JPH01260650A

JPH01260650A - 光記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH01260650A
Application number: JP63088735A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Kanehira; 淳金平; Toshiyuki Kanno; 敏之管野
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1988-04-11
Filing date: 1988-04-11
Publication date: 1989-10-17

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】「産業上の利用分野］本発明は光記録媒体の製造方法に関し、特に光カード媒
体のガイドトラック及びプリフォーマットの形成に係わ
るものである。

［従来の技術］周知の如く、ガイドトラック及びプリフォーマットを形
成する方法として、凹凸パターンにょる位相型検出方式
（前者）と明暗パターンによる反射型検出方式（後者）
が知られている。ここで、前者としては、インジェクシ
ョン法、フォトポリメリゼーション法（２Ｐ法）（従来
例１；特開昭Ｇｏ−９［１４９１号）が知られている。

ところで、２Ｐ法によって形成する位相型プリフォーマ
ット情報は、微細パターンの形成が可能で、耐溶剤性が
高く色素塗布型に適している。また、後者としては、下
記の方法が知られれている。

（イ）銀粒子をゼラチンマトリックス中に分散した記録
層にパターン露光と化学処理によって行う方法（従来例
２　、　Ｕ　Ｓ　Ｐ　４’、２８６，７１６　）。この
方法は、反射率が高く微細なパターンの形成か可能であ
るという利点を有する。

（ロ）パターン露光した部分にメツキ用核を形成後、無
電解メツキで金属を析出させて行う方法（従来例３；特
開昭６１−２１４１５２号）。

（ハ）フォトレジストパターン層を光吸収剤によって着
色する方法（従来例４．特開昭６２−１１０６３６号）
。この方法は、フォトレジストによるパターンを用いた
方法は高精度のパターンを容易に形成できるという利点
を有する。

［発明が解決しようとする課題］しかしながら、従来技術によれば以下に述べる課題を有
する。

■従来例１；２Ｐ法はスタンパ型を製造する必要があり
、光カード媒体の様に多品種大量又は少量生産ではコス
ト高になると共に、多品種への対応に向かない。

■従来法２：この方法は化学的処理によって行つ為、温
度、ゴミなど多数のパラメータの影響を受けて再現性に
問題が生じ、また高湿度環境における耐久性に劣る。

■従来法３；無電解メツキ法は、プロセスが複雑であり
、また微細パターンの解像度に問題がある。

■従来法４．この方法は、−船釣にフォトレジストに着
色することが困難である。また、色素をフォトレジスト
に溶解してもその溶解量はわずかであるために明暗コン
トラストが十分に得られない。

本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、従来に比べ
微細なパターンで明暗のコントラストの良好な微細なパ
ターンを形成できしかも少量多品種生産も低コストでな
しえる光記録媒体の製造方法を提供することを目的とす
る。

［課題を解決するための手段と作用］本願第１の発明は、耐溶剤性の基板に色素記録媒体を有
し、かつガイドグルーブ及びプリフォーマットが反射率
の高低により形成されている光カード記録媒体を製造す
る方法において、前記基板上に光硬化性樹脂層を形成す
る工程と、この光硬化性樹脂層をガイドグルーブ及びプ
リフォーマットのパターンを介して露光し露光部を形成
する工程と、未露光部を除いた後、色素溶液を前記露光
部を含む基板上に塗布、乾燥して記録層を形成する工程
を具備することを要旨とする。

本願第１の発明に係る光硬化性樹脂層としては、アクリ
ルモノマー又はメタクリレートモノマー及び光る重合開
始剤を主成分として、必要に応じて添加剤を加えたもの
を用いる。また、前記前記光硬化性樹脂層は、光硬化後
に残留モノマーを５％以上５０％以下含み、より望まし
くは３０％前後含む光硬化性樹脂層が良い。ここで、５
％未満の場合樹脂が未硬化になり、５０％を越えると樹
脂と色素との反応が少なく、いずれも十分な反射率低下
の効果が得られない。

上記第１の発明に係る基板の材料としては、色素溶液の
溶剤に犯されない材料である必要があり、例えばエポキ
シ、表面が耐溶剤処理されたＰＭＭＡ　（ポリメチルメ
タクリレート）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート
）等のプラスチック、あるいはガラス等が挙げられる。

本願第１の発明に係る色素溶液としては、シアニン、メ
ロシアニン、フタロシアニン、ナフトシアニンなどの色
素をアセトン、メチルエチルケトン、メタノール、ジク
ロルエタンなどに溶解した溶液が挙げられる。

本願第１の発明においては、色素溶液を光硬化性樹脂層
の上に塗布した場合に、硬化後に残留モツマーを含む光
硬化性樹脂層の界面では光硬化性樹脂の残留モノマーと
色素が反応して色素の光反射率が低下する。

本願第２の発明は、耐溶剤性の基板に色素記録媒体を有
し、かつガイドグルーブ及びプリフォーマットが反射率
の高低により形成されている光カード記録媒体を製造す
る方法において、前記基板上にフォトレジスト層を形成
する工程と、このフォトレジスト層をガイドグルーブ及
びプリフォーマットのパターンを介して露光しレジスト
パターンを形成する工程と、色素溶液を前記レジストパ
ターンを含む基板上に塗布して記録層を形成する工程を
具備することを要旨とする。

本願第２の発明に係る基板及び色素溶液は、上記第１の
発明に係るそれと同じものである。また、上記第２の発
明に係るフ第１・レジスト層としては、上記色素溶液に
わずかに溶解するとともに解像度か高いものか望ましく
、具体的には特にナフトキノンアジドスルホン酸エステ
ルと成膜剤としてノボラック樹脂を配合したポジ型フォ
トレジスト（商品名Ａ　Ｚ　−１３５０，ヘキスト社（
製））が好ましい。

本願第２の発明においては、色素溶液をフォトレジスト
層の上に塗布した場合に、色素溶液の溶剤がフォトレジ
スト層の表面をわずかに溶解してフォレジストと色素が
混合し、この混合部分のフォトレジスト層の界面で色素
の反射率か低下する。

［実施例］以下、本発明の実施例を図を参照して説明する。

（実施例１）第１図（Ａ）〜（Ｄ）を参照する。

まず、基板としての厚さ０．４ｍｍのエポキシシート１
上に、ウレタン変性アクリル５０％、ヘキサンジオール
ジアクリルレート５０％をエチルセロソルブ：トルエン
＝１：１の溶液に５％溶解したものをコータにより厚さ
０，５ｐ塗布し、乾燥して光硬化樹脂層２を形成した（
第１図（Ａ）図示）。次に、ガイドグルーブ及びプリフ
ォーマットが形成されたフォトマスク３を用いて約１０
秒紫外線４の照射を行い、約５ｐの幅のパターンを形成
した（第１図（Ｂ）図示）。次いで、エチルアルコール
で前記基板を洗浄して未露光部の光硬化樹脂層を除去し
、パターン状の光硬化層５を形成した（第１図（Ｃ）図
示）。更に、前記光硬化層５を含む基板１上にシアニン
色素１％メチルエチルケトン溶液をスピンコードにより
塗布し、乾燥して厚さ約６００人の記録層６を形成した
（第１図（Ｄ）図示）。しかるに、こうした記録媒体を
７０℃で２４時間処理を行ったところ、基板１１上に直
色素溶液を塗布した部分のλ＝８３０　ｎｍでの反射率
は３０％であり、光硬化層５上に塗布した部分での反射
率は１０％である。

この後、前記基板をカード形状に打抜き図示しない保護
基板に接着して光カード媒体を製造した。

なお、かかる光カード媒体を形成した後、λ−８３０ｎ
ｍの半導体レーザを用いて０．５ｍＷのパワーでプリフ
ォーマット部を読みだしたところ、３０ｄＢのＳ／Ｎが
得られた。

実施例１に係る光カード媒体の製法によれば、エポキシ
シート１上に光硬化樹脂層２を形成した後、ガイドグル
ーブ及びプリフォーマットが形成されたフォトマスク３
を用いて約１０秒紫外線４の照射を行ってパターンを形
成し、更にエチルアルコールで前記基板を洗浄して未露
光部の光硬化樹脂層を除去してパターン状の光硬化層５
を形成し、この光硬化層５を含む基板１上にシアニン色
素１％メチルエチルケトン溶液をスピンコ−１・により
塗布、乾燥して記録層６を形成するため、硬化後に残留
モノマーを含む光硬化層５の界面では色素の光反射率が
低下した。事実、上述したように前記記録媒体を７０℃
で２４時間処理を行ったところ、基板１１上に直色素溶
液を塗布した部分のλ−８３０−ｎｍでの反射率は３０
％であり、光硬化層５上に塗布した部分での反射率は１
０％である。しかるに、光硬化後の残留モノマーの記録
層６との反応による反射率低下を用いるため、処理条件
によって反射率を制御することが容易であり、再現性も
高い。従って、ガイドトラックやプリフォーマットの明
暗パターンの形成が簡単でかつ安価であり、製造プロセ
スも簡単である。また、少量多品杜の場合でもコスト高
を招くことなく生産できるとともに、微細なパターンの
形成か可能になる。

（実施例２）第２図（Ａ）〜（Ｄ）を参照する。

まず、基板としての厚さ０．４ｍｎのエポキシシート１
上に、ポジ型フォトレジスト（商品名Ａ　Ｚ　−１３５
０，ヘキスト社（製））をコータにより０．５１１Ｊｎ
厚に塗布した後、８０℃で２０分加熱し、フォトレジス
ト層１１を形成した（第２図（Ａ）図示）。次に、乾燥
後、ガイドクループ及びプリフォーマットか形成された
フォトマスク３を用いて約６秒間紫外線４で投影露光を
行った（第２図（Ｂ）図示）。次いで、前記フォトマス
ク３を現像してフォトマスク３のパターンを転写した約
３ｐ幅のフォトレジストパターン１２を形成した後、こ
のパターン１２を１５０℃、３０分加熱して前記レジス
トパターン１２を焼成し、該パターン１２の耐溶剤性を
増加した（第２図（Ｃ）図示）。更に、前記レジストパ
ターン１２を含む基板１上にシアニン色素１％メチルエ
チルケトン溶液をスピンコードにより塗布し、乾燥して
厚さ約６００人の記録層６を形成した（第２図（Ｄ）図
示）。しかるに、こうした記録媒体において、基板１１
上に直色素溶液を塗布した部分のλ−８３０ｎｍでの反
射率は３０％であり、レジストパターン１２上に塗布し
た部分での反射率は１０％である。この後、前記基板を
カード形状に打抜き図示しない保護基板に接着して光カ
ード媒体を製造した。なお、かかる光カード媒体を形成
した後、λ＝　８３０　ｎｍの半導体レーザを用いて０
．５ｍＷのパワーでプリフォーマット部を読みだしたと
ころ、３０ｄＢのＳ／Ｎか得られた。

実施例２によれば、以下に述べる効果を有する。

■フォトレジストパターン１２を含む基板１上に色素溶
液塗布したとき、レジストパターン１２上の色素溶液の
溶剤が該パターン１２の表面をイ争かに溶解してパター
ン１２と色素が混合し、該パターン１２の界面で色素の
反射率が低下する。従って、ガイドグルーブやプリフォ
ーマットの明暗パターンを形成することができる。ちな
みに、フォトレジストは感度と解像度が高いため、１ｐ
程度の微細パターンを容易に形成できる。こうしたこと
から、高い記録容量の光カードを形成できる。

■レジストパターン１２と色素溶液の反応を用いて反射
率を低下させるため再現性が良く、かつ簡単な方法の為
製造上着効である。

■上記ポジ型フォトレジスト、即ちナフトキノンアジド
スルホン酸エステルと成膜剤としてノボラック樹脂を配
合したポジ型レジストを用いる為、硬化温度によって耐
溶剤性が変化する。即ち、色素の溶剤がアルコール類の
ときは、硬化温度を８０〜１００℃とし、ケトン類のと
きは１３０〜１８０℃とすると、パターンが完全に溶解
することなく、レジスト表面か最適に溶解し、色素と混
合する。従って、色素を溶解する溶剤の種類が異なって
も、硬化温度を変えることによって最適な反射率を得る
ことができる。

［発明の効果］以上詳述した如く本発明によれば、従来に比べ微細なパ
ターンで明暗のコントラスｉ・の良好な微細なパターン
を低コス！・で量産できしかも少量多品種の生産も可能
な光記録媒体の製造方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ）〜（Ｄ）は本発明の実施例１に係る光カー
ドの製造方法を工程順に説明するための断面図、第２図
（Ａ）〜（’　Ｄ　）は本発明の実施例２に係る光カー
ドの製造方法を工程順に説明するための断面図である。１・・・エポキシシート、２・・・光硬化性樹脂、３・
・・フォトマスク、５・・・パターン、６・・・・・光
記録層、１１・・・フォトレジスト層、１２・・・レジ
ストパターン。出願人代理人　弁理士　　坪井　淳

Claims

【特許請求の範囲】

（１）耐溶剤性の基板に色素記録媒体を有し、かつガイ
ドグルーブ及びプリフォーマットが反射率の高低により
形成されている光カード記録媒体を製造する方法におい
て、前記基板上に光硬化性樹脂層を形成する工程と、こ
の光硬化性樹脂層をガイドグルーブ及びプリフォーマッ
トのパターンを介して露光し露光部を形成する工程と、
未露光部を除いた後、色素溶液を前記露光部を含む基板
上に塗布、乾燥して記録層を形成する工程を具備するこ
とを特徴とする光記録媒体の製造方法。
（２）前記光硬化性樹脂層は、光硬化後に残留モノマー
を５％以上５０％以下含む光硬化性樹脂層であることを
特徴とする請求項１記載の光記録媒体の製造方法。
（３）耐溶剤性の基板に色素記録媒体を有し、かつガイ
ドグルーブ及びプリフォーマットが反射率の高低により
形成されている光カード記録媒体を製造する方法におい
て、前記基板上にフォトレジスト層を形成する工程と、
このフォトレジスト層をガイドグルーブ及びプリフオー
マツトのパターンを介して露光しレジストパターンを形
成する工程と、色素溶液を前記レジストパターンを含む
基板上に塗布して記録層を形成する工程を具備すること
を特徴とする光記録媒体の製造方法。
（４）前記フォトレジスト層は、ナフトキノンアジドス
ルホン酸とノボラック樹脂よりなるポジ型フォトレジス
ト層であることを特徴とする請求項３記載の光記録媒体
の製造方法。