JPH04311564A - スパッタリング蒸発源保守装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、真空室内に設けられた
スパッタリング蒸発源の保守装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のスパッタリング装置は、例えば図
４に示すように、スパッタリング蒸発源ａを内部に設け
た真空室ｂの両側に、ゲートバルブｃ，ｄを介して仕込
室ｅと取出室ｆを夫々設けた構成のものが知られており
、これらの仕込室ｅと取出室ｆには、粗引バルブｇを介
して粗引ポンプｈに接続される粗引排気系、本引バルブ
ｉを介してクライオポンプｊ等に接続される本引排気系
及び大気導入バルブｋを備えた大気導入系が設けられ、
更に真空室ｂには本引排気系が設けられる。ｍ，ｎはス
パッタリングされる基板を該仕込室ｅ及び取出室ｆから
外部へ出し入れするために開口されるゲートバルブであ
る。

【０００３】該スパッタリング蒸発源ａは適当な使用時
間の経過後に保守点検されるが、その場合、図４に示す
ゲートバルブｃ，ｎを閉じ、ゲートバルブｄを開放し、
大気導入バルブｋを開いて真空室ｂ及び取出室ｆを大気
圧とした後、スパッタリング蒸発源ａの保守点検を行な
う。保守点検の完了後、粗引バルブｇを開放し、粗引ポ
ンプｈにより真空室ｂ及び取出室ｆ内を粗引排気し、所
定の圧力に達したら該粗引バルブｇを閉じて本引バルブ
ｉを開放し、本引排気系によって本引排気を行なう。該
スパッタリング蒸発源ａの保守点検は、図５に示すよう
に、真空室ｂから別個の保守機構によって下降させ引き
出すことによって行なう。ｏは真空フランジである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来のスパッタリング
蒸発源の保守点検は、真空室ｂ及び取出室ｆ内全体に大
気を導入して行なうために、これらの室の大きな面積が
大気にさらされ、保守点検の完了後の再真空排気に非常
に長い時間を必要とする不都合があった。

【０００５】本発明は、こうした不都合を解決して容易
にしかも短時間で蒸発源の保守点検を実施できるスパッ
タリング蒸発源保守装置を提供することを目的とするも
のである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明では、真空室を構
成する壁面に外部から着脱自在にスパッタリング蒸発源
を取り付けるようにしたものに於いて、該真空室内に、
該スパッタリング蒸発源の真空室内に露出した部分を気
密に覆う中空の仕切バルブを往復動自在に設け、該仕切
バルブに、その中空部内へ大気圧を導入する導入管と、
該中空部内を真空に排気する排気管を接続することによ
り、上記の目的を達成するようにした。

【０００７】

【作用】スパッタリング蒸発源を保守点検する場合、仕
切バルブを前進させて該スパッタリング蒸発源の真空室
内に露出した部分を気密に覆い、該仕切バルブの導入管
を開いてその中空部を大気圧としたのち該蒸発源を真空
室からその外部へ取り外す。保守点検の完了後に該蒸発
源を真空室へ取り付け、仕切バルブの中空部内を排気管
で真空に排気したのち、該仕切バルブを後退させる。

【０００８】この保守点検の間、真空室内の仕切バルブ
で囲まれた空間以外は大気にさらされることがなく、真
空が維持されるので、仕切バルブの狭い中空部が真空に
排気されるまでの短い時間が経過すれば、該真空室内に
基板を導入してスパッタリングを開始することができる
。

【０００９】

【実施例】本発明の実施例を図面に基づき説明すると、
図１は本発明の装置の概略を示し、同図に於いて符号１
はスパッタリング蒸発源２を備えた真空室を示し、該ス
パッタリング蒸発源２は従来のものと同様に真空室１を
構成する壁面１ａに外部から着脱自在に設けられる。該
真空室１の蒸発源２と対向する位置には、中空部３を有
するカップ状の往復動自在の仕切バルブ４を設け、該仕
切バルブ４が真空室１の外部に設けたエアシリンダ５で
押されると該蒸発源２の真空室１内へ露出した部分が気
密に覆われるようにした。該仕切バルブ４は、真空室１
に設けた摺動軸受６を挿通する中空の摺動軸７を介して
外部のエアシリンダ５に取り付けられ、該摺動軸７に大
気導入バルブ８を備えた大気導入管９と粗引バルブ１０
を備えた粗引ポンプ１１に連なる排気管１２とを接続し
、該摺動軸７内を介して仕切バルブ４の中空部３が真空
と大気圧とに変更されるようにした。該仕切バルブ４の
中空部３内には基板加熱用のヒータ１３が設けられ、該
ヒータ１３は仕切バルブ４が後退位置にあって基板トレ
ー１４に取り付けられた基板がスパッタリング蒸発源２
によりスパッタ処理する場合やスパッタリング蒸発源２
の保守の完了後にベーキングを行なうときに作動する。 １５は真空室１内に設けられたヒータである。尚、真空
室１の左右には、基板トレー１４の出し入れのためにゲ
ートバルブが設けられるがその記載を省略した。

【００１０】該仕切バルブ４の詳細は図３に示す如くで
あり、真空フランジに構成した壁面１ａを挿通する摺動
軸７と仕切バルブ４の間に真空ベローズ１６を設けて摺
動軸７の内部と仕切バルブ４の中空部３を気密に接続す
ると共に、該摺動軸７の仕切バルブ４に当接する先端部
を球状フランジ１７に形成してこれを押えフランジ１８
で仕切バルブ４に係着するようにした。また、該仕切バ
ルブ４がヒータ１３の熱により変形することを防止する
ために、その中空部３の内面に沿って冷却水が循環する
通路１９を設けるようにした。２０は仕切バルブ４の先
端面に取り付けたＯリング、２１は防着板である。

【００１１】その作動を説明すると、スパッタリング蒸
発源２の保守点検を行なう場合、真空室１内を真空に維
持しておき、エアシリンダ５で摺動軸７を前進させ、図
２或いは図３に示すように仕切バルブ４でスパッタリン
グ蒸発源２を覆い、大気導入バルブ８を開いて大気導入
管９から大気を中空部３内に導入する。そしてスパッタ
リング蒸発源２を真空室１から取り外し、その保守点検
が終わると再び図示のように取り付け、今度は粗引バル
ブ１０を開いて中空部３内を真空に排気する。このとき
、ヒータ１３を作動させて中空部３内の壁面や蒸発源２
をベーキングすると、真空排気を迅速に行なえる。該中
空部３内が真空室１内の真空圧と略同圧になると、エア
シリンダ５で仕切バルブ４を後退させ、スパッタリング
蒸発源２を作動させて基板の処理が開始されるが、仕切
バルブ４で囲まれた部分以外の真空室１内は大気にさら
されることがないので、該蒸発源２の保守点検の終了後
に基板の処理を迅速に開始することができる。防着板２
１等のベーキングや基板の加熱のためにヒータ１３を作
動させるときは、同時に冷却水を通路１９に循環させ、
熱による仕切バルブ４の変形を防止する。

【００１２】該仕切バルブ４と摺動軸７の間には真空ベ
ローズ１６が設けられており、該摺動軸７の先端には球
状フランジ１７が形成されているので、仕切バルブ４は
摺動軸７に対して比較的自由に揺動でき、真空室１の壁
面に多少の傾きがあっても、均一に仕切バルブ４の先端
を壁面に当接させることができる。

【００１３】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、、該スパ
ッタリング蒸発源の真空室内に露出した部分を気密に覆
う中空の仕切バルブを往復動自在に設け、該仕切バルブ
に、その中空部内へ大気圧を導入する導入管と、該中空
部内を真空に排気する排気管を設けたので、該スパッタ
リング蒸発源の保守点検時、真空室内が大気にさらされ
る部分が少なくなり、その保守点検後に再始動する時間
を短縮でき、しかも良質の真空が得られその操作も容易
に行なえる効果があり、該仕切バルブの中空部内にヒー
タと冷却水の通路を設けることにより、該仕切バルブの
変形を防ぎ蒸発源の保守点検後の再始動を更に早めるこ
とができ、該仕切バルブを移動させる摺動軸に球状フラ
ンジを設けて仕切バルブの自由な首振りを可能にするこ
とにより、均一に仕切バルブを壁面に押圧させることが
できる等の効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】　　本発明の実施例の截断側面図

【図２】　　
図１の作動状態の截断側面図

【図３】　　図１の詳細な
截断側面図

【図４】　　従来例の概略側面図

【図５】　　図１の一部の截断斜視図

【符号の説明】

１　　真空室　　　　　　　　２　　スパッタリング蒸
発源　　　　　　３　　中空部 ４　　仕切バルブ　　　　７　　摺動軸　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　９　　大気導入管 １２　　排気管　　　　　　１３　　ヒータ　　　　　
　　　　　　　　　　　　　１６　　真空ベローズ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　真空室を構成する壁面に外部から着脱
   自在にスパッタリング蒸発源を取り付けるようにしたも
   のに於いて、該真空室内に、該スパッタリング蒸発源の
   真空室内に露出した部分を気密に覆う中空の仕切バルブ
   を往復動自在に設け、該仕切バルブに、その中空部内へ
   大気圧を導入する導入管と、該中空部内を真空に排気す
   る排気管を接続したことを特徴とするスパッタリング蒸
   発源保守装置。
2. 【請求項２】　　上記仕切バルブの中空部内には、ヒー
   ターと、熱による該仕切バルブの変形を防止する冷却水
   の通路を備えたことを特徴とする請求項１に記載のスパ
   ッタリング蒸発源保守装置。
3. 【請求項３】　　上記仕切バルブは往復動自在の中空の
   摺動軸にベローズを介して接続され、該摺動軸の先端部
   に形成した球状フランジで該仕切バルブを真空室の壁面
   へ押圧することを特徴とする請求項１または２に記載の
   スパッタリング蒸発源保守装置。