JPH04324277A - 赤外線輻射ヒータ - Google Patents
赤外線輻射ヒータInfo
- Publication number
- JPH04324277A JPH04324277A JP9573291A JP9573291A JPH04324277A JP H04324277 A JPH04324277 A JP H04324277A JP 9573291 A JP9573291 A JP 9573291A JP 9573291 A JP9573291 A JP 9573291A JP H04324277 A JPH04324277 A JP H04324277A
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- JP
- Japan
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- heater
- infrared
- infrared rays
- insulating case
- heater wire
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 13
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 2
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
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- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 3
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は加熱調理器、及び暖房器
などに使用するハロゲンヒータ、赤外線ヒータ等の赤外
線輻射ヒータに関する。
などに使用するハロゲンヒータ、赤外線ヒータ等の赤外
線輻射ヒータに関する。
【0002】
【従来の技術】実開平2−4108号公報では、図5に
示すように赤外線を輻射するヒータ線21を収容し、赤
外線を透過する円形パイプ状の絶縁ケース22の略上半
分に耐熱白色塗装部23を設けて、ヒータ線より輻射さ
れる赤外線を、所望方向に反射させる赤外線輻射ヒータ
が開示されている。
示すように赤外線を輻射するヒータ線21を収容し、赤
外線を透過する円形パイプ状の絶縁ケース22の略上半
分に耐熱白色塗装部23を設けて、ヒータ線より輻射さ
れる赤外線を、所望方向に反射させる赤外線輻射ヒータ
が開示されている。
【0003】しかし、上記赤外線輻射ヒータは、絶縁ケ
ース22の円筒の中心部に配設されているため、耐熱白
色塗装部23で反射された赤外線が、矢印の如くヒータ
線21に集中し、ヒータ線の温度を上昇させヒータ寿命
を短くする欠点があった。
ース22の円筒の中心部に配設されているため、耐熱白
色塗装部23で反射された赤外線が、矢印の如くヒータ
線21に集中し、ヒータ線の温度を上昇させヒータ寿命
を短くする欠点があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ヒータ線を収容する絶
縁ケースに設けられた、赤外線反射膜で反射された赤外
線の影響によるヒータ線の温度上昇を小さくして、ヒー
タ寿命の向上を図るものである。
縁ケースに設けられた、赤外線反射膜で反射された赤外
線の影響によるヒータ線の温度上昇を小さくして、ヒー
タ寿命の向上を図るものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明は、赤外線を輻
射するヒータ線と、このヒータ線を収容し赤外線を透過
するパイプ状の絶縁ケースと、この絶縁ケース表面の一
部に形成された赤外線反射膜とからなる赤外線輻射ヒー
タにおいて、上記絶縁ケースに平坦部を形成し、この平
坦部に反射膜を形成する。又は、上記絶縁ケースの断面
形状を長円、若しくは楕円に形成する。又は、上記絶縁
ケースの断面形状を円形に形成するとともに、上記絶縁
ケースの断面中心より変位した位置にヒータ線を配設す
る。
射するヒータ線と、このヒータ線を収容し赤外線を透過
するパイプ状の絶縁ケースと、この絶縁ケース表面の一
部に形成された赤外線反射膜とからなる赤外線輻射ヒー
タにおいて、上記絶縁ケースに平坦部を形成し、この平
坦部に反射膜を形成する。又は、上記絶縁ケースの断面
形状を長円、若しくは楕円に形成する。又は、上記絶縁
ケースの断面形状を円形に形成するとともに、上記絶縁
ケースの断面中心より変位した位置にヒータ線を配設す
る。
【0006】
【作用】赤外線反射膜で反射された赤外線が、ヒータ線
に集中することなく、所望方向に効率よく赤外線を反射
させることができる。
に集中することなく、所望方向に効率よく赤外線を反射
させることができる。
【0007】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
図1は第1の実施例を示し、1は赤外線を輻射するヒー
タ線、2はこのヒータ線を収納し赤外線を透過するパイ
プ状の絶縁ケースで、この絶縁ケース2軸線上に所定間
隔毎に設けられた、図示しない支持線でヒータ1を絶縁
ケース2内の所定位置に配設している。上記絶縁ケース
2の断面形状は平坦部3を有し、図1aにおいては半円
状に、図1bにおいては多角形、具体的には三角形とな
っており、この平坦部3にヒータ線1より輻射された赤
外線を効率よく反射させる赤外線反射被膜4が設けられ
ている。この赤外線を効率よく反射させるには、種々の
被膜があるが、金の被膜が最良である。
タ線、2はこのヒータ線を収納し赤外線を透過するパイ
プ状の絶縁ケースで、この絶縁ケース2軸線上に所定間
隔毎に設けられた、図示しない支持線でヒータ1を絶縁
ケース2内の所定位置に配設している。上記絶縁ケース
2の断面形状は平坦部3を有し、図1aにおいては半円
状に、図1bにおいては多角形、具体的には三角形とな
っており、この平坦部3にヒータ線1より輻射された赤
外線を効率よく反射させる赤外線反射被膜4が設けられ
ている。この赤外線を効率よく反射させるには、種々の
被膜があるが、金の被膜が最良である。
【0008】図2は絶縁ケース2の断面形状を長円形、
又は楕円形に形成した第2の実施例を示し、絶縁ケース
2断面形状の点対称中心にヒータ線を配設している。そ
して、絶縁ケース2の断面の略半分以下の周面上に、赤
外線反射被膜4が形成される。
又は楕円形に形成した第2の実施例を示し、絶縁ケース
2断面形状の点対称中心にヒータ線を配設している。そ
して、絶縁ケース2の断面の略半分以下の周面上に、赤
外線反射被膜4が形成される。
【0009】図3は絶縁ケース2の断面形状が、円形の
場合の第3の実施例を示し、絶縁ケース2断面の略半分
以下の周面上に赤外線反射被膜4を形成するともに、絶
縁ケース2の断面の中心より変位した位置に、ヒータ線
1を支持線5で支持したものである。
場合の第3の実施例を示し、絶縁ケース2断面の略半分
以下の周面上に赤外線反射被膜4を形成するともに、絶
縁ケース2の断面の中心より変位した位置に、ヒータ線
1を支持線5で支持したものである。
【0010】上記赤外線輻射ヒータ構成により、赤外線
反射膜で反射された赤外線が、赤外線輻射ヒータに集中
するのが防止でき、加熱効率が向上する。
反射膜で反射された赤外線が、赤外線輻射ヒータに集中
するのが防止でき、加熱効率が向上する。
【0011】図4は上記赤外線輻射ヒータを用いた加熱
調理器を示し、6は食品を収納する加熱室、7は加熱室
6内に設けられた回転載置台、8は回転載置台7を駆動
するモータ、9は加熱室に高周波電波を供給するマグネ
トロンである。10は加熱室6の上壁外に設けられた上
ヒータで、この上ヒータ10は上記赤外線輻射ヒータで
構成され、加熱室壁に設けられた高周波電波を遮断する
パンチング孔11を介して、回転載置台上に載置された
食品を加熱調理する。12は上ヒータを覆って支持する
とともに、上ヒータ10が輻射する赤外線を加熱室6内
に反射する反射板、13は加熱室6底壁に設けられた下
ヒータである。
調理器を示し、6は食品を収納する加熱室、7は加熱室
6内に設けられた回転載置台、8は回転載置台7を駆動
するモータ、9は加熱室に高周波電波を供給するマグネ
トロンである。10は加熱室6の上壁外に設けられた上
ヒータで、この上ヒータ10は上記赤外線輻射ヒータで
構成され、加熱室壁に設けられた高周波電波を遮断する
パンチング孔11を介して、回転載置台上に載置された
食品を加熱調理する。12は上ヒータを覆って支持する
とともに、上ヒータ10が輻射する赤外線を加熱室6内
に反射する反射板、13は加熱室6底壁に設けられた下
ヒータである。
【0012】
【発明の効果】ヒータ線を収容する絶縁ケースに設けら
れた、赤外線反射被膜からの反射赤外線が、ヒータ線に
集中しないようにすることにより、反射赤外線によるヒ
ータ線の加熱を小さくできる。従って、ヒータ線の温度
上昇が低下し、赤外線輻射ヒータの寿命向上が図れる。 更に、ヒータ線を加熱していた赤外線を対象物に照射で
きるから、赤外線加熱効率が向上する。
れた、赤外線反射被膜からの反射赤外線が、ヒータ線に
集中しないようにすることにより、反射赤外線によるヒ
ータ線の加熱を小さくできる。従って、ヒータ線の温度
上昇が低下し、赤外線輻射ヒータの寿命向上が図れる。 更に、ヒータ線を加熱していた赤外線を対象物に照射で
きるから、赤外線加熱効率が向上する。
【図1】本発明の第1実施例の赤外線輻射ヒータを示し
、aはヒータケース断面が半円の場合の断面図、bはヒ
ータケース断面が三角形の場合の断面図である。
、aはヒータケース断面が半円の場合の断面図、bはヒ
ータケース断面が三角形の場合の断面図である。
【図2】本発明の第2実施例の赤外線輻射ヒータの断面
図である。
図である。
【図3】本発明の第3実施例の赤外線輻射ヒータの断面
図である。
図である。
【図4】赤外線輻射ヒータを用いた加熱調理器の断面図
である。
である。
【図5】従来の赤外線輻射ヒータの斜視図である。
1 ヒータ線
2 絶縁ケース
3 平坦部
4 赤外線反射被膜
Claims (3)
- 【請求項1】 赤外線を輻射するヒータ線と、このヒ
ータ線を収容し赤外線を透過するパイプ状の絶縁ケース
と、この絶縁ケース表面の一部に形成された赤外線反射
膜とからなる赤外線輻射ヒータにおいて、上記絶縁ケー
スに平坦部を形成し、この平坦部に反射膜を形成してな
る赤外線輻射ヒータ。 - 【請求項2】 赤外線を輻射するヒータ線と、このヒ
ータ線を収容し赤外線を透過するパイプ状の絶縁ケース
と、この絶縁ケース表面の一部に形成された赤外線反射
膜とからなる赤外線輻射ヒータにおいて、上記絶縁ケー
スの断面形状を長円、若しくは楕円に形成してなる赤外
線輻射ヒータ。 - 【請求項3】 赤外線を輻射するヒータ線と、このヒ
ータ線を収容し赤外線を透過するパイプ状の絶縁ケース
と、この絶縁ケース表面の一部に形成された赤外線反射
膜とからなる赤外線輻射ヒータにおいて、上記絶縁ケー
スの断面形状を円形に形成するとともに、上記絶縁ケー
スの断面中心より変位した位置に上記ヒータ線を配設し
てなる赤外線輻射ヒータ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9573291A JPH04324277A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | 赤外線輻射ヒータ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9573291A JPH04324277A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | 赤外線輻射ヒータ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04324277A true JPH04324277A (ja) | 1992-11-13 |
Family
ID=14145650
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9573291A Pending JPH04324277A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | 赤外線輻射ヒータ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04324277A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001041507A1 (fr) * | 1999-11-30 | 2001-06-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ampoule de lumiere infrarouge, dispositif chauffant, procede de production d'ampoules de lumiere infrarouge |
WO2005051043A1 (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 赤外線電球及び加熱装置 |
DE19581852B4 (de) * | 1994-12-06 | 2006-08-24 | Christian Ullrich | Strahlungsprojektor und Verfahren zu dessen Herstellung |
CN100408958C (zh) * | 2003-12-25 | 2008-08-06 | 坂口电热株式会社 | 电炉 |
CN110454821A (zh) * | 2018-05-07 | 2019-11-15 | 中广核研究院有限公司 | 红外线加热装置 |
-
1991
- 1991-04-25 JP JP9573291A patent/JPH04324277A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19581852B4 (de) * | 1994-12-06 | 2006-08-24 | Christian Ullrich | Strahlungsprojektor und Verfahren zu dessen Herstellung |
WO2001041507A1 (fr) * | 1999-11-30 | 2001-06-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ampoule de lumiere infrarouge, dispositif chauffant, procede de production d'ampoules de lumiere infrarouge |
US6654549B1 (en) | 1999-11-30 | 2003-11-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Infrared light bulb, heating device, production method for infrared light bulb |
KR100413396B1 (ko) * | 1999-11-30 | 2004-01-03 | 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 | 적외선전구 및 적외선전구의 제조방법 |
US6845217B2 (en) | 1999-11-30 | 2005-01-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Infrared ray lamp, heating apparatus and method of producing the infrared ray lamp |
US7184656B2 (en) | 1999-11-30 | 2007-02-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Infrared lamp, heating apparatus, and method for manufacturing infrared lamp |
WO2005051043A1 (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 赤外線電球及び加熱装置 |
JPWO2005051043A1 (ja) * | 2003-11-20 | 2007-12-06 | 松下電器産業株式会社 | 赤外線電球及び加熱装置 |
US7595464B2 (en) | 2003-11-20 | 2009-09-29 | Panasonic Corporation | Infrared ray lamp and heating apparatus |
CN100408958C (zh) * | 2003-12-25 | 2008-08-06 | 坂口电热株式会社 | 电炉 |
CN110454821A (zh) * | 2018-05-07 | 2019-11-15 | 中广核研究院有限公司 | 红外线加热装置 |
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