二鉄溶液（４５％
）で液温度５０℃のエツチング液によってスプレ一方式
（スプレー圧力１．５ｋｇ／ｃ薦２）でエツチングした
。フォトレジスト除去部のクロメート皮膜の前処理を１
７ないで直接に塩化第二鉄溶液（４５％）、５０℃のエ
ツチング液によってスプレ一方式（スプレー圧力１．５
ｋｇ／ｃ璽２）でエツチングした例を第２図に、本発明
の実施例を第１図に示す０本発明では確実にクロメート
皮膜下のステンレス鋼部の均一溶解を得て、溶解面の凹
凸がないエツチング仕上がりを達成できる。
膜を水酸化ナトリウム２．０ｗｔ％と過酸化水素水３．
５ｗｔ％の水溶液で液温度７０℃に５秒浸漬し、溶解さ
せた後に基板のステンレス鋼を塩化第二鉄溶液（４５％
）で液温度５０℃のエツチング液によってスプレ一方式
（スプレー圧力１．５ｋｇ／ｃ薦２）でエツチングした
。フォトレジスト除去部のクロメート皮膜の前処理を１
７ないで直接に塩化第二鉄溶液（４５％）、５０℃のエ
ツチング液によってスプレ一方式（スプレー圧力１．５
ｋｇ／ｃ璽２）でエツチングした例を第２図に、本発明
の実施例を第１図に示す０本発明では確実にクロメート
皮膜下のステンレス鋼部の均一溶解を得て、溶解面の凹
凸がないエツチング仕上がりを達成できる。
（以下余白）
発明の効果
以上述べたように、本発明によれば、耐酸性に優れたク
ロメート処理をしたステンレス鋼の箔及び鋼板について
、溶解面の凹凸がない、精度よい画才法のエツチング加
工が達成できる。
ロメート処理をしたステンレス鋼の箔及び鋼板について
、溶解面の凹凸がない、精度よい画才法のエツチング加
工が達成できる。
第１図は本発明法の断面の凹凸を示す説明図、第２図は
従来法の断面の凹凸を示す説明図である。
従来法の断面の凹凸を示す説明図である。
Claims (1)
- クロメート処理したステンレス材のエッチングにおいて
、該クロメート皮膜の全面にレジスト層を形成し、次い
で該レジスト層を露光後現像させて不要部分のレジスト
を除去して所定の模様をもつレジストパターンを形成し
、レジストを除去した部分の前記クロメート皮膜の溶解
を行う前処理を行い、次いでステンレス鋼をエッチング
することを特徴とするエッチング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13839990A JPH0432582A (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | クロメート処理したステンレス鋼のエッチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13839990A JPH0432582A (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | クロメート処理したステンレス鋼のエッチング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0432582A true JPH0432582A (ja) | 1992-02-04 |
Family
ID=15221046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13839990A Pending JPH0432582A (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | クロメート処理したステンレス鋼のエッチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0432582A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011168017A (ja) * | 2010-02-22 | 2011-09-01 | Nisshin Steel Co Ltd | ステンレス鋼板と熱可塑性樹脂組成物の成形体とが接合された複合体、およびその製造方法 |
-
1990
- 1990-05-30 JP JP13839990A patent/JPH0432582A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011168017A (ja) * | 2010-02-22 | 2011-09-01 | Nisshin Steel Co Ltd | ステンレス鋼板と熱可塑性樹脂組成物の成形体とが接合された複合体、およびその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4069076A (en) | Liquid lamination process | |
| JP3117386B2 (ja) | 基板を選択的に金属被覆する方法 | |
| CA1079614A (en) | Etching composition and method for using same | |
| JPH0394418A (ja) | 金属マスク集積によるプラズマ処理方法 | |
| JPS62247085A (ja) | フオトエッチング法による金属薄板の加工方法 | |
| US5503961A (en) | Process for forming multilayer lift-off structures | |
| US3539408A (en) | Methods of etching chromium patterns and photolithographic masks so produced | |
| TW444526B (en) | Process for the production of etched circuits | |
| US3240684A (en) | Method of etching rhodium plated metal layers and of making rhodium plated printed circuit boards | |
| JPH0432582A (ja) | クロメート処理したステンレス鋼のエッチング方法 | |
| JP4085384B2 (ja) | 薄膜パターンの形成方法 | |
| US5755947A (en) | Adhesion enhancement for underplating problem | |
| JPH026833B2 (ja) | ||
| US2258520A (en) | Engraving plate | |
| JPH0441685A (ja) | 硬質セラミックス皮膜を被覆したステンレス鋼のエッチング方法 | |
| US20060266731A1 (en) | Etchant rinse method | |
| WO2008065976A1 (fr) | Procédé de formation de motif conducteur | |
| TWI716332B (zh) | 去除轉印滾輪的拆版線的方法 | |
| JPH01151237A (ja) | 透明導電性膜のエツチング方法 | |
| JPS593421B2 (ja) | ソウシヨクカガミノ セイゾウホウ | |
| JPS6045242A (ja) | パターン形成方法 | |
| JPS60217636A (ja) | 透明導電膜のエツチング方法 | |
| JPH01189907A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 | |
| JPH0629353A (ja) | フィルムチップキャリアの製造方法 | |
| JP2001124916A (ja) | カラーフィルター用ガラス基板の再生方法 |