JPH04301241A - 光ディスク製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【技術分野】本発明は、光ディスクを製造する方法及び
該製造方法により得られる光ディスクに関する。

【０００２】

【背景技術】光ディスク例えばビデオディスクの製造方
法としては、従来から図２に示す如き方法が知られてい
る。かかる製造方法によれば、まず、図２（ａ）に示す
ようにガラス盤１の主面上に一様にフォトレジスト層２
を形成したフォトレジスト原盤を用意して、所定の信号
に応じて明滅するレーザービームＬａを照射してフォト
レジスト層２上に、所定情報に対応したスポット列の潜
像を螺旋又は同心円状に形成する。次に、露光したフォ
トレジスト原盤を現像して、フォトレジスト原盤上に記
録すべき信号に対応する微小凹部（以下ピットと称する
）の列を設け、図２（ｂ）に示す如き、ピットを有する
フォトレジスト層２（情報記録層）とガラス盤１とから
なる現像原盤を得る。次に、かかる現像原盤のフォトレ
ジスト層２を乾燥させガラス盤１上に定着（ポストベー
キング）させて、図２（ｃ）に示す如き乾燥した原盤を
得る。次に、銀又はニッケル等の金属をスパッタリング
してフォトレジスト層２上に導電膜３を形成して、図２
（ｄ）に示す如き積層されたマスタリング原盤３ａを得
る。このように、ピットを有するフォトレジスト層上に
金属をスパッタリングすることによりピットを有する情
報記録面を導電化する。次に、得られたマスタリング原
盤をニッケル電鋳槽中に浸してニッケル（Ｎｉ）を導電
膜３上にメッキ（電鋳）して肉厚のニッケル層４すなわ
ちニッケルスタンパを形成して、図２（ｅ）に示す如き
円盤を得る。次に、図２（ｆ）に示す如くニッケル層４
であるスタンパをガラス盤１から分離する。次に、スタ
ンパ上に残ったフォトレジスト層２及び導電膜３を除去
して、図２（ｇ）に示すニッケルスタンパを得る。

【０００３】その後は、ニッケルスタンパを射出成形装
置の所定位置に取り付け、型締め後に、溶融した流動性
ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、ＰＣ（ポリカ
ーボネート）等の透明樹脂材料をニッケルスタンパ上に
射出して、樹脂材料の硬化後これを取り出して、所定情
報記録面を有した光ディスクレプリカが作成される。こ
のようにして得られたレプリカは、公知の方法によって
、レプリカの情報記録面上にアルミニウム等の反射膜を
形成して、さらに反射膜上に保護膜をオーバーコートし
て、光ディスクが形成される。また、この光ディスクを
２枚貼り合わせ、仕上げ工程を経て、通常、両面光ディ
スクを得ている。

【０００４】しかしながら、このような従来方法におい
ては、スタンパの製造までに電鋳工程の工程数が多くメ
ッキに時間が掛かり、さらに、レプリカ製造用の射出成
形装置が比較的大型の装置が必要である。スタンパ製造
に時間、コストが掛かかるので、近年の少量多品種の映
像音声ソフトに対応した数枚の光ディスクの製造には十
分適しているとはいえない。

【０００５】

【発明の目的】本発明の目的は、比較的簡素な工程にて
少量多品種生産に適する光ディスク及びその製造方法を
提供することにある。

【０００６】

【発明の構成】本発明による光ディスク製造方法は、透
明基板と、該透明基板上に形成され樹脂、感光剤及びバ
ラスト化合物を含有するフォトレジスト層とからなる原
盤上への集光レーザー光の照射によって前記フォトレジ
ストを露光する工程と、前記原盤を現像し微小凹凸を前
記フォトレジスト層の表面に形成する現像工程と、前記
フォトレジスト層を加熱して定着させるポストベーキン
グ工程と、前記原盤の表面に紫外線を照射する紫外線照
射工程と、フォトレジスト層上に反射膜を形成する工程
と、前記反射膜上に保護膜を形成する工程とを含むこと
を特徴とする。

【０００７】本発明による光ディスクは、透明基板と、
前記透明基板上に形成されかつ微小凹凸を表面に有しか
つ樹脂、感光剤及びバラスト化合物とからなるフォトレ
ジスト層と、前記フォトレジスト層上に形成された反射
膜とからなることを特徴とする。

【０００８】

【発明の作用】本発明によれば、光ディスクの製造工程
数を減少させ、光ディスクの長寿命化ができる。

【０００９】

【実施例】以下に、本発明による実施例を図面を参照し
つつ説明する。基板としてガラス、ＰＭＭＡ、ＰＣ等か
らなる洗浄された透明基盤１０の主面上に亘って一様に
フォトレジスト層２０をスピンコート法等により形成し
たフォトレジスト原盤を用意する。図１（ａ）に示すよ
うに、所定の記録すべき信号に応じて明滅するレーザー
ビームＬａを照射してフォトレジスト層２０上に、所定
情報に対応したスポット列の潜像を螺旋又は同心円状に
形成する。フォトレジスト層２０は樹脂、感光剤及びバ
ラスト化合物からなり、その成分は後に詳述する。

【００１０】次に、露光したフォトレジスト原盤を現像
して、該原盤上に記録すべき信号に対応する微小凹部の
列を設け、図１（ｂ）に示す如き、ピットを有するフォ
トレジスト層２０（情報記録層）と透明基盤１０とから
なる現像原盤を得る。次に、かかる現像原盤のフォトレ
ジスト層２０を加熱、乾燥させ透明基盤１０上に定着（
ポストベーキング）させて、図１（ｃ）に示す如き原盤
を得る。

【００１１】次に、図１（ｄ）に示すように、紫外線を
フォトレジスト層２０上から照射してフォトレジスト層
２０における樹脂などの架橋を促進させ、情報記録面と
してフォトレジスト層を硬化させる。次に、図１（ｅ）
に示すように、この微小凹部列の情報記録面上にアルミ
ニウム等の反射膜３０を形成して、図１（ｆ）に示すよ
うに、さらに反射膜３０上に保護膜４０をオーバーコー
トして、光ディスクが形成される。

【００１２】本実施例の光ディスク製造方法においては
、ポストベーキング工程までは従来と同様である。本実
施例ではポストベーキング工程後にフォトレジスト層２
０の架橋促進工程を設けたことを特徴とする。すなわち
、本実施例の１枚〜数枚の光ディスクを作製するにあた
り、フォトレジスト層にピットを形成したものに反射膜
をつけて光ディスクとしている。そのために、フォトレ
ジスト層２０の経時劣化をおさえ、かつフォトレジスト
層による反射膜の腐食を防止する必要がある。そこで、
フォトレジスト層２０の架橋を進行させることにより、
フォトレジスト層２０を安定な状態にし反射膜の腐食を
も抑制している。

【００１３】従来、フォトレジスト層にピットを形成し
たものに反射膜をつけてそのまま光ディスクとしようと
試みられたこともあったが、フォトレジスト層の劣化、
およびフォトレジスト層に密着した反射膜の劣化のため
、性能を長期間にわたり維持することができなかった。 かかる実施例の製造方法によりこれらの問題や、上記し
た時間的、製造工程数的問題などを解決した。かかる実
施例の光ディスクは、製造工程中スタンパによるレプリ
カを作成する工程がないので、正確な情報記録面を有し
ている。

【００１４】フォトレジスト層２０は以下の（１）〜（
３）の成分を有するものが好ましい。 （１）　　樹脂成分（ベースポリマー）：樹脂は下記化
学式１に示す主としてクレゾールノボラックが好ましい
。

【００１５】

【化１】

【００１６】（２）感光剤：感光剤は下記化学式２に示
す主として１，２ナフトキノンジアジド−５−スルホニ
ッククロライドと下記化学式３〜１５で示すバラスト化
合物とエステルが好ましい。

【００１７】

【化２】

【００１８】（３）　　バラスト化合物：バラスト化合
物は下記化学式３〜１５で示されるものが好ましく、配
合量はフォトレジスト全体の３〜９ｗｔ．％が好ましい
。

【００１９】

【化３】

【００２０】

【化４】

【００２１】

【化５】

【００２２】

【化６】

【００２３】

【化７】

【００２４】

【化８】

【００２５】

【化９】

【００２６】

【化１０】

【００２７】

【化１１】

【００２８】

【化１２】

【００２９】

【化１３】

【００３０】

【化１４】

【００３１】

【化１５】

【００３２】上記化学式２に示されるようなナフトキノ
ンアジド等のフォトレジストの感光剤の紫外線ｈνによ
る光反応は下記の化学式１６に示されるように進む。

【００３３】

【化１６】

【００３４】ここで、架橋の進行という点から考えると
、架橋しやすいインデンケテンのまま、水のない状態で
、熱（ベーキング）又は光（紫外線）を与えると、イン
デンケテンによりベースポリマーが架橋され効率的であ
る。特に現在のポジ型フォトレジストのベースポリマー
主成分であるクレゾールノボラックの場合は架橋を進行
させることによって最終的には安定な熱硬化性のベーク
ライト（クレゾールホルマリン樹脂）になる。バラスト
化合物は、その−ＯＨ基に感光剤を付加してレジスト中
に大量の感光剤を導入出来できベースポリマーとの架橋
度を上げることが出来る。

【００３５】

【発明の効果】以上のように、本発明の光ディスク製造
方法によれば、製造工程を簡略化出来、少量多品種の映
像音声ソフトに対応した少量の光ディスクの製造に適す
る。本発明の光ディスクによれば、ピット形状が整って
いる情報記録面が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による光ディスクの製造方法の各工程に
おける部材の概略断面図である。

【図２】従来の光ディスクの製造方法の各工程における
部材の概略断面図である。

【符号の説明】

１０……透明基盤 ２０……フォトレジスト層 ３０……反射層 ４０……保護層

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　透明基板と、該透明基板上に形成され
   樹脂、感光剤及びバラスト化合物を含有するフォトレジ
   スト層とからなる原盤上への集光レーザー光の照射によ
   って前記フォトレジストを露光する工程と、前記原盤を
   現像し微小凹凸を前記フォトレジスト層の表面に形成す
   る現像工程と、前記フォトレジスト層を加熱して定着さ
   せるポストベーキング工程と、前記原盤の表面に紫外線
   を照射する紫外線照射工程と、フォトレジスト層上に反
   射膜を形成する工程と、前記反射膜上に保護膜を形成す
   る工程とを含むことを特徴とする光ディスク製造方法。
2. 【請求項２】　　透明基板と、前記透明基板上に形成さ
   れかつ微小凹凸を表面に有しかつ樹脂、感光剤及びバラ
   スト化合物とからなるフォトレジスト層と、前記フォト
   レジスト層上に形成された反射膜とからなることを特徴
   とする光ディスク。