JPH0548357Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0548357Y2 JPH0548357Y2 JP4884586U JP4884586U JPH0548357Y2 JP H0548357 Y2 JPH0548357 Y2 JP H0548357Y2 JP 4884586 U JP4884586 U JP 4884586U JP 4884586 U JP4884586 U JP 4884586U JP H0548357 Y2 JPH0548357 Y2 JP H0548357Y2
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- Japan
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- sample
- gate valve
- sample chamber
- adjustment
- chamber
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
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- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
イ 産業上の利用分野
本考案は、真空の照射系と試料室との間にゲー
トバルブを設け、試料取扱中ゲートバルブを閉じ
て照射系の真空状態が劣化しないようにした荷電
粒子線照射型分析装置に関する。
トバルブを設け、試料取扱中ゲートバルブを閉じ
て照射系の真空状態が劣化しないようにした荷電
粒子線照射型分析装置に関する。
ロ 従来の技術
従来荷電粒子線照射型分析装置、例えば走査型
電子顕微鏡で、加熱試料の観察を可能にするた
め、第3図に示すように、電子光学系1の鏡筒5
と試料ステージ7を納めた試料室6間の隔壁8に
ゲートバルブ10を設け、試料Aの加熱時或は試
料の交換時、ゲートバルブ10を閉じて試料室6
内の状態が電子光学系1の高真空に影響を与えな
いようにし、試料室6の真空度が所定の状態に達
したときゲートバルブ10を開いて試料ステージ
7によつて試料Aを上昇させて試料を観察してい
た。以上の試料の加熱は温度変化による試料の相
変化等を観察するために行われるが、この加熱に
よつて試料は吸着ガスを放出する。また試料の交
換時は試料室6に外気が侵入する。これらの場
合、試料室6の清浄な高真空が破られるのでゲー
トバルブを操作して電子光学系1の高真空を保護
するのである。ところで、この従来例のように試
料の加熱等から排気に至る試料の調整中、真空の
照射系(電子光学系等)と試料室間のゲートバル
ブを閉じるものにあつては、ゲートバルブの閉鎖
中試料の像観察はできず、したがつて照射系の動
作チエツクを含めて照射系の調節は殆どできず、
この調節は試料室の排気が進んで所定の真空度に
なつてゲートバルブが開かれた後、可能となる。
このように従来例は、ゲートバルブが閉じている
間に照射系の調節等ができず、したがつて作業時
間の短縮ができず、またこの調節等はゲートバル
ブを開いてから行うので照射系と試料室の連通時
間が長くなり照射系の清浄真空を汚す率が多角な
る等の問題点があつた。
電子顕微鏡で、加熱試料の観察を可能にするた
め、第3図に示すように、電子光学系1の鏡筒5
と試料ステージ7を納めた試料室6間の隔壁8に
ゲートバルブ10を設け、試料Aの加熱時或は試
料の交換時、ゲートバルブ10を閉じて試料室6
内の状態が電子光学系1の高真空に影響を与えな
いようにし、試料室6の真空度が所定の状態に達
したときゲートバルブ10を開いて試料ステージ
7によつて試料Aを上昇させて試料を観察してい
た。以上の試料の加熱は温度変化による試料の相
変化等を観察するために行われるが、この加熱に
よつて試料は吸着ガスを放出する。また試料の交
換時は試料室6に外気が侵入する。これらの場
合、試料室6の清浄な高真空が破られるのでゲー
トバルブを操作して電子光学系1の高真空を保護
するのである。ところで、この従来例のように試
料の加熱等から排気に至る試料の調整中、真空の
照射系(電子光学系等)と試料室間のゲートバル
ブを閉じるものにあつては、ゲートバルブの閉鎖
中試料の像観察はできず、したがつて照射系の動
作チエツクを含めて照射系の調節は殆どできず、
この調節は試料室の排気が進んで所定の真空度に
なつてゲートバルブが開かれた後、可能となる。
このように従来例は、ゲートバルブが閉じている
間に照射系の調節等ができず、したがつて作業時
間の短縮ができず、またこの調節等はゲートバル
ブを開いてから行うので照射系と試料室の連通時
間が長くなり照射系の清浄真空を汚す率が多角な
る等の問題点があつた。
ハ 考案が解決しようとする問題点
本考案は、前記従来例の問題点を解決するため
になされたもので、照射系と試料室間のゲートバ
ルブが試料の調整中閉じている状態において試料
に対する照射系の調節等が可能で、そのため作業
時間の短縮ができ、照射系の開時間も短くなり鏡
筒の高真空を維持し易いような荷電粒子線照射型
分析装置を得ることを目的とする。
になされたもので、照射系と試料室間のゲートバ
ルブが試料の調整中閉じている状態において試料
に対する照射系の調節等が可能で、そのため作業
時間の短縮ができ、照射系の開時間も短くなり鏡
筒の高真空を維持し易いような荷電粒子線照射型
分析装置を得ることを目的とする。
ニ 問題点解決のための手段
本考案は、第1図に例示するごとく、試料室6
内での試料調整中、照射系(電子光学系1)の高
真空を破らないように、照射系と試料室6間に設
けたゲートバルブ10の上面に照射系調節用の試
料A1の載置部11を設け、ゲートバルブ10の
下方の試料室6内に微動装置14を有する試料ス
テージ7を設けた荷電粒子線照射型分析装置をも
つて問題点の解決手段とする。
内での試料調整中、照射系(電子光学系1)の高
真空を破らないように、照射系と試料室6間に設
けたゲートバルブ10の上面に照射系調節用の試
料A1の載置部11を設け、ゲートバルブ10の
下方の試料室6内に微動装置14を有する試料ス
テージ7を設けた荷電粒子線照射型分析装置をも
つて問題点の解決手段とする。
ホ 作用
以下、試料Aを加熱する場合について作用を説
明する。試料Aをヒータ13で加熱する際は予め
ゲートバルブ10の載置部11に調整用試料A1
を載せて同バルブ10を閉じておく。試料Aは加
熱すると組織内に含有するガスが放出されて試料
室6内の真空は劣化するが、この影響はゲートバ
ルブ10に遮断されて鏡筒5の電子光学系1に及
ばない。以上試料Aの加熱が終わると試料室6の
排気を行つて同室内を所定の高真空に戻す。この
間、上部の電子光学系1では調整用試料A1に合
わせて、焦点合わせ、照射面積、走査速度、走査
線数等の調節を行う。この調節が済み、試料室6
の真空が元に戻つているとゲートバルブ10を開
く。次に試料微動装置14を走査して調整用試料
A1の元位置へ試料Aを上昇させ、加熱によつて
生じた試料Aの相変化を観察する。試料の交換時
も、同様の操作を行う。
明する。試料Aをヒータ13で加熱する際は予め
ゲートバルブ10の載置部11に調整用試料A1
を載せて同バルブ10を閉じておく。試料Aは加
熱すると組織内に含有するガスが放出されて試料
室6内の真空は劣化するが、この影響はゲートバ
ルブ10に遮断されて鏡筒5の電子光学系1に及
ばない。以上試料Aの加熱が終わると試料室6の
排気を行つて同室内を所定の高真空に戻す。この
間、上部の電子光学系1では調整用試料A1に合
わせて、焦点合わせ、照射面積、走査速度、走査
線数等の調節を行う。この調節が済み、試料室6
の真空が元に戻つているとゲートバルブ10を開
く。次に試料微動装置14を走査して調整用試料
A1の元位置へ試料Aを上昇させ、加熱によつて
生じた試料Aの相変化を観察する。試料の交換時
も、同様の操作を行う。
ヘ 実施例
本考案の一実施例を第1図、第2図によつて詳
述する。第1図には検出部、信号増幅部、表示部
等を省略した走査型電子顕微鏡の本体部が示され
ている。図中、1は電子銃2、集束レンズ3、対
物レンズ4等からなる電子光学系で、鏡筒5に収
納されている。6は底部に試料ステージ7を有す
る試料室で隔壁8を介して鏡筒下に結合されてい
る。隔壁8は対物レンズ4の中央孔に対応して孔
9が設けられており、この孔9には隔壁8の下面
摺接する状態でゲートバルブ10が設けられてい
る。ゲートバルブ10は、第2図に示すように、
中央に凹所からなる調整用試料A1の載置部11
が設けられており、駆動部12によつて進退し、
孔9を開閉する。前記試料ステージ7は試料Aを
加熱するためヒータ13を有し、また試料を直交
軸x,y,z方向等へ移動させる試料微動装置1
4を有する。試料微動装置14を操作すれば、ゲ
ートバルブ10が開いた後、調整用試料A1のあ
つた所へ試料Aを上昇させることができる。15
は真空ポンプにより電子光学系1の排気を行う排
気管で、16は別の補助真空ポンプにより試料室
6の排気を行う排気管である。
述する。第1図には検出部、信号増幅部、表示部
等を省略した走査型電子顕微鏡の本体部が示され
ている。図中、1は電子銃2、集束レンズ3、対
物レンズ4等からなる電子光学系で、鏡筒5に収
納されている。6は底部に試料ステージ7を有す
る試料室で隔壁8を介して鏡筒下に結合されてい
る。隔壁8は対物レンズ4の中央孔に対応して孔
9が設けられており、この孔9には隔壁8の下面
摺接する状態でゲートバルブ10が設けられてい
る。ゲートバルブ10は、第2図に示すように、
中央に凹所からなる調整用試料A1の載置部11
が設けられており、駆動部12によつて進退し、
孔9を開閉する。前記試料ステージ7は試料Aを
加熱するためヒータ13を有し、また試料を直交
軸x,y,z方向等へ移動させる試料微動装置1
4を有する。試料微動装置14を操作すれば、ゲ
ートバルブ10が開いた後、調整用試料A1のあ
つた所へ試料Aを上昇させることができる。15
は真空ポンプにより電子光学系1の排気を行う排
気管で、16は別の補助真空ポンプにより試料室
6の排気を行う排気管である。
以上、走査型電子顕微鏡における実施例を示し
たが、X線マイクロアナライザー等励起線を用い
るもので、真空の照射系と試料室間にゲートバル
ブを設ける装置は全て本考案を実施し得る。
たが、X線マイクロアナライザー等励起線を用い
るもので、真空の照射系と試料室間にゲートバル
ブを設ける装置は全て本考案を実施し得る。
ト 効果
本考案は以上のごときもので、ゲートバルブの
上面に照射系調節用の試料の載置部を設けたか
ら、試料の調整中乃至は試料交換中、調整用試料
を使つて照射系の調節が可能となつたのであり、
これによつて作業時間が短縮でき、またゲートバ
ルブの開時間も短縮できるので、照射系の高真空
も良好に維持される等の利点を有する。
上面に照射系調節用の試料の載置部を設けたか
ら、試料の調整中乃至は試料交換中、調整用試料
を使つて照射系の調節が可能となつたのであり、
これによつて作業時間が短縮でき、またゲートバ
ルブの開時間も短縮できるので、照射系の高真空
も良好に維持される等の利点を有する。
第1図は本考案のの一実施例の要部の正断面
図、第2図はは同上のゲートバルブ部分の一部切
欠斜視図、第3図は従来例の要部の正断面図であ
る。
図、第2図はは同上のゲートバルブ部分の一部切
欠斜視図、第3図は従来例の要部の正断面図であ
る。
Claims (1)
- 試料室内での試料調整中、荷電粒子線光学系の
高真空を破らないように照射系と試料室間に設け
られたゲートバルブの上面に、上記光学系調節用
の試料の載置部を設け、前記ゲートバルブの下方
の試料室内に試料を上記ゲートバルブの上面を越
える高さまで上昇させ得るx,y,z3軸方向駆動
可能な試料微動装置を有する試料ステージを位置
させた荷電粒子線照射型分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4884586U JPH0548357Y2 (ja) | 1986-03-31 | 1986-03-31 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4884586U JPH0548357Y2 (ja) | 1986-03-31 | 1986-03-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62160455U JPS62160455U (ja) | 1987-10-12 |
JPH0548357Y2 true JPH0548357Y2 (ja) | 1993-12-24 |
Family
ID=30870757
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4884586U Expired - Lifetime JPH0548357Y2 (ja) | 1986-03-31 | 1986-03-31 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0548357Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4580982B2 (ja) * | 2005-05-20 | 2010-11-17 | 株式会社アドバンテスト | 荷電粒子ビーム装置、コンタミネーションの除去方法及び試料の観察方法 |
-
1986
- 1986-03-31 JP JP4884586U patent/JPH0548357Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62160455U (ja) | 1987-10-12 |
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