JPH04314351A - スクライブラインの作成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェーハ上にス
クライブラインを作成する方法に関する。近年デバイス
パターンは複雑化し、パターン設計が非常に複雑になっ
ているので、特殊なパターン設計を行うことが多い。か
かるパターンを作るためのマスク、レチクルなど（以下
「マスク」と総称する）は、パターン設計のデータを高
い信頼性で処理する必要が大きくなっている。

【０００２】

【従来の技術】従来スクライブラインのマスク設計にお
いては、ウェーハサイズ、１チップ（１個の半導体装置
）の大きさ、全チップの配列、スクライブ線幅などによ
りスクライブパターンを描画する論理式をコンピュータ
に記憶させ、半導体装置により特定されるパラメータを
入力することにより、スクライブパターンを自動発生す
ることが行われている。規格化された量産品や素子パタ
ーンが特に複雑でない製品では自動発生によりマスクを
作ることができる。

【０００３】しかしながら上記自動発生スクライブライ
ンに位置合わせパターン、エッチングのモニタパターン
などの特殊なパターンを描画する必要があることがある
。かかるパターンの位置、大きさなどが論理化できる時
は自動発生可能であるが、特殊なパターン設計を行う場
合は設計者が半導体処理プロセスなどを考慮してパター
ン設計を行い、その際スクライブライン内に特殊なパタ
ーンを書き込むことあるので、論理化はできない。この
場合ＣＡＤ装置などを使用してスクライブラインの一部
を設計する。

【０００４】図７には、従来のスクライブライン作成法
を図解している。図７の（ａ）は自動発生により作られ
、マスク上に投影すべきスクライブライン１である。 図７の（ｂ）は（ａ）の１ａの部分に、位置合わせ等の
特別の要請により投影すべきパターン２をもつスクライ
ブライン３（以下「マニュアルスクライブライン」とい
う）を示し、ＣＡＤ装置などにより設計される。なお図
中ハッチングは露光時に光が当る部分、白抜きは光が当
らない部分、あるいはこの逆を意味する。ハッチング部
を二値情報の「１」、白抜き部を二値情報の「０」とし
てコンピュータに二次元的に記憶されいる。

【０００５】図７の（ａ）と（ｂ）のスクライブライン
を合体して１ａの部分にパターン２を入れるための方法
としては、コンピュータに記憶された図７（ａ）の二値
情報に（ｂ）を加算する方法、具体的には、コンピュー
タの自動発生プログラム中にマニュアルでパターンを挿
入するサブルーチンを作っておいて、このサブルーチン
を呼び出して、ＣＡＤ装置の出力をコンピュータのサブ
ルーチンに入力する方法が考えられる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法によるとマニュアルスクライブライン中のパターン３
に（自動発生された）スクライブライン１が露光されて
しまい、パターン３が削除されることがあった（図８の
（ｃ））。したがって、マニュアル挿入のパターン３が
ある場合は自動発生が不可能になり、すべてのスクライ
ブラインをＣＡＤ装置などにより設計する必要が生じて
いた。よって本発明は以上の点に鑑み論理処理を利用し
て自動的にすべてのスクライブラインをマスク上に作成
する方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の方法は、スクラ
イブライン線内にパターンを有することがあるスクライ
ブラインの作成方法において、所定の自動発生プログラ
ムによりスクライブラインを露光と非露光から構成され
る第一の二値情報として発生させ、露光と非露光から構
成される第二の二値情報としてスクライブ線内にパター
ンを有するスクライブライン（マニュアルスクライブラ
イン）をコンピュータに入力端末から入力し、第一の二
値情報と第二の二値情報を加算してコンピュータ内で加
算スクライブラインを発生させること、及び第一と第二
のスクライブラインの二値情報が露光の場合は前記加算
の前に前記第二の二値情報を逆転させ、第一の二値情報
とこの逆転二値情報が重複して露光を示す部分では重複
部分を非露光とすることを特徴とする。

【０００８】上記方法において、第一と第二の二値情報
がスクライブラインのパターンイメージを共通とし、第
一の二値情報がスクライブライン内にパターンを有し、
かつこのパターンが第二の二値情報のパターンと重なら
ないようにスクライブラインを作成することができる。

【０００９】

【作用】本発明においては、プログラムによりスクライ
ブラインパターンを第一の二値情報として設計させる自
動発生法を行っているが、マニュアル設定も第二の二値
情報としてコンピュータの入力端末から入力できるよう
にし、マニュアルスクライブラインがスクライブライン
と同じ二値情報のときは、第二の二値情報を逆転させ、
露光情報が重なる部分を非露光に変換することにより、
多重露光によりパターンが消えることをなくする。

【００１０】

【実施例】以下本発明の構成を説明する。本発明におい
ては図７の（ａ）を参照して説明したように、所定の自
動発生プログラムによりスクライブラインパターンを第
一の二値情報として設計させる自動発生をコンピュータ
で行う。これによる設計ではスクライブライン線内のパ
ターンは通常設計されないが、論理化が可能ならば設計
させても良い。また、本発明においては図７の（ｂ）を
参照して説明したようにプロセス上の要求などにより設
計者が上記した論理では設計できないスクライブライン
上のパターンの設計をＣＡＤ装置から第二の二値情報と
してコンピュータに入力する。また、コンピュータに第
二の二値情報を入力するサブルーチンを設計しておき、
オペレータが直接コンピュータに入力してもよい。以下
の説明では、設計時間が短いＣＡＤ装置の例につき説明
する。

【００１１】第一の二値情報と第二の二値情報の種々の
組み合わせについて図１〜４を参照として説明を行う。 なおこれらの図においてハッチングをしたまたはしない
枠はマスク上の任意の位置における二次元的広がりを表
しており、コンピュータまたはＣＡＤ装置にはマスクと
１対１で対応する情報として記憶されている。図２にお
いては、プログラムおよびＣＡＤ装置のいずれにおいて
もスクライブラインを描画する情報はない（二値情報＝
０）。この場合はこれらの二値情報１０、２０をコンピ
ュータの論理処理により加算してコンピュータにおいて
二値情報（２２）＝０として記憶する。したがってマス
クにはスクライブラインは描画されない。

【００１２】図３においては、プログラムにおいてはス
クライブラインを描画する情報はない（二値情報（１０
）＝０）が、ＣＡＤ装置ではスクライブラインとパター
ン（Ｆ）が発生している（二値情報（２０）＝１）。 この場合はこれらの二値情報１０、２０を加算してコン
ピュータにおいて二値情報（２２）＝１として記憶する
。したがってマスクにはスクライブラインとパターンが
描画される。図４においては、プログラムにおいてはス
クライブラインとパターン（Ｆ）を描画する情報がある
（二値情報（１０）＝１）であるが、ＣＡＤ装置ではス
クライブラインとパターンが発生していない（二値情報
（２０）＝０）。この場合はこれらの二値情報１０、２
０を加算してコンピュータにおいて二値情報（２２）＝
１として記憶する。したがってマスクにはスクライブラ
インとマークが描画される。なおコンピュータの二値情
報１０ではパターンは通常ないが、その場合スクライブ
ラインがコンピュータに記憶される。

【００１３】図１においては、プログラムにはスクライ
ブラインがある（二値情報（１０）＝１）であり、ＣＡ
Ｄ装置ではスクライブラインとパターンが発生している
（二値情報（２０）＝１）。この場合、二値情報（１０
）＝１，二値情報（２０）＝１をコンピュータが判断し
て、ＣＡＤ装置の二値情報２０を反転させる（２５）。 これらの二値情報１０、２５を加算するときに「１」＋
「１」の部分、すなわちそのままでは二重露光になる部
分が「０」、すなわち非露光になるＥＸ−ＯＲ論理処理
を行い、コンピュータに二値情報として記憶する。した
がってパターンの多重露光が防止され、スクライブライ
ンとパターン（Ｆ）が描画される。以上を表にまとめる
と以下のようになる。

【００１４】

【表１】

【００１５】上記した本発明のフローチャートを図５に
示す。図中、５０では論理処理によりコンピュータ内で
スクライブラインを自動発生させ、これを第一の二値情
報としてファイル５１に記憶する。一方、５２ではプロ
セス設計データによりスクライブラインのどの部分にど
のようなパターンを入れるかＣＡＤ装置により設計し、
５３でＣＡＤのフォーマットとコンピュータのフォーマ
ットに変換し、変換データをファイル５４に保存する。 続いて、各種品種のパターン情報をファイル５６に記憶
する。５７ではパターンの情報を一つづつ呼び出して表
１の論理処理を行う。この処理をフローチャート（図６
）で示すと、Ａ−表１の上から三つのときはパターンを
黒イメージとし、Ｂ−表１の最下欄ときは１と１が重な
った所ではパターンを白イメージにし、加算処理により
パターンを合成する処理である。このような処理により
得られた合成パターンをファイル５８に記憶する。続い
て、ファイル５８のデータを露光装置制御のためのデー
タに５９で変換し、ファイル６０に変換する。

【００１６】

【発明の効果】以上説明したように本発明によればスク
ライブライン内にマニュアル挿入パターンがある場合で
も、多重露光を起こすことなくスクライブラインを自動
的に発生できる。したがって、本発明によると高能率で
スクライブラインのマスクを設計できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】プログラムおよびＣＡＤのいずれでもスクライ
ブラインが発生する場合の本発明方法の説明図である。

【図２】プログラムおよびＣＡＤのいずれでもスクライ
ブラインが発生しない場合の本発明方法の説明図である
。

【図３】プログラムではスクライブラインが発生しない
が、ＣＡＤ装置では発生する場合の本発明方法の説明図
である。

【図４】プログラムではスクライブラインが発生するが
、ＣＡＤ装置では発生しない場合の本発明方法の説明図
である。

【図５】本発明法のフローチャートである。

【図６】本発明法における論理処理を示すフローチャー
トである。

【図７】本発明の実施例を示す図である。

【図８】従来のスクライブライン作成方法の説明図であ
る。

【符合の説明】

１　　スクライブライン ２　　マニュアル挿入パターン ３　　スクライブライン １０　　第一の二値情報 ２０　　第二の二値情報 ２２　　合成二値情報 ２５　　反転二値情報

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　スクライブライン線内にパターンを有
   することがあるスクライブラインの作成方法において、
   所定の自動発生プログラムによるスクライブラインを第
   一の二値情報として発生させ、第二の二値情報としてス
   クライブ線内にパターンを有するスクライブラインをコ
   ンピュータに入力端末から入力し、第一の二値情報と第
   二の二値情報を加算してコンピュータ内で加算スクライ
   ブラインを発生させること、及び第一と第二のスクライ
   ブラインの二値情報が露光の場合は前記加算の前に前記
   第二の二値情報を逆転させ、第一の二値情報とこの逆転
   二値情報が重複して露光を示す部分では重複部分を非露
   光とすることを特徴とするスクライブラインの作成方法
   。
2. 【請求項２】　　第一と第二の二値情報がスクライブラ
   インのパターンイメージを共通とし、第一の二値情報が
   スクライブライン内にパターンを有し、かつこのパター
   ンが第二の二値情報のパターンと重ならないことを特徴
   とする請求項１記載ののスクライブラインの作成方法。