JPH04312463A - 滅菌装置 - Google Patents

滅菌装置

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Publication number
JPH04312463A
JPH04312463A JP3079501A JP7950191A JPH04312463A JP H04312463 A JPH04312463 A JP H04312463A JP 3079501 A JP3079501 A JP 3079501A JP 7950191 A JP7950191 A JP 7950191A JP H04312463 A JPH04312463 A JP H04312463A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
sterilization
solution
raw water
pure water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3079501A
Other languages
English (en)
Inventor
Haruo Kato
治夫 加藤
Yumiko Ichikawa
由美子 市川
Junichi Yasuda
純一 安田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi ULSI Engineering Corp, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi ULSI Engineering Corp
Priority to JP3079501A priority Critical patent/JPH04312463A/ja
Publication of JPH04312463A publication Critical patent/JPH04312463A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は溶液中の生菌を滅菌する
技術、特に、純水の無菌状態を維持するために用いて効
果のある技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、半導体装置の製造に際し、洗浄
などを行うには純水が用いられる。従来、純水を製造す
る場合、例えば、地下水を汲み上げ、これをフィルタに
通し、さらに紫外線を照射して滅菌を行っている。
【0003】ところで、本発明者は、製造した純水の滅
菌が十分になされない問題について検討した。以下は、
本発明者によって検討された技術であり、その概要は次
の通りである。
【0004】すなわち、従来のようにして製造した純水
は、一旦タンクに貯水し、必要時にタンクから汲み出し
、配管を経由してクリーンルームの使用場所へ供給する
。しかし、配管は供給端までの距離がかなりあり、また
純水出口が複数ヶ所であるため、未使用枝管が生じ易く
、配管内に水の滞留場所が生じる。このため、特開昭6
0−79690号公報に示すように配管に薬剤(過酸化
水素、アンモニウム塩など)を注入し、或いは特開昭6
3−42787号公報に示すように溶液加温を行ってい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記の如く
薬剤を行う滅菌方法においては、配管内に滞留する生菌
を滅菌し終わるまで、すなわち配管内を純水で置換する
のに時間がかかるほか、未使用枝管内に残留していた薬
剤が製品上に異物として付着する恐れのあることが本発
明者によって見出された。また、溶液加温による滅菌方
法においては、薬剤方法による不都合は解消するものの
、溶液加温及び冷却のためのコストが大きくなる。
【0006】そこで、本発明の目的は、薬剤注入及び溶
液加温を行うことなく生菌の滅菌を行うことのできる技
術を提供することにある。
【0007】本発明の前記ならびに他の目的と新規な特
徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下の通りである。
【0009】すなわち、滅菌後の薬剤などの残留が不適
当な溶液に対する滅菌装置であって、溶存酸素を低減す
るガス、あるいは生菌に好ましくない作用を与えるガス
を前記溶液中に溶け込ませる滅菌手段を設けるようにし
ている。
【0010】
【作用】上記した手段によれば、溶液中に溶け込んだガ
スは、溶液中の溶存酸素が低減し、生菌の繁殖を防止な
らびに滅菌し、あるいはガスが多量に溶け込んだことに
より生菌に好ましくない作用を与え、生菌の繁殖を防止
ならびに滅菌する。したがって、薬剤注入及び溶液加温
を行うことなく生菌の滅菌を行うことが可能になる。
【0011】
【実施例1】図1は本発明による滅菌装置の一実施例を
示す模式的構成図である。
【0012】密閉タンク1内には、上部が開放された純
水槽2が配設され、この純水槽2内に純水配管3の先端
部が挿入されている。また、密閉タンク1内にはガス配
管4の後端部が配設されている。ガス配管4の途中には
バルブ5が設けられ、さらに純水配管3の途中にはバル
ブ6が設けられている。
【0013】以上の構成において、純水槽2に溶液であ
る原水7(フィルタに通したのち紫外線を照射した水)
を満たし、バルブ6を閉めてバルブ5を開け、ガス配管
4に一例として窒素(N2 )ガスを圧入(例えば、3
Kg/cm2 )する。これにより、窒素ガスは密閉タ
ンク1内に加圧供給され、加圧されているために窒素ガ
スは純水槽2内の原水7に溶け込み、生菌発生の原因と
なる原水7中の溶存酸素量が低減され、滅菌がなされる
。滅菌がなされない場合でも生菌の活動が妨げられる。
【0014】このようにして得られた純水は、バルブ6
を開けることにより取り出すことができる。なお、図示
していないが、純水配管3の系内に脱気装置を設けるこ
とにより、溶かした窒素ガスあるいは溶液に溶かしたガ
スを純水中から除去することもできる。
【0015】
【実施例2】図2は本発明の他の実施例を示す模式的構
成図である。
【0016】前記実施例が窒素ガスを原水7に加圧供給
して溶け込ませたのに対し、本実施例は、原水7内で窒
素ガスを曝気させることにより溶け込ませている。すな
わち、先端をL字形にすると共に端面を閉塞し、且つ水
平部の周辺に複数の小径の気体排出口10を設けた気体
送入配管9を純水槽8に満たされた原水7に挿入した構
成にしている。そして、気体送入配管9に窒素ガスを圧
入し、気体排出口10から微小な気泡になった窒素ガス
を噴出させ、その上昇過程で原水7に溶け込ませている
。このようにすることによって、前記実施例と同様に原
水7中の溶存酸素量が低減され、滅菌がなされる。
【0017】次に、本発明の実施結果を具体的に説明す
る。
【0018】ここでは、生菌数約6,000ヶ/100
mlの原水7に対し、図1に示す構成によりバルブ6を
閉じた状態下で3Kg/cm2 の窒素ガスを10分間
加圧供給し、この状態で24時間放置し、生菌数を測定
した。その結果、70ヶ/100mlに減少したことが
わかり、本発明の効果が実証された。なお、加圧時間を
100分としたときの生菌数は50ヶ/100mlであ
り、加圧時間による大きな違いは見られなかった。また
、本発明者は上記と同一の条件のもとで、図2の構成を
適用したところ、200ヶ/100mlの結果が得られ
た。このことから図1の実施例が実用性に優れることが
わかる。
【0019】以上のように、本発明の実施例によれば、
簡単な構成により、低コストに滅菌が行えると共に、生
菌の繁殖を遮断できるので、その後のメンテナンスを必
要としない利点がある。
【0020】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。例えば、
図1と図2の構成の組み合わせる構成としてもよい。
【0021】さらに、溶け込ませる窒素ガスなどの量を
制御することにより、自然酸化膜の厚みを故意に制御で
きるので、希望の厚みの自然酸化膜を得たい要求に応じ
ることが可能である。
【0022】なお、使用されるガスの種類も窒素ガスに
限定されず、溶存酸素を低減するか、あるいは生菌に好
ましくない作用を与えるガスであれば、他の種類のガス
であってもよい。
【0023】また、以上の説明では、主として本発明者
によってなされた発明をその利用分野である半導体装置
の製造に適用した場合について説明したが、これに限定
されるものではなく、例えば、生物化学関係、食品関係
の瓶詰め加工などのように生菌が問題になる分野に適用
することができる。
【0024】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
【0025】すなわち、滅菌後の薬剤などの残留が不適
当な用途の溶液に対する滅菌装置であって、溶存酸素を
低減するガスあるいは生菌に好ましくない作用を与える
ガスを前記溶液中に溶け込ませる滅菌手段を設けるよう
にしたので、薬剤の残留を招くことなく、かつローコス
トに生菌の滅菌を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による滅菌装置の一実施例を示す模式的
構成図である。
【図2】本発明の他の実施例を示す模式的構成図である
【符号の説明】
1  密閉タンク 2  純水槽 3  純水配管 4  ガス配管 5  バルブ 6  バルブ 7  原水 8  純水槽 9  気体送入配管 10  気体排出口

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  滅菌後の薬剤などの残留が不適当な用
    途の溶液に対する滅菌装置であって、溶存酸素を低減す
    るガス、あるいは生菌に好ましくない作用を与えるガス
    を前記溶液中に溶け込ませる滅菌手段を設けたことを特
    徴とする滅菌装置。
  2. 【請求項2】  前記滅菌手段は、ガスを前記溶液中に
    加圧供給して溶け込ませるものであることを特徴とする
    請求項1記載の滅菌装置。
  3. 【請求項3】  前記滅菌手段は、ガスを前記溶液中に
    曝気させるものであることを特徴とする請求項1記載の
    滅菌装置。
  4. 【請求項4】  前記ガスは窒素ガスであることを特徴
    とする請求項1,2または3記載の滅菌装置。
JP3079501A 1991-04-12 1991-04-12 滅菌装置 Pending JPH04312463A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3079501A JPH04312463A (ja) 1991-04-12 1991-04-12 滅菌装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3079501A JPH04312463A (ja) 1991-04-12 1991-04-12 滅菌装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04312463A true JPH04312463A (ja) 1992-11-04

Family

ID=13691679

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3079501A Pending JPH04312463A (ja) 1991-04-12 1991-04-12 滅菌装置

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JP (1) JPH04312463A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014130954A (ja) * 2012-12-28 2014-07-10 Tokyo Electron Ltd 液処理装置および薬液回収方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014130954A (ja) * 2012-12-28 2014-07-10 Tokyo Electron Ltd 液処理装置および薬液回収方法

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