JPH05140799A - 殺菌装置 - Google Patents
殺菌装置Info
- Publication number
- JPH05140799A JPH05140799A JP3193649A JP19364991A JPH05140799A JP H05140799 A JPH05140799 A JP H05140799A JP 3193649 A JP3193649 A JP 3193649A JP 19364991 A JP19364991 A JP 19364991A JP H05140799 A JPH05140799 A JP H05140799A
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- JP
- Japan
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- water
- tank
- plating
- washing tank
- pump
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- Pending
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- Farming Of Fish And Shellfish (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 メッキを施した部材のメッキ面が腐食しない
ように水溶液を無臭殺菌、中和した洗浄液を提供する。 【構成】 メッキ水洗槽１４に収容された水を水貯１０
に貯溜しこの水をポンプＰ２にて濾過装置１６ー紫外線
ランプ装置１７に送り殺菌を行い、次にセラミック充填
筒１８にて中性化することを特徴とする殺菌装置。
ように水溶液を無臭殺菌、中和した洗浄液を提供する。 【構成】 メッキ水洗槽１４に収容された水を水貯１０
に貯溜しこの水をポンプＰ２にて濾過装置１６ー紫外線
ランプ装置１７に送り殺菌を行い、次にセラミック充填
筒１８にて中性化することを特徴とする殺菌装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、有機物、無機物及び細
菌等を含む水を処理して、有機物、無機物及び細菌を除
去し中性水となした清浄な水を得る装置に関する。
菌等を含む水を処理して、有機物、無機物及び細菌を除
去し中性水となした清浄な水を得る装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】飲料水、工業用水等を得る方法として、
薬剤投入、濾過法、蒸溜法、電気透析法、イオン交換
法、逆浸透法、冷却法等があるが、これらの処理方法
は、いずれの手段にも一長一短がある。
薬剤投入、濾過法、蒸溜法、電気透析法、イオン交換
法、逆浸透法、冷却法等があるが、これらの処理方法
は、いずれの手段にも一長一短がある。
【０００３】薬剤投入、濾過法は、薬剤による水の汚染
があり、電気透析法、イオン交換法及び逆浸透法等は、
透過膜及び機器に菌の発生による目詰まりや菌による汚
染の発生があり、蒸溜法、冷却法は、生産効率が悪く、
製造原価が高くつくという欠点がある。
があり、電気透析法、イオン交換法及び逆浸透法等は、
透過膜及び機器に菌の発生による目詰まりや菌による汚
染の発生があり、蒸溜法、冷却法は、生産効率が悪く、
製造原価が高くつくという欠点がある。
【０００４】また、濾過膜、浸透膜等、膜を使用する技
術手段においては、膜目に生菌が付着して目詰りを起こ
し、清浄水の製造効率を下げると共に、膜の交換等を要
するため清浄水の価格の上昇となっているのが現状であ
る。現在に至るもこの問題は解決されていない。またメ
ッキの洗浄、乾燥工程でフロンを使用していたために公
害を生じていた。
術手段においては、膜目に生菌が付着して目詰りを起こ
し、清浄水の製造効率を下げると共に、膜の交換等を要
するため清浄水の価格の上昇となっているのが現状であ
る。現在に至るもこの問題は解決されていない。またメ
ッキの洗浄、乾燥工程でフロンを使用していたために公
害を生じていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、薬剤を一切
使用せず、水に生存する菌を殺菌除去し、濾過浸透膜等
へ菌を付着することなく、簡単な装置で低価格の無菌の
中性水を製造する装置を提供することを目的とするもの
であり、メッキの洗浄、乾燥工程でフロンの使用を廃止
しようとするものである。
使用せず、水に生存する菌を殺菌除去し、濾過浸透膜等
へ菌を付着することなく、簡単な装置で低価格の無菌の
中性水を製造する装置を提供することを目的とするもの
であり、メッキの洗浄、乾燥工程でフロンの使用を廃止
しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するために、メッキ水洗槽１４と、メッキ水洗槽１４の
水洗液及び原水を受容する貯水槽１０と、貯水槽１０の
貯水を第１ポンプＰ１により送入され、イオン交換され
た処理水をメッキ水洗槽１に循環させる単独または複数
の槽からなるイオン交換装置１３と、貯水槽１０内の水
を濾過、殺菌、酸化還元して中性水となすため貯水槽１
０にパイプ１５及び１９にて接続した濾過装置１６と、
紫外線ランプ筒１７と、粉末セラミック充填筒１８と、
第２ポンプＰ２との環型循環回路２０とよりなり、貯水
槽１０に貯溜した原水を、前記濾過装置１６にて水のス
ラッヂを分離濾過し、紫外線ランプ筒１７にて殺菌を行
い、粉末セラミック充填筒１８にて求める酸化還元電位
に微調整し脱臭して得た処理粋を第１ポンプＰ１にてイ
オン交換装置１３にてイオン化物質を除去してメッキ水
洗槽１４に循環供給するようにしたことを特徴とする殺
菌装置である。
するために、メッキ水洗槽１４と、メッキ水洗槽１４の
水洗液及び原水を受容する貯水槽１０と、貯水槽１０の
貯水を第１ポンプＰ１により送入され、イオン交換され
た処理水をメッキ水洗槽１に循環させる単独または複数
の槽からなるイオン交換装置１３と、貯水槽１０内の水
を濾過、殺菌、酸化還元して中性水となすため貯水槽１
０にパイプ１５及び１９にて接続した濾過装置１６と、
紫外線ランプ筒１７と、粉末セラミック充填筒１８と、
第２ポンプＰ２との環型循環回路２０とよりなり、貯水
槽１０に貯溜した原水を、前記濾過装置１６にて水のス
ラッヂを分離濾過し、紫外線ランプ筒１７にて殺菌を行
い、粉末セラミック充填筒１８にて求める酸化還元電位
に微調整し脱臭して得た処理粋を第１ポンプＰ１にてイ
オン交換装置１３にてイオン化物質を除去してメッキ水
洗槽１４に循環供給するようにしたことを特徴とする殺
菌装置である。
【０００７】金属メッキした部材をメッキ水洗槽１４の
処理水に浸漬して洗浄する。貯水槽１０と、貯水槽１０
には原水と給水とメッキ水洗槽１４から送入された水が
混合され貯水される。貯水槽１０内の水を第２ポンプＰ
２にて、濾過装置１６に送入してフィルターにてスラッ
ヂを除去する。この濾過装置には隔壁状濾布、バイブレ
ータ、空気吹込管、ドレーン等が装備されているが図面
には省略してある。スラッヂを除去された水は、紫外線
ランプ筒１７に流入し該紫外線ランプ筒の紫外線に曝さ
れて殺菌される。
処理水に浸漬して洗浄する。貯水槽１０と、貯水槽１０
には原水と給水とメッキ水洗槽１４から送入された水が
混合され貯水される。貯水槽１０内の水を第２ポンプＰ
２にて、濾過装置１６に送入してフィルターにてスラッ
ヂを除去する。この濾過装置には隔壁状濾布、バイブレ
ータ、空気吹込管、ドレーン等が装備されているが図面
には省略してある。スラッヂを除去された水は、紫外線
ランプ筒１７に流入し該紫外線ランプ筒の紫外線に曝さ
れて殺菌される。
【０００８】紫外線ランプ筒１７にて殺菌された水は、
粉末セラミック充填筒１８にて酸化還元電位化水に調整
され脱臭される。この循環回路２０により貯水槽１０内
の水は、常に濾過と殺菌と酸化還元電位付与を循環して
繰り返される。このようにして処理された貯水槽１０内
の水は無菌、無臭、中性の処理水として第１ポンプＰ１
にてイオン交換装置１３にてイオン交換されてメッキ水
洗槽１４に戻される。
粉末セラミック充填筒１８にて酸化還元電位化水に調整
され脱臭される。この循環回路２０により貯水槽１０内
の水は、常に濾過と殺菌と酸化還元電位付与を循環して
繰り返される。このようにして処理された貯水槽１０内
の水は無菌、無臭、中性の処理水として第１ポンプＰ１
にてイオン交換装置１３にてイオン交換されてメッキ水
洗槽１４に戻される。
【０００９】メッキ工程において水洗用水を再利用して
いく場合、イオン交換膜を用いると、イオン化物は取り
除かれるが、有機物や細菌は逆に増加してしまう。そこ
でこれを活性炭等で吸着させて水洗用水から有機物や細
菌を除去して減少させる方法をとっている。しかしすぐ
に飽和状態になってしまい、その再生操作が面倒であ
る。また、他の方法として細菌は紫外線に弱いという性
質を利用して紫外線殺菌法を用いているが確実な効果は
挙がっていない。
いく場合、イオン交換膜を用いると、イオン化物は取り
除かれるが、有機物や細菌は逆に増加してしまう。そこ
でこれを活性炭等で吸着させて水洗用水から有機物や細
菌を除去して減少させる方法をとっている。しかしすぐ
に飽和状態になってしまい、その再生操作が面倒であ
る。また、他の方法として細菌は紫外線に弱いという性
質を利用して紫外線殺菌法を用いているが確実な効果は
挙がっていない。
【００１０】本発明は、前記欠点を除去し紫外線法と、
濾過法と、殺菌力と、脱臭力とがあるセラミック法を組
み合わせ環型循環回路をつくって実用化試験を行った。
図１はイオン交換装置と紫外線装置により使用水を得る
従来の装置の系統図を示す。原水Ｗは貯水槽１に給水貯
溜され、この原水中に紫外線ランプ筒２が収容され原水
に含まれた細菌を殺菌する。殺菌された貯水槽１の原水
は、ポンプＰにてイオン交換装置３に送られる。イオン
交換装置３にてイオン交換装置された水はメッキ水洗槽
４に送られて、処理水Ｗ１として貯水される。メッキ水
洗槽４内の処理水Ｗ１は、表１の試験報告書に示すとお
り、一般生菌数及び酵母数は原水Ｗより減っていて、大
腸菌数が０であった。
濾過法と、殺菌力と、脱臭力とがあるセラミック法を組
み合わせ環型循環回路をつくって実用化試験を行った。
図１はイオン交換装置と紫外線装置により使用水を得る
従来の装置の系統図を示す。原水Ｗは貯水槽１に給水貯
溜され、この原水中に紫外線ランプ筒２が収容され原水
に含まれた細菌を殺菌する。殺菌された貯水槽１の原水
は、ポンプＰにてイオン交換装置３に送られる。イオン
交換装置３にてイオン交換装置された水はメッキ水洗槽
４に送られて、処理水Ｗ１として貯水される。メッキ水
洗槽４内の処理水Ｗ１は、表１の試験報告書に示すとお
り、一般生菌数及び酵母数は原水Ｗより減っていて、大
腸菌数が０であった。
【００１１】図２は本発明装置の１の実施例の系統図を
示す。原水Ｗ２は、貯水槽１０に給水貯溜され第１ポン
プＰ１にてイオン交換装置１３を経てパイプ９にてメッ
キ水洗槽１４に送られ、処理水Ｗ３として貯水される。
メッキ水洗槽１４内の処理水Ｗ３はメッキ水洗槽処理後
または水洗処理中を通して原水貯水槽１０に還流され
る。また原水貯水槽１０に送られたメッキ水洗槽１４の
使用水は、原水貯水槽１０に接続された第２水管１５の
ポンプＰ２、濾過装置１６、紫外線ランプ筒１７及び粉
末セラミック充填筒１８を経て第３水管１９より貯水槽
１０に戻される作業を繰り返して循環される。
示す。原水Ｗ２は、貯水槽１０に給水貯溜され第１ポン
プＰ１にてイオン交換装置１３を経てパイプ９にてメッ
キ水洗槽１４に送られ、処理水Ｗ３として貯水される。
メッキ水洗槽１４内の処理水Ｗ３はメッキ水洗槽処理後
または水洗処理中を通して原水貯水槽１０に還流され
る。また原水貯水槽１０に送られたメッキ水洗槽１４の
使用水は、原水貯水槽１０に接続された第２水管１５の
ポンプＰ２、濾過装置１６、紫外線ランプ筒１７及び粉
末セラミック充填筒１８を経て第３水管１９より貯水槽
１０に戻される作業を繰り返して循環される。
【００１２】前記スラッヂ等の濾過装置１６、殺菌する
紫外線ランプ筒１７及び酸化還元電位の構造水を製造す
る粉末セラミック充填筒１８を経由して貯水槽１０に戻
された無菌無臭中性の酸化還元電位水は、ポンプＰ１に
てイオン交換装置１３によりイオン交換され、パイプ９
にメッキ水洗槽１４に収容される。以上の操作を原水を
パイプ９にて補給しながら連続的にメッキ水洗槽を行う
ものである。
紫外線ランプ筒１７及び酸化還元電位の構造水を製造す
る粉末セラミック充填筒１８を経由して貯水槽１０に戻
された無菌無臭中性の酸化還元電位水は、ポンプＰ１に
てイオン交換装置１３によりイオン交換され、パイプ９
にメッキ水洗槽１４に収容される。以上の操作を原水を
パイプ９にて補給しながら連続的にメッキ水洗槽を行う
ものである。
【００１３】図３は本発明の他の実施例の系統図を示す
もので、パイプ２１より貯水槽１０への給水は、シスタ
ーン２１ａにて定量貯水されるように制御されると共に
メッキ水洗槽１４の水はパイプ９にてバルブＶ１を経て
貯水槽１０に還流される。貯水槽１０の貯水Ｗ２は、第
１ポンプＰ１にて加圧されて縦列に並べたイオン交換装
置１３，１３ａ，１３ｂのイオン交換膜にて順次イオン
交換された後、配管１１にてメッキ水洗槽１４にバルブ
Ｖ２を経て供給される。
もので、パイプ２１より貯水槽１０への給水は、シスタ
ーン２１ａにて定量貯水されるように制御されると共に
メッキ水洗槽１４の水はパイプ９にてバルブＶ１を経て
貯水槽１０に還流される。貯水槽１０の貯水Ｗ２は、第
１ポンプＰ１にて加圧されて縦列に並べたイオン交換装
置１３，１３ａ，１３ｂのイオン交換膜にて順次イオン
交換された後、配管１１にてメッキ水洗槽１４にバルブ
Ｖ２を経て供給される。
【００１４】貯水槽１０の水Ｗ２は、第２水管１５によ
りバルブＶ７及び第２ポンプＰ２を介して濾過装置１６
の粉末セラミックコーテイング層１６ａにて有機物及び
無機物を分離された後、配管１６ｂによりバルブＶ６を
経て紫外線ランプ筒１７に供給される。また、第２ポン
プＰ２の手前において濾過装置１６とパイプ１５とに接
続されしたパイプ１５ａに濾過助剤としての粉末セラミ
ックｆを収容した容器２３を設け、該容器２３の通路を
バルブＶ５，Ｖ６にて開閉して濾過装置１６の水に濾過
助剤を混入し、その混合水に貯水槽１０の水Ｗ２を混合
し、貯水槽１０に開口したパイプ１５のバルブＶ７を開
いて貯水槽１０の水Ｗ２を混合し、または各別個に第２
ポンプＰ２を介して濾過装置１６に供給する。
りバルブＶ７及び第２ポンプＰ２を介して濾過装置１６
の粉末セラミックコーテイング層１６ａにて有機物及び
無機物を分離された後、配管１６ｂによりバルブＶ６を
経て紫外線ランプ筒１７に供給される。また、第２ポン
プＰ２の手前において濾過装置１６とパイプ１５とに接
続されしたパイプ１５ａに濾過助剤としての粉末セラミ
ックｆを収容した容器２３を設け、該容器２３の通路を
バルブＶ５，Ｖ６にて開閉して濾過装置１６の水に濾過
助剤を混入し、その混合水に貯水槽１０の水Ｗ２を混合
し、貯水槽１０に開口したパイプ１５のバルブＶ７を開
いて貯水槽１０の水Ｗ２を混合し、または各別個に第２
ポンプＰ２を介して濾過装置１６に供給する。
【００１５】濾過装置１６にてスラッヂ等の不純物を取
り除かれた水は、パイプ１６ｂ、バルブＶ６を経て紫外
線ランプ筒１７を通過する間に細菌を殺菌される。紫外
線ランプ筒１７にて殺菌された水は酸化還元電位を調整
されたセラミックを充填されたセラミック充填筒１８を
通過させて無臭の酸化還元電位中和水に改造され、第３
水管１９によりバルブＶ９を介して貯水槽１０の水Ｗ２
に混入される。
り除かれた水は、パイプ１６ｂ、バルブＶ６を経て紫外
線ランプ筒１７を通過する間に細菌を殺菌される。紫外
線ランプ筒１７にて殺菌された水は酸化還元電位を調整
されたセラミックを充填されたセラミック充填筒１８を
通過させて無臭の酸化還元電位中和水に改造され、第３
水管１９によりバルブＶ９を介して貯水槽１０の水Ｗ２
に混入される。
【００１６】前記した如く、メッキ水洗槽１４内の水Ｗ
３は、貯水槽１０よりイオン交換装置１３，１３ａ，１
３ｂを通過する間にイオン交換されると共に、濾過助剤
及びスラッヂ混入水を濾過装置１６にて濾過し、紫外線
ランプ筒１７と粉末セラミック充填筒１８により無菌構
造水となしてメッキ水洗槽１４に循環供給するために、
メッキ水洗槽１４内の水は常に無臭、無菌、中性状態に
調整しておくことができる。
３は、貯水槽１０よりイオン交換装置１３，１３ａ，１
３ｂを通過する間にイオン交換されると共に、濾過助剤
及びスラッヂ混入水を濾過装置１６にて濾過し、紫外線
ランプ筒１７と粉末セラミック充填筒１８により無菌構
造水となしてメッキ水洗槽１４に循環供給するために、
メッキ水洗槽１４内の水は常に無臭、無菌、中性状態に
調整しておくことができる。
【００１７】本発明は、メッキ水洗槽としてのみなら
ず、畜産、水耕栽培、もやしの製造、きのこの栽培等の
使用水に用いて、それらの発育、育成状態が良好とな
り、納豆、酒、ビール等の使用水にも用いることにより
それらの菌の発生を助長し、製造後における製品の腐敗
を防ぎ長持ちさせることができる。 試験成績
ず、畜産、水耕栽培、もやしの製造、きのこの栽培等の
使用水に用いて、それらの発育、育成状態が良好とな
り、納豆、酒、ビール等の使用水にも用いることにより
それらの菌の発生を助長し、製造後における製品の腐敗
を防ぎ長持ちさせることができる。 試験成績
【表１】原水及び紫外線処理を行った水の、一般生菌数
と酵母数と大腸菌群の検出結果である。
と酵母数と大腸菌群の検出結果である。
【表２】イオン交換装置原水の、一般生菌数と大腸菌群
と酵母数の検出結果である。
と酵母数の検出結果である。
【表３】イオン交換装置、紫外線照射及びセラミック処
理を行った水の、一般生菌数と大腸菌群、酵母及びカビ
の数の検出結果である。
理を行った水の、一般生菌数と大腸菌群、酵母及びカビ
の数の検出結果である。
【００１８】
【発明の効果】本発明は前記の構成よりなるものである
から、紫外線ランプ筒による殺菌のみの場合は、ある程
度殺菌されるが、、一般生菌や酵母菌はあまり減少して
いない。また、細菌によるメッキ表面の腐食等が発生し
ていて改善されていないが、本発明によれば、原水に比
べて一般生菌、大腸菌、酵母菌は共に全く検出されてお
らず、また、メッキ表面の腐食も発生していない。本発
明は前記メッキ用水洗水製造用としてのみならず他の用
途例えば、飲料水、他の工業イオン交換装置、洗浄水、
食品加工用水等の製造装置にも実施することができて汎
用性がある。
から、紫外線ランプ筒による殺菌のみの場合は、ある程
度殺菌されるが、、一般生菌や酵母菌はあまり減少して
いない。また、細菌によるメッキ表面の腐食等が発生し
ていて改善されていないが、本発明によれば、原水に比
べて一般生菌、大腸菌、酵母菌は共に全く検出されてお
らず、また、メッキ表面の腐食も発生していない。本発
明は前記メッキ用水洗水製造用としてのみならず他の用
途例えば、飲料水、他の工業イオン交換装置、洗浄水、
食品加工用水等の製造装置にも実施することができて汎
用性がある。
【図１】従来のメッキ水洗槽の系統図である。
【図２】本発明の無臭、無菌、中性水製造装置の１の実
施例の系統図である。
施例の系統図である。
【図３】本発明装置の系統図である。
１ 貯水槽 １３，１３ａ，１３ｂ イオン交換装置 １４ メッキ水洗槽 １５ 第２水管 １９ 第３水管 １６ 濾過装置 １７ 紫外線ランプ筒 １８ セラミック充填筒 ２０ 環型循環回路 Ｐ１ 第１ポンプＰ Ｐ２ 第２ポンプＰ
【表１】 試験報告書 塚田理研工業（株）御中 紫外線ランプ殺菌のみ 平成３年２月２３日 製造日 年 月 日 奥野製薬工業株式会社 試験日 ３年２月１９日 食品部 技術一課 一般生菌数（個／ｇ）：希釈法。標準寒天培地使用 フラン器内温度３５±１℃ ４８時間培養 酵 母 数（個／ｇ）：ポテドデキストロース培地使用 フラン器内温度２５±１℃ ７２〜９６時間培養 大腸菌群 （個／ｇ）：デスオキンコーレイト培地使用 フラン器内温度３５±１℃ ２４時間培養
【表２】 試験報告書 塚田理研工業（株）御中 平成３年３月２８日 奥野製薬工業株式会社 食品部 技術一課 貴社ご依頼の試験を下記の通り行いましたのでご報告します。 ［項目］カビ，菌類の培養試験 試験開始日 ３年３月２０日（３月１３日採取） ［テスト方法］ １．滅菌シャーレに試料希釈液を分注する。 ２．真菌用培地（クロラムフェニコール加ポテトデキストロース培地） で混釈する。 ３．培養温度 ２５±１℃，３５±１℃ 培養時間 ７２〜９６時間 ［結果］ （個／ｇ） 一般生菌数酵 大腸菌群 酵母数 イオン交換原水 １．９×１０2 ＜１０ ８×１０3
【表３】 試験報告書 塚田理研工業（株）御中 平成３年４月２日 奥野製薬工業株式会社 食品部 技術一課 貴社ご依頼の試験を下記の通り行いましたのでご報告します。 ［項目］ 菌類の数 試験開始日 ３年３月２８日（３月２０日採取） ［テスト方法］ １．滅菌シャーレに試料希釈液を分注する。 ２．真菌用培地（クロラムフェニコール加ポテトデキストロース培地）， 他で混釈する。 ３．培養温度 ２５±１℃ 培養時間 ７２〜９６時間 ［結果］ （個／ｇ） 一般生菌数酵 大腸菌群 酵母及びカビ イオン交換水処理水 − − − （セラミック） （以上）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 1/72 Ｚ 9045−4Ｄ 9/00 Ｚ 6647−4Ｄ
Claims (1)
- 【請求項１】 メッキ水洗槽１４と、メッキ水洗槽１４
の水洗液及び原水を受容する貯水槽１０と、貯水槽１０
の貯水を第１ポンプＰ１により送入され、イオン交換さ
れた処理水をメッキ水洗槽１に循環させる単独または複
数の槽からなるイオン交換装置１３と、貯水槽１０内の
水を濾過し、殺菌、酸化還元して中性水となすため貯水
槽１０にパイプ１５及び１９にて接続した濾過装置１６
と、紫外線ランプ筒１７と、粉末セラミック充填筒１８
と、第２ポンプＰ２との環型循環回路２０とよりなり、
貯水槽１０に貯溜した原水を、前記濾過装置１６にて水
のスラッヂを分離濾過し、紫外線ランプ筒１７にて殺菌
を行い、粉末セラミック充填筒１８にて求める酸化還元
電位に微調整し脱臭して得た処理水を第１ポンプＰ１に
てイオン交換装置１３に送り、該イオン交換装置１３に
てイオン化物質を除去してメッキ水洗槽１４に循環供給
するようにしたことを特徴とする殺菌装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3193649A JPH05140799A (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 殺菌装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3193649A JPH05140799A (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 殺菌装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05140799A true JPH05140799A (ja) | 1993-06-08 |
Family
ID=16311460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3193649A Pending JPH05140799A (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 殺菌装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05140799A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008018352A (ja) * | 2006-07-13 | 2008-01-31 | Ube Ind Ltd | メッキ洗浄水の再利用システムおよび処理装置 |
| KR100872523B1 (ko) * | 2008-01-22 | 2008-12-08 | 황정수 | 가축 음용을 위한 지하수의 처리장치 및 처리방법 |
| KR100947380B1 (ko) * | 2007-08-10 | 2010-03-15 | 기아자동차주식회사 | 차체 도장라인의 전착 도장 시스템용 양극액 살균장치 |
| WO2011142556A3 (ko) * | 2010-05-11 | 2012-02-02 | Cho Pyungok | 온실내의 다단수경재배 용수공급 시스템 |
| CN110372127A (zh) * | 2019-07-31 | 2019-10-25 | 赛普特环保技术(厦门)有限公司 | 一种环己六醇六全-二氢磷酸盐的提取装置及工艺 |
-
1991
- 1991-07-09 JP JP3193649A patent/JPH05140799A/ja active Pending
Cited By (5)
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