JPS593421B2 - ソウシヨクカガミノ セイゾウホウ - Google Patents

ソウシヨクカガミノ セイゾウホウ

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Publication number
JPS593421B2
JPS593421B2 JP11617074A JP11617074A JPS593421B2 JP S593421 B2 JPS593421 B2 JP S593421B2 JP 11617074 A JP11617074 A JP 11617074A JP 11617074 A JP11617074 A JP 11617074A JP S593421 B2 JPS593421 B2 JP S593421B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
copper
silver
coating
relief
Prior art date
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Expired
Application number
JP11617074A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5143156A (en
Inventor
靖雄 加藤
友行 吉野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Central Glass Co Ltd filed Critical Central Glass Co Ltd
Priority to JP11617074A priority Critical patent/JPS593421B2/ja
Publication of JPS5143156A publication Critical patent/JPS5143156A/ja
Publication of JPS593421B2 publication Critical patent/JPS593421B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は鏡面と装飾模様が共存する新規な鏡の製造法で
ある。
従来から、ガラス表面に塗料等で装飾模様を描 。
いた鏡がまれに見られたが、このような装飾模様は剥離
し易く、該模様層が被写体の映像効果を著しく低下させ
る等、種々の欠点があつた。また銀膜に直接に装飾模様
を施したものも知られているが、その場合には銀膜の損
傷や銀膜の劣化があつたりするし、裏止め塗料をもつ普
通の鏡での装飾5 模梢功ロエもあるものの、この場合
はコスト高および裏止め塗料の劣化、模様の境界線の不
鮮明等を招きかねなかつた。本発明の目的は銀引き面の
微少の貫通孔を倉して鏡面上に装飾模様を現出させるこ
とを特徴とす10るものであつて、被写体の映像が粗害
されることが少く、かつ映像と装飾模様が効果的に共存
し得る新規な装飾鏡の製造法を提供するにある。
すなわち、ガラス板片側表面に銀引きによつて銀の薄膜
を形成し、該銀薄膜表面に銅引きを行な15つて銅保護
被膜を施し、該銅引き面に感光性樹脂を所要の厚さに塗
布して膜を形成せしめ、乾燥してなる被膜上にネガフィ
ルムを載置し、該ネガフィルムを倉して露光を行つてレ
リーフ(画線部)を形成し、未露光の未硬化部分は溶出
除去し、銅フ0 引き面の露出を行う。さらに必要に応
じて後露光をして仕上げをすることができる。しかる後
、銅と銀を同時に腐蝕する腐蝕液で該露出銅引き面と内
側銀引き面の腐蝕除去を行つてガラス面を露出させ、該
露出ガラス面およびレリノ5−フを着色合成樹脂膜また
は模様を有する合成樹脂膜をもつて被覆する。
また上記の合成樹脂膜を保護するため、該合成樹脂膜上
に保護層を設けた方が良い。またレリーフは銅と銀引き
面の溶出除去後は、本来の機能を終了するので、レリー
フ剥10離液で溶出除去してもよい。本発明の方法にお
いて用いられる感光樹脂は、光によつて不溶化する樹脂
であつて、硝酸水溶液のような銅と銀引き面を溶かす溶
剤には浸されにくい樹脂であれば任意のものでよく、ポ
リけい皮15酸ビニル等のけい皮酸基を感光基とするけ
い皮酸感光性樹脂、ポリビニルフリアクリレート等のフ
リルアクリル酸系感光性樹脂等が代表的なもので、ヘワ
ーこれらは通常の増感剤を含むことができる。
この他、ポリビニルアルコール、ポリエステル系、ナイ
ロン系樹脂等を適宜の橋かけ剤、増感剤等と組合わせて
用いることができる。これらの感光性樹脂は通常液状と
して塗布するが、その厚さは50μ〜1.1[0m1程
度がよい。露光条件は用いる感光性樹脂の種類によつて
変るが、通常は螢光灯、水銀灯、アーク灯等を用いて紫
外線照射をすることにより行なう。
露光によつてレリーフ部(硬化部)を形成し、未硬化部
(未露光部)は水または希アルカリ水溶液をスブレイし
て溶出させる。(ウオツシユアウト)。アルカリとして
はか性ソーダ、炭酸ソーダ等を用いる。次いで露出した
銅引き薄膜と内側の銀引き薄膜は、硝酸または塩化第2
鉄の水溶液からなる腐食液により浸漬またはスブレイに
よつて溶解除去すする。
濃度は30〜4001)とするのが好ましい。図面は本
発明の実施の一例を示すものである。第1図に示される
ガラス板上に順次、銀引き面2銅保護膜3を形成し、該
銅保護膜上に不飽和ポリエステル、ビニルモノマー、光
重合開始剤等からなる感光性樹脂組成液を塗布し、約6
0℃で10〜20分間乾燥して、厚さ50〜500μの
被膜4を形成した後、ネガフイルム5を載置し、紫外線
照射を行う。紫外線aはネガフイルム5を通過するが、
bは遮断される。紫外線aによつて、第2図〜第5図に
示されるレリーフlが形成される。露光後、レリーフ面
を下向きにセツトし、まず水で予備洗浄してからつぎに
弱アルカリ水を吹きつけると、第2図に示される未硬化
部分4″l)S洗い流されて、第3図に示されるように
レリーフ部分のみが残る。ウオツシユアウト後、数分間
後露光を行う。第3図に示される露出銅被膜3、直下の
銀引き面2を濃度30〜40(:11)の硝酸または塩
化第2鉄溶液で溶出除去してガラス面を露出させる。
第5図に示されるように、レリーフおよび露出ガラス面
を着色合成樹脂膜または模様を有する合成樹脂膜6をも
つて被覆した後、保護層7を設ける。本発明では銅保護
被膜面に感光性樹脂膜を形成するので、銀引き面に直接
、感光性樹脂膜を形成するよりも密着性がよく、銅銀膜
の模様の境界線がはつきりし、貫重な銀引き面の損傷も
なく、露光時のハレーシヨンも少くすることができ、装
飾鏡の製造法として卓越した効果を得た。
また本発明の方法によつて得られる装飾鏡はガラス板上
に残存する銀引き面によつて、被写体を映し出すととも
に、上記のような多数の微少貫通口と着色合成樹脂膜ま
たは模様を有する合成樹脂膜の作用によつて各種の装飾
模様を非常に明確に現出されることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第5図は本発明の実施態様を示す拡大断面図、
第1図はガラス板1に順次密着せる銀引き面2および銅
保護被膜3に感光性樹脂膜4を形成し、ネガフイルム5
を載置して紫外線を照射する実施態様であつて、紫外線
aはネガフイルムを通過するが、bは遮断される。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ガラス板の片側表面に銀引きによつて銀の薄膜を形
    成し、該銀薄膜表面に銅引きを行なつて銅保護被膜を施
    し、該銅引き面に感光性樹脂を塗布して被膜を形成せし
    め、該被膜上にネガフィルムを載置し、ネガフィルムを
    介して露光を行つてレリーフを形成した後、未露光部の
    未硬化部分を溶出除去して銅引き面の露出を行い、さら
    に該銅引き面および銀引き面を腐食溶出除去してガラス
    面を露出させた後、該露出ガラス面およびレリーフを着
    色合成樹脂膜または模様を有する合成樹脂膜をもつて被
    覆することを特徴とする装飾鏡の製造法。
JP11617074A 1974-10-11 1974-10-11 ソウシヨクカガミノ セイゾウホウ Expired JPS593421B2 (ja)

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JPS5143156A JPS5143156A (en) 1976-04-13
JPS593421B2 true JPS593421B2 (ja) 1984-01-24

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JP11617074A Expired JPS593421B2 (ja) 1974-10-11 1974-10-11 ソウシヨクカガミノ セイゾウホウ

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009511308A (ja) * 2005-10-17 2009-03-19 レオンハード クルツ シュティフトゥング ウント コー. カーゲー 多層体およびその製造方法

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JPS5213348A (en) * 1975-07-23 1977-02-01 Sumitomo Chem Co Ltd A method of producing a pattern on mirrors
JPS5386963A (en) * 1977-01-10 1978-07-31 Koshihara Sogyo Small reduction gear

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009511308A (ja) * 2005-10-17 2009-03-19 レオンハード クルツ シュティフトゥング ウント コー. カーゲー 多層体およびその製造方法

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