JPH05257277A - 光ディスク用フォトレジスト - Google Patents
光ディスク用フォトレジストInfo
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- JPH05257277A JPH05257277A JP5805192A JP5805192A JPH05257277A JP H05257277 A JPH05257277 A JP H05257277A JP 5805192 A JP5805192 A JP 5805192A JP 5805192 A JP5805192 A JP 5805192A JP H05257277 A JPH05257277 A JP H05257277A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molecular weight
- photoresist
- ratio
- average molecular
- base resin
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
- G03F7/0236—Condensation products of carbonyl compounds and phenolic compounds, e.g. novolak resins
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レジスト膜中での露光，現像反応の均一性が
向上しており、したがってピットサイズを小さくしても
ピット形状にばらつきを生じることが少なく、再生時の
ノイズレベルが低くてＣＮ比（搬送波対雑音比）が向上
した高密度の光ディスクを得ることのできる光ディスク
用フォトレジストを提供する。 【構成】 感光剤とベース・レジンとを含有し、前記ベ
ース・レジンの分子量分布（重量平均分子量Ｍw ／数平
均分子量Ｍn ）が５．８以下である光ディスク用フォト
レジストであり、さらに前記感光剤のエステル化率が８
０％以上である光ディスク用フォトレジストである。
向上しており、したがってピットサイズを小さくしても
ピット形状にばらつきを生じることが少なく、再生時の
ノイズレベルが低くてＣＮ比（搬送波対雑音比）が向上
した高密度の光ディスクを得ることのできる光ディスク
用フォトレジストを提供する。 【構成】 感光剤とベース・レジンとを含有し、前記ベ
ース・レジンの分子量分布（重量平均分子量Ｍw ／数平
均分子量Ｍn ）が５．８以下である光ディスク用フォト
レジストであり、さらに前記感光剤のエステル化率が８
０％以上である光ディスク用フォトレジストである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスク用フォトレジ
ストに関し、特に、記録密度の高い光ディスクの製造に
好適に使用可能な光ディスク用フォトレジストに関す
る。
ストに関し、特に、記録密度の高い光ディスクの製造に
好適に使用可能な光ディスク用フォトレジストに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】光ディスク原盤は、通常、次のような工
程で作製されている。図２（ａ）に示すように、先ず、
よく研磨されたガラス基板１００上にポジ型フォトレジ
ストを均一の厚さに塗布し、図２（ｂ）に示すように、
フォトレジスト層１０１を形成する。次いで、図２
（ｃ）に示すように、このフォトレジスト層１０１のピ
ット対応部にレーザー光を照射する。フォトレジスト層
１０１におけるレーザー光が照射された部分は非照射部
に比較してアルカリ現像液に溶解しやすくなるため、フ
ォトレジスト層１０１にアルカリ現像液を塗布して現像
を行うと、図２（ｄ）に示すように、レーザー光が照射
された部分にピットに相当する凹部が形成される。その
後、図２（ｅ）に示すように、フォトレジスト層１０１
上に導電性を付与する金属膜１０２を形成する。ここ
で、金属膜１０２を形成する金属としては、たとえば銀
（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）などが挙げられる。次い
で、図２（ｆ）に示すように、電鋳を行って金属膜１０
２上に、たとえばニッケル（Ｎｉ）電鋳体１０３を形成
し、このニッケル（Ｎｉ）電鋳体１０３を金属膜１０２
とともにフォトレジスト層１０１およびガラス基板１０
０から剥離して得られるものを、図２（ｇ）に示すよう
な金属原盤（スタンパ）１０４とする。
程で作製されている。図２（ａ）に示すように、先ず、
よく研磨されたガラス基板１００上にポジ型フォトレジ
ストを均一の厚さに塗布し、図２（ｂ）に示すように、
フォトレジスト層１０１を形成する。次いで、図２
（ｃ）に示すように、このフォトレジスト層１０１のピ
ット対応部にレーザー光を照射する。フォトレジスト層
１０１におけるレーザー光が照射された部分は非照射部
に比較してアルカリ現像液に溶解しやすくなるため、フ
ォトレジスト層１０１にアルカリ現像液を塗布して現像
を行うと、図２（ｄ）に示すように、レーザー光が照射
された部分にピットに相当する凹部が形成される。その
後、図２（ｅ）に示すように、フォトレジスト層１０１
上に導電性を付与する金属膜１０２を形成する。ここ
で、金属膜１０２を形成する金属としては、たとえば銀
（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）などが挙げられる。次い
で、図２（ｆ）に示すように、電鋳を行って金属膜１０
２上に、たとえばニッケル（Ｎｉ）電鋳体１０３を形成
し、このニッケル（Ｎｉ）電鋳体１０３を金属膜１０２
とともにフォトレジスト層１０１およびガラス基板１０
０から剥離して得られるものを、図２（ｇ）に示すよう
な金属原盤（スタンパ）１０４とする。
【０００３】そして、このような光ディスク原盤の作製
工程においては、従来、半導体製造用のフォトレジスト
がそのまま転用されていた。
工程においては、従来、半導体製造用のフォトレジスト
がそのまま転用されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本件発
明者が光ディスクの高密度化について種々の検討を重ね
た結果、従来より用いられてきた半導体製造用のフォト
レジストは、記録密度の高い、いわゆる高密度の光ディ
スクの製造には不適当であることが判明した。
明者が光ディスクの高密度化について種々の検討を重ね
た結果、従来より用いられてきた半導体製造用のフォト
レジストは、記録密度の高い、いわゆる高密度の光ディ
スクの製造には不適当であることが判明した。
【０００５】すなわち、半導体製造用のフォトレジスト
を用いてピットサイズが小さい、いわゆる高密度の光デ
ィスク原盤を作製すると、この原盤から得られる光ディ
スクにおいては、ピットサイズが小さくなるのに伴なっ
て再生時のノイズレベルが上昇し、十分なＣＮ比（搬送
波対雑音比）を得ることができないという問題が生じる
ことが明らかになった。
を用いてピットサイズが小さい、いわゆる高密度の光デ
ィスク原盤を作製すると、この原盤から得られる光ディ
スクにおいては、ピットサイズが小さくなるのに伴なっ
て再生時のノイズレベルが上昇し、十分なＣＮ比（搬送
波対雑音比）を得ることができないという問題が生じる
ことが明らかになった。
【０００６】本発明は、かかる事情に基づいてなされた
ものであり、本発明の目的は、ピットサイズを小さくし
てもピット形状のばらつきが少なく、したがって再生時
のノイズレベルが低くてＣＮ比（搬送波対雑音比）が向
上した高密度の光ディスクを得ることのできる光ディス
ク用フォトレジストを提供することにある。
ものであり、本発明の目的は、ピットサイズを小さくし
てもピット形状のばらつきが少なく、したがって再生時
のノイズレベルが低くてＣＮ比（搬送波対雑音比）が向
上した高密度の光ディスクを得ることのできる光ディス
ク用フォトレジストを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めの本発明の構成は、感光剤とベース・レジンとを含有
し、光ディスク原盤の作製に使用されるポジ型フォトレ
ジストにおいて、前記ベース・レジンの分子量分布（重
量平均分子量Ｍw ／数平均分子量Ｍn ）が５．８以下で
あることを特徴とする光ディスク用フォトレジストであ
り、さらに前記感光剤のエステル化率が８０％以上であ
る前記の光ディスク用フォトレジストである。
めの本発明の構成は、感光剤とベース・レジンとを含有
し、光ディスク原盤の作製に使用されるポジ型フォトレ
ジストにおいて、前記ベース・レジンの分子量分布（重
量平均分子量Ｍw ／数平均分子量Ｍn ）が５．８以下で
あることを特徴とする光ディスク用フォトレジストであ
り、さらに前記感光剤のエステル化率が８０％以上であ
る前記の光ディスク用フォトレジストである。
【０００８】次に、この光ディスク用フォトレジストの
成分等について説明する。この光ディスク用フォトレジ
ストは、ベース・レジンと感光剤とを含有している。
成分等について説明する。この光ディスク用フォトレジ
ストは、ベース・レジンと感光剤とを含有している。
【０００９】ベース・レジンとしては、たとえばアルカ
リ可溶性ノボラック樹脂が好適に用いられる。さらに具
体的には、クレゾールノボラック樹脂、フェノールノボ
ラック樹脂などが好適に用いられる。
リ可溶性ノボラック樹脂が好適に用いられる。さらに具
体的には、クレゾールノボラック樹脂、フェノールノボ
ラック樹脂などが好適に用いられる。
【００１０】このベース・レジンの分子量分布（重量平
均分子量Ｍw ／数平均分子量Ｍn ）は５．８以下、好ま
しくは５．０以下である。ベース・レジンの分子量分布
（重量平均分子量Ｍw ／数平均分子量Ｍn ）が５．８を
超えると、そのようなベース・レジンを含有するフォト
レジストを用いて形成されるフォトレジスト膜中では露
光，現像の反応が均一に進行しないため、特にピットサ
イズを小さくすると、ピット形状のばらつきが大きくな
り、その結果、再生時のノイズレベルが高くて十分なＣ
Ｎ比（搬送波対雑音比）を得ることができない。また、
このベース・レジンの重量平均分子量Ｍw は、通常、
５，０００〜１０，０００程度である。このようなベー
ス・レジンとともに含有される感光剤としては、たとえ
ばｏ−キノンジアジド、ナフトキノンジアジド等とフェ
ノール性−ＯＨ基をもつポリマーもしくはモノマー（こ
れらをバラスト化合物という）とのエステル反応物が挙
げられる。そして、この感光剤は、そのエステル化率が
８０％以上、特に９０％以上であることが好ましい。感
光剤のエステル化率が８０％以上であると、そのような
感光剤を分子量分布（重量平均分子量Ｍw ／数平均分子
量Ｍn ）が５．８以下であるベース・レジンとともに含
有するフォトレジストにより形成されたレジスト膜中で
は、露光，現像反応の均一性がさらに向上し、ＣＮ比
（搬送波対雑音比）の高い原盤を得ることができる。
均分子量Ｍw ／数平均分子量Ｍn ）は５．８以下、好ま
しくは５．０以下である。ベース・レジンの分子量分布
（重量平均分子量Ｍw ／数平均分子量Ｍn ）が５．８を
超えると、そのようなベース・レジンを含有するフォト
レジストを用いて形成されるフォトレジスト膜中では露
光，現像の反応が均一に進行しないため、特にピットサ
イズを小さくすると、ピット形状のばらつきが大きくな
り、その結果、再生時のノイズレベルが高くて十分なＣ
Ｎ比（搬送波対雑音比）を得ることができない。また、
このベース・レジンの重量平均分子量Ｍw は、通常、
５，０００〜１０，０００程度である。このようなベー
ス・レジンとともに含有される感光剤としては、たとえ
ばｏ−キノンジアジド、ナフトキノンジアジド等とフェ
ノール性−ＯＨ基をもつポリマーもしくはモノマー（こ
れらをバラスト化合物という）とのエステル反応物が挙
げられる。そして、この感光剤は、そのエステル化率が
８０％以上、特に９０％以上であることが好ましい。感
光剤のエステル化率が８０％以上であると、そのような
感光剤を分子量分布（重量平均分子量Ｍw ／数平均分子
量Ｍn ）が５．８以下であるベース・レジンとともに含
有するフォトレジストにより形成されたレジスト膜中で
は、露光，現像反応の均一性がさらに向上し、ＣＮ比
（搬送波対雑音比）の高い原盤を得ることができる。
【００１１】前記ベース・レジンと感光剤との含有割合
は、ベース・レジンおよび感光剤の種類、組合わせ等に
より相違するので一様に決定することが困難であるが、
たとえばクレゾールノボラック樹脂とナフトキノン１−
２ジアジド−５−スルホン酸クロライドが非ベンゾフェ
ノン系バラスト化合物にエステル反応した反応物との組
合わせからなるフォトレジストにおいては、クレゾール
ノボラック樹脂１００重量部当たり上記の反応物が３０
〜４０重量部、好ましくは４０重量部以上、さらに好ま
しくは６０重量部以上である。
は、ベース・レジンおよび感光剤の種類、組合わせ等に
より相違するので一様に決定することが困難であるが、
たとえばクレゾールノボラック樹脂とナフトキノン１−
２ジアジド−５−スルホン酸クロライドが非ベンゾフェ
ノン系バラスト化合物にエステル反応した反応物との組
合わせからなるフォトレジストにおいては、クレゾール
ノボラック樹脂１００重量部当たり上記の反応物が３０
〜４０重量部、好ましくは４０重量部以上、さらに好ま
しくは６０重量部以上である。
【００１２】この光ディスク用フォトレジストは、光の
照射によってアルカリ可溶となる光可溶化型（ポジタイ
プ）の感光性樹脂であり、レジスト層中で露光，現像反
応が均一に進行することから、ピットサイズが小さい高
密度の光ディスク原盤を作製すると、得られる光ディス
ク原盤においては、ピット形状のばらつきが少なく、こ
れにより再生時のノイズレベルが低下してＣＮ比（搬送
波対雑音比）の向上が達成される。
照射によってアルカリ可溶となる光可溶化型（ポジタイ
プ）の感光性樹脂であり、レジスト層中で露光，現像反
応が均一に進行することから、ピットサイズが小さい高
密度の光ディスク原盤を作製すると、得られる光ディス
ク原盤においては、ピット形状のばらつきが少なく、こ
れにより再生時のノイズレベルが低下してＣＮ比（搬送
波対雑音比）の向上が達成される。
【００１３】次に実験例を示し、この光ディスク用フォ
トレジストについて、さらに具体的に説明する。実験例−１ ベース・レジンとして分子量分布（重量平均分子量Ｍw
／数平均分子量Ｍn ）が５．４であるクレーゾールノボ
ラック樹脂と感光剤として非ベンゾフェノン系バラスト
化合物にナフトキノン１−２ジアジド−５−スルホン酸
クロライドをエステル反応させた反応物（エステル化率
８０〜９０％）とを、クレゾールノボラック樹脂１００
重量部に対して３０〜４０重量部の割合で配合して試料
−１を調製した。
トレジストについて、さらに具体的に説明する。実験例−１ ベース・レジンとして分子量分布（重量平均分子量Ｍw
／数平均分子量Ｍn ）が５．４であるクレーゾールノボ
ラック樹脂と感光剤として非ベンゾフェノン系バラスト
化合物にナフトキノン１−２ジアジド−５−スルホン酸
クロライドをエステル反応させた反応物（エステル化率
８０〜９０％）とを、クレゾールノボラック樹脂１００
重量部に対して３０〜４０重量部の割合で配合して試料
−１を調製した。
【００１４】この試料−１を用いて１．２ｍｍ厚のガラ
ス原盤上にピットパターンを形成した後、このレジスト
上に直接にアルミニウム膜を蒸着し、得られた原盤のＣ
Ｎ比を測定した。結果を表１に示す。
ス原盤上にピットパターンを形成した後、このレジスト
上に直接にアルミニウム膜を蒸着し、得られた原盤のＣ
Ｎ比を測定した。結果を表１に示す。
【００１５】なお、記録系および再生系の構成ならびに
信号の記録再生条件は次の通りである。 記録系の構成；波長λ＝３５１ｎｍ，開口数ＮＡ＝０．
９ 再生系の構成；波長λ＝４４２ｎｍ，開口数ＮＡ＝０．
５ 信号の記録；ｆ＝１０ＭＨｚ，線速度＝１２ｍ／ｓｅｃ
（ＣＬＶ） 信号の再生；線速度＝１２ｍ／ｓｅｃ，ＲＢＷ＝３０ｋ
Ｈｚ
信号の記録再生条件は次の通りである。 記録系の構成；波長λ＝３５１ｎｍ，開口数ＮＡ＝０．
９ 再生系の構成；波長λ＝４４２ｎｍ，開口数ＮＡ＝０．
５ 信号の記録；ｆ＝１０ＭＨｚ，線速度＝１２ｍ／ｓｅｃ
（ＣＬＶ） 信号の再生；線速度＝１２ｍ／ｓｅｃ，ＲＢＷ＝３０ｋ
Ｈｚ
【００１６】
【表１】 実験例−２ 前記試料−１における感光剤をエステル化率が１００％
であるエステル反応物に置き換えて試料−２を調製し
た。すなわち、試料−１と試料−２とは感光剤のエステ
ル化率が異なるほかは、同一の組成である。
であるエステル反応物に置き換えて試料−２を調製し
た。すなわち、試料−１と試料−２とは感光剤のエステ
ル化率が異なるほかは、同一の組成である。
【００１７】この試料−２を用いて１．２ｍｍ厚のガラ
ス原盤上にピットパターンを形成した後、このレジスト
上に直接にアルミニウム膜を蒸着し、得られた原盤のＣ
Ｎ比を測定したところ、試料−１よりも０．７ｄＢ高い
値を示した。結果を表１に示す。比較実験例−１ 前記試料−１におけるベース・レジンを分子量分布（重
量平均分子量Ｍw ／数平均分子量Ｍn ）が６．３である
ベース・レジンに置き換えて試料−３を調製した。すな
わち、試料−１と試料−３とはベース・レジンが異なる
ほかは、同一の組成である。
ス原盤上にピットパターンを形成した後、このレジスト
上に直接にアルミニウム膜を蒸着し、得られた原盤のＣ
Ｎ比を測定したところ、試料−１よりも０．７ｄＢ高い
値を示した。結果を表１に示す。比較実験例−１ 前記試料−１におけるベース・レジンを分子量分布（重
量平均分子量Ｍw ／数平均分子量Ｍn ）が６．３である
ベース・レジンに置き換えて試料−３を調製した。すな
わち、試料−１と試料−３とはベース・レジンが異なる
ほかは、同一の組成である。
【００１８】この試料−３を用いて１．２ｍｍ厚のガラ
ス原盤上にピットパターンを形成した後、このレジスト
上に直接にアルミニウム膜を蒸着し、得られた原盤のＣ
Ｎ比を測定したところ、試料−１よりも２．５ｄＢ低い
値を示した。結果を表１に示す。比較実験例−２ ６種類の半導体製造用フォトレジスト市販品Ａ，Ｂ，
Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆについて、それぞれの分子量分布（重量
平均分子量Ｍw ／数平均分子量Ｍn ）を測定するととも
に、各フォトレジストを用いて１．２ｍｍ厚のガラス原
盤上にピットパターンを形成した後、このレジスト上に
直接にアルミニウム膜を蒸着して６種類の原盤を作製し
た。各原盤のＣＮ比を測定したところ、表１に示す結果
が得られた。結果の検討 表１から明らかなように試料−３および各種の半導体製
造用フォトレジスト市販品を用いて作製された光ディス
ク原盤のＣＮ比に比較して、試料−１および試料−２を
用いて作製された光ディスク原盤のＣＮ比はいずれも大
巾に向上していることから、本発明の光ディスク用フォ
トレジストはピットサイズが小さくて記録密度が高い、
いわゆる高密度の光ディスクの製造に好適に使用可能で
あることが確認された。また、試料−１、試料−２、試
料−３および各種の半導体製造用フォトレジスト市販品
について、分子量分布（重量平均分子量Ｍw ／数平均分
子量Ｍn ）とＣＮ比との関係を、縦軸をＣＮ比とし、横
軸を分子量分布値とする座標系にプロットしたところ、
図１に示す結果が得られた。この図１からベース・レジ
ンの分子量分布が大きくなるほど、ＣＮ比が低下する傾
向があることが確認された。
ス原盤上にピットパターンを形成した後、このレジスト
上に直接にアルミニウム膜を蒸着し、得られた原盤のＣ
Ｎ比を測定したところ、試料−１よりも２．５ｄＢ低い
値を示した。結果を表１に示す。比較実験例−２ ６種類の半導体製造用フォトレジスト市販品Ａ，Ｂ，
Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆについて、それぞれの分子量分布（重量
平均分子量Ｍw ／数平均分子量Ｍn ）を測定するととも
に、各フォトレジストを用いて１．２ｍｍ厚のガラス原
盤上にピットパターンを形成した後、このレジスト上に
直接にアルミニウム膜を蒸着して６種類の原盤を作製し
た。各原盤のＣＮ比を測定したところ、表１に示す結果
が得られた。結果の検討 表１から明らかなように試料−３および各種の半導体製
造用フォトレジスト市販品を用いて作製された光ディス
ク原盤のＣＮ比に比較して、試料−１および試料−２を
用いて作製された光ディスク原盤のＣＮ比はいずれも大
巾に向上していることから、本発明の光ディスク用フォ
トレジストはピットサイズが小さくて記録密度が高い、
いわゆる高密度の光ディスクの製造に好適に使用可能で
あることが確認された。また、試料−１、試料−２、試
料−３および各種の半導体製造用フォトレジスト市販品
について、分子量分布（重量平均分子量Ｍw ／数平均分
子量Ｍn ）とＣＮ比との関係を、縦軸をＣＮ比とし、横
軸を分子量分布値とする座標系にプロットしたところ、
図１に示す結果が得られた。この図１からベース・レジ
ンの分子量分布が大きくなるほど、ＣＮ比が低下する傾
向があることが確認された。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、以上の構成としたの
で、レジスト膜中で露光，現像反応が均一に進行するよ
うになり、ピットサイズを小さくしてもピット形状のば
らつきが少なく、したがって再生時のノイズレベルが低
くてＣＮ比（搬送波対雑音比）が向上した高密度の光デ
ィスクの製造に好適に使用することのできる光ディスク
用フォトレジストを提供することができる。
で、レジスト膜中で露光，現像反応が均一に進行するよ
うになり、ピットサイズを小さくしてもピット形状のば
らつきが少なく、したがって再生時のノイズレベルが低
くてＣＮ比（搬送波対雑音比）が向上した高密度の光デ
ィスクの製造に好適に使用することのできる光ディスク
用フォトレジストを提供することができる。
【図１】本発明の実験例および比較実験例で用いた各フ
ォトレジスト中のベース・レジンの分子量分布値と各フ
ォトレジストを用いて得られた原盤のＣＮ比との関係を
示す相関図である。
ォトレジスト中のベース・レジンの分子量分布値と各フ
ォトレジストを用いて得られた原盤のＣＮ比との関係を
示す相関図である。
【図２】光ディスク原盤の製造工程を模式的に示す説明
図である。
図である。
１００…ガラス基板 １０１…フォトレジスト層 １０２…金属膜 １０３…ニッケル電鋳体 １０４…金属原盤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 尾越 国三 埼玉県鶴ケ島市富士見６丁目１番１号 パ イオニア株式会社総合研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 感光剤とベース・レジンとを含有し、光
ディスク原盤の作製に使用されるポジ型フォトレジスト
において、前記ベース・レジンの分子量分布（重量平均
分子量Ｍw ／数平均分子量Ｍn ）が５．８以下であるこ
とを特徴とする光ディスク用フォトレジスト。 - 【請求項２】 さらに前記感光剤のエステル化率が８０
％以上である請求項１記載の光ディスク用フォトレジス
ト。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5805192A JPH05257277A (ja) | 1992-03-16 | 1992-03-16 | 光ディスク用フォトレジスト |
| EP92310697A EP0561079A1 (en) | 1992-03-16 | 1992-11-23 | Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5805192A JPH05257277A (ja) | 1992-03-16 | 1992-03-16 | 光ディスク用フォトレジスト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05257277A true JPH05257277A (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=13073125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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1992
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Also Published As
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