JPH0429976A - ピリミジン誘導体及びそれを含有する液晶組成物 - Google Patents

ピリミジン誘導体及びそれを含有する液晶組成物

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JPH0429976A
JPH0429976A JP2134652A JP13465290A JPH0429976A JP H0429976 A JPH0429976 A JP H0429976A JP 2134652 A JP2134652 A JP 2134652A JP 13465290 A JP13465290 A JP 13465290A JP H0429976 A JPH0429976 A JP H0429976A
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liquid crystal
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water
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JP2134652A
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Takeshi Obikawa
剛 帯川
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Seiko Epson Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は液晶表示装置に用いられる液晶組成物の成分と
して有用な新規ピリミジン誘導体、およびそれらを含有
する液晶組成物に関する。
〔発明の概要〕
本発明は一般式 (上式中、Rは炭素原子数が1〜10の直鎖アルキル基
、AはCH=CH又はC=C,XはH又はFを表わす。
)で表わされることを特徴とするピリミジン誘導体であ
り、次の化合物が含まれる。
F (上式中、Rは炭素原子数が1〜1oの直鎖アルキル基
を表わす。) 本発明のピリミジン誘導体は液晶相を示さないが、誘電
率異方性(△ε)および複屈折(八〇)が非常に大きい
特徴を有する。
また、本発明の他の目的はそれらの化合物を少なくとも
1種類含有する液晶組成物であり、△nが大きく、かつ
しきい値電圧(vlh)の低い特徴を有する。
したがって、本発明の液晶組成物を用いることにより液
晶層の膜厚を薄くすることが可能となり、光学的な応答
速度が速く、しかも低電圧で高時分割駆動ができる液晶
表示装置を提供することができる。
〔従来の技術〕
ネマチック液晶を用いた液晶表示装置には捩れたネマチ
ック型(TN) 、ゲスト−ホスト型、動的散乱型、ス
ーパーツィステッドネマチック型(STN)なとの表示
方式があり広い分野に応用されている。また、液晶表示
装置は他の表示装置と比較して小型・薄型化ができ、駆
動電圧が低く、しかも消費電力が小さく、また受光素子
であるため長時間使用しても目が疲れない等の特徴を有
する。
これらの特徴を生かして、特にTN型の液晶表示装置が
ウォッチ、電卓、オーディオ機器、各種計測器等に応用
されてきた。さらに最近ではSTN型とアクティブマト
リックス駆動方式のTN型の液晶表示装置がパソコン、
ワープロ、液晶カラーテレビ等の表示画素数の非常に多
い表示装置に応用されつつあり、CRTに代る表示装置
として注目されている。
次に、このように様々の液晶表示装置に用いられている
ネマチック液晶に必要とされる特性は応用される分野に
より異なるが、次に掲げた緒特性はあらゆる分野の液晶
表示装置に必要なものである。すなわち、 (1)着色がなく、熱、光・電気的・化学的に安定であ
ること。
(2)実用温度範囲が広いこと。
(3)電圧−輝度特性のしきい値電圧(Vlh)が低く
、その温度依存性が小さいこと。
(4)応答速度が速いこと。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記の特性のうちで(1)を満足する化合物は多数知ら
れているが、(2)以下の特性を単一成分で満足させる
化合物は知られていない。そこで、これらの特性を得る
手段として複数のネマチック化合物又はその類似化合物
等を混合した液晶組成物を用いている。したがって、(
2)〜(4)はヘ ネマチック液晶組成物の特性と見なされる。
では、(2)の実用温度範囲は実用上−20〜60℃が
一般的であるが、車載用等の液晶組成物では一30〜9
0℃が必要とされる。実用温度範囲の下限は液晶組成物
の組成を共融混合物に近付けることにより下げることが
でき、上限はネマチック−等方性液体相転移温度(N−
I点)が200℃以上ある化合物を添加することにより
上げることが可能である。
次に、(3)のしきい値電圧(V、h)はTN型又はS
TN型の場合で与えられる。ここで、dは液晶の膜厚、
ε。は真空誘電率、△εは誘電率異方性、Kは弾性定数
である。この式よりKが小さくて△εの大きな化合物を
添加するとV 1 hが下げられることがわかる。また
、V l hの温度依存性はKに由来し、Kの温度依存
性の小さい△εが負の化合物を添加するかN−I点の高
い化合物を混合することにより小さくでき、また温度補
償回路を用いることにより解決できる。
(3)の応答時間は τR=ηd2/ε。△εv2−にπ2)τ。−ηd2/
にπ2 で与えられる。ここで、τ7は立上り時間、τ9は立下
り時間、ηは粘度、■は印加電圧を示す。
これらの式より応答時間は粘度と液晶の膜厚の2乗に比
例し、弾性定数に反比例することがわかる。
そこで、実用的にはη/にの小さい液晶材料を添加する
か、又はセル厚を薄くすることにより応答時間を短縮で
きる。
また、印加電圧が零のときの光透過率TはT=sin 
2(−JT+u  )/(1+u2)で与えられる。こ
こで、u=2d△n/λであり、λは光の波長を示す。
この式を訓算するとd△nξ1.2.3、・・・のとき
Tが極小値を示すことがわかる。したがって、dΔnの
値が自然数のとき最大のコントラストが得られる。
したがって、コンドラスートを低下させずにセル厚を薄
くして応答時間を短縮しようとする場合、液晶組成物の
△nを大きくする必要がある。
よって、(3)および(4)の特性を同時に満足させる
ような化合物は△εが非常に大きく、しかも△nが大き
くなければならない。しかし、従来、この目的に用いら
れている化合物、例えばは△εおよび△nが満足できる
程大きくなかった。
そこで、本発明の目的は△εおよび△nが大きな化合物
およびそれらを用いた応答速度が速く、かつ低電圧で高
時分割駆動が可能なTN又はSTN用の液晶組成物を提
供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は一般式 (上式中、Rは炭素原子数が1=10の直鎖アルキル基
、AはCH=CH又はC=C,XはH又はFを表わす。
)で表わされる新規なピリミジン誘導体であり、例えば
次に示した製造方法により得ることができる。
スキーム1においては2−メチル−5−アルキルピリミ
ジンを製造する。
ステップ1−1 ブロモアルカン(2)とマロン酸ジエ
チル(3)をエタノール中でN a OC2H5存在下
に反応させてアルキルマロン酸ジエチル(4)を得る。
ステップ1−2 アセトニトリル(5)とエタノールを
塩化水素ガスを用いて反応させてアセトアミジン塩酸塩
(6)を得る。
ステップ1−3 化合物(6)をエタノール中でアンモ
ニアガスと反応させてアセトアミジン塩酸塩(7)を得
る。
ステップ1−4 化合物(4)と化合物(7)をメタノ
ール中でN a OCH3存在下に反応させて2−メチ
ル−4,6−シヒドロキシー5−アルキルピリミジン(
8)を得る。
ステップ1−5 化合物(8)をN、 N−ジエチルア
ニリン存在下にPOC,173を用いて塩素化しう スキーム1 C−CH3 て2−メチル−4,6−ジクロロ−5−アルキルピリミ
ジン(9)を得る。
ステップ1−6 化合物(9)をエタノール中でCH3
CO0K存在下にパラジウム−カーボンを触媒に用いて
水素ガスで還元して2−メチル−5アルキルピリミジン
(10)を得る。
次に、スキーム2においては4−ブロモ−3フルオロベ
ンズアルデヒドを製造する。
ステップ2−14−ブロモ−2−フルオロアニリン(1
1)をN−メチル−2−ピロリジノン(NMP)中でC
uCNを用いてシアノ化して4アミノ−3−フルオロベ
ンゾニトリル(12)を得る。
ステップ2−2 化合物(12)を氷酢酸中でNaNO
2と濃硫酸より調整した硫酸水素二トロシルでジアゾ化
し、次に臭化水素酸中でCuB rを用いて臭素化して
4−ブロモ−3−フルオロベンゾニトリル(13)を得
る。
ステップ2−3 化合物(13)をHCρガスを飽和さ
せたジエチルエーテル中で5nCff2を用スキーム2 いて還元し、生成したイミンの錫錯体を水で分解して4
−ブロモ−3−フルオロベンゾニトリル(14)を得る
また、スキーム3においては本発明の化合物の一つであ
るt rans−1−(4’ −シアノ3′−フルオロ
フェニル) −2−(5’ −アルキルピリミジンー2
′−イル)エチレンを製造する。
ステップ3−1 化合物(10)と化合物(14)をZ
nCl2存在下に反応させてtrans−1(4′−ブ
ロモ−3′−フルオロフェニル)2− (5’ −アル
キルピリミジン−2′−イル)エチレン(15)を得る
ステップ3−2 化合物(15)をNMP中テCuCN
を用いてシアノ化して本発明の化合物trans−1,
−(4’ −シアノ−3′ −フルオロフェニル)−2
−(5’ −アルキルピリミジン2′−イル)エチレン
(1−a)を得る。
また、スキーム4においては本発明のもう一つの化合物
である1−(4’ −シアノ−37−フルオロフェニル
)−2−(5’ −アルキルピリミジン−2′−イル)
アセチレンを得る。
ステップ4−1 化合物(1−a)をcH2cg2中で
臭素を用いて臭素化して1,2−ジブロモ−1−(4’
 −シアノ−3′−フルオロフェニル) −2−(5’
 −アルキルピリミジン−2−イル)エタン(16)を
得る。
 z スキーム3 スキ ム4 Br  Br ステップ4 化合物(16) をテトラヒドロ フラン (THF) 中でカリウムtert ブチレ −トを用いて脱水素化反応をさせて本発明の化合物1−
(4’ −シアノ−3′−フルオロフェニル)2− (
5’ −アルキルピリミジン−2′−イル)アセチレン
(1−b)を得る。
また、スキーム5においては4−ブロモ−3゜5−ジフ
ルオロベンズアルデヒドを製造する。
ステップ5−12.6−ジフルオロアニリン(17)を
クロロホルム中でピリジン存在下に臭素を用いて臭素化
して4−ブロモ−2,6−ジフルオロアニリン(18)
を得る。
ステップ5−2〜5−4 スキーム2のステップ2−1
〜2−3と同様な製造方法により4−ブロモ−3,5−
ジフルオロベンズアルデヒド(21)を得る。
また、スキーム6においては本発明の化合物の1つであ
る1−(4’−シアノ−3’、5’ −ジフルオロフェ
ニル)−2−(5’ −アルキルピリミジン−2−イル
)エチレンを製造する。
スキ ム5 ステップ6−1および6−2 スキーム3のステップ3
−1および3−2と同様な製造方法により1−(4’ 
−シアノ−3′  5′−ジフルオロフェニル) −2
−(5’ −アルキルピリミジン−2イル)エチレン(
1−c)を得る。
最後に、スキーム7においては本発明の化合物の1つで
ある1−(4’ −シアノ−3′  5′ジフルオロフ
エニル) −2−(5’ −アルキルピリミジン−2−
イル)アセチレン(1−d)を得る。
ステップ7−1および7−2 スキーム4のステップ4
−1および4−2と同様な製造方法により1−(4’−
シアノ−3′5′ −ジフルオロフェニル)−2−(5
’ −アルキルピリミジン−2イル)アセチレン(1−
d)を得る。
スキ ム6 スキーム7 F Br  Br 〔実 施 例〕 以下、実施例と応用例により本発明を更に詳しく説明す
る。
(実施例1) 2−メチル−5−ペンチルピリミジンの製造方法。(ス
キーム1) ステップ1−1 無水エタノール400cm3にNa1
3.8g (0,6モル)を溶解し、CH2(COOC
2H5)296g (0,6モル)とc、t HIIB
 r 151 g (0,6モル)を加えて5時間還流
した。生成したNaBrを濾過し、濾液中のエタノール
を留去し、残渣にエーテルを加えて水で洗浄し、このエ
ーテル溶液をNa2SO4で乾燥した。pJ a 2 
S O4を濾過し、エーテルを留去し、残渣を減圧蒸留
(105℃/3.0mmHg)してペンチルマロン酸ジ
エチル115g(0,5モル)を得た。
ステップ1−2  CH3CN41.Og(1,0モル
)とC2H1OH460g (10モル)を氷水冷却、
撹拌下にHCΩ365g (10モル)を吸収させた。
この溶液を5℃以下に5日間放置した。
ステップ1−3 生成したアセトアミジン塩酸塩の結晶
を粉細し、アンモニアを飽和させたエタノール2500
0m3を加えて5時間撹拌した。
生成したNH4Cρを濾過し、濾液を濃縮して再結晶さ
せてアセトアミジン塩酸塩640g (6゜8モル)を
得た。
ステップ1−4 無水メタノール1000cm3にNa
34..5g (1,5モル)を溶解し、ペンチルマロ
ン酸ジエチル115g (0,5モル)とアセトアミジ
ン塩酸塩47. 3g (0,5モル)を加え7時間還
流した。反応物を濃塩酸200cm3と氷500gの混
合物中に注ぎ、析出した結晶を濾過し、メタノールで洗
浄して2−メチル4.6−シヒドロキシー5−ペンチル
ピリミジン66.5g (0,34モル)を得た。
ステップ]−52−メチル−4,6−シヒドロキシー5
−ペンチルピリミジン66、 5g (0゜34モル)
、POCρ3510cm’およびN。
N−ジエチルアニリン102cm3を24時間還流した
。反応液中のPOCρ3を留去し、残渣を20%NaO
NaOH70Qと氷1000gの混合物中に注ぎ、クロ
ロホルムで抽出し、20%NaOH,水、濃塩酸水の順
序で洗浄し、クロロホルムを留去した。残渣を減圧蒸留
(103℃/3mmHg)して2−メチル−4,6−ジ
クロロ5−ペンチルピリミジン75g (0,32モル
)を得た。
ステップ1−62−メチル−4,6−ジクロロ5−ペン
チルピリミジン75g (0,32モル) 、CCH3
C00K95 (0,97モル)、5%パラジウム−カ
ーボン3.2gをエタノール640cm3に加え、60
℃の湯浴上て撹拌しなからH2を吸収させた。反応液中
のパラジウムカーボンを濾過し、濾液中のエタノールを
留去した。残渣をエーテルに溶解し、水、10%塩酸、
水の順序で洗浄し、Na2SO4で乾燥した。Na2s
O4を濾過し、エーテルを留去した。残渣を減圧蒸留(
78°C/3.0mrr+Hg)して2メチル−5−ペ
ンチルピリミジン27g (0,16モル)を得た。
(実施例2) 4−ブロモ−3−フルオロベンズアルデヒドの製造方法
。(スキーム2) ステップ2−14−ブロモ−2−フルオロアニリン(A
、Qdrich社製) 1.00g (0,53モル)
とCuCN70.8g (0,79モル)をNMP53
0cm3中で3時間還流した。反応物を室温まで冷却し
、エチレンジアミン1300m3と共に撹拌し、水10
00cm3を加えてクロロホルムで抽出し、エチレンジ
アミン水溶液と水で洗浄した。クロロホルムを留去し、
残渣を減圧蒸留(150°C/9mmHg)して4−ア
ミノ3−フルオロベンゾニトリル55g (0,40モ
ル)を得た。
ステップ2−2 濃硫酸244cm3を撹拌しながらN
aNO230,8g (0,45モル)を少しずつ加え
、その後、50℃で撹拌して結晶を溶解させた。この溶
液を水冷撹拌下にCH3COOH406cm3を滴下し
、次に25℃以下で4アミノ−3−フルオロベンゾニト
リル55g (0゜40モル)を少しずつ加え、その後
、この温度で撹拌して結晶を溶解させた。CuBr87
.4g(0,61モル)と47%HBr244cm3よ
り成る溶液を氷水冷却撹拌下にジアゾニウム塩溶液を滴
下し、その後、室温で1晩放置した。析出した結晶を濾
過し、CH3CO0Hで洗浄し、ヘキサンから再結晶し
て4−ブロモ−3−フルオロベンゾニトリル6]、、7
g (0,31モル)を得た。
ステップ2−3 無水エーテル600cm3に5nCQ
 2117g (0,62モル)を加えHCl2を飽和
させた。この混合物に4−ブロモ−3−フルオロベンゾ
ニトリル6]、、7g (0,31モル)を加えて1時
間撹拌後1晩放置した。反応物を水1.000cm3中
に注ぎ50−60℃で30分間撹拌した。油層をクロロ
ホルムで抽出し、水で洗浄した。クロロホルムを留去し
、残渣を減圧蒸留(122°C/25mmHg)して4
−ブロモ−3フルオロベンスアルデヒド52g (0,
26モル)を得た。
(実施例3) 1−(4’ −シアノ−3′−フルオロフェニル)2−
 (5’ −ペンチルピリミジン−2′−イル)エチレ
ンの製造方法。(スキーム3) ステップ3−12−メチル−5−ペンチルピリミジン8
. 2g (0,05モル)、4−ブロモ3−フルオロ
ベンゾニトリル10.2g (0,05モル)およびZ
nCρ210.3g (0,075モル)をN2気流下
に180−190℃で3時間撹拌した。反応物を室温ま
で冷却し、クロロホルムと水を加えて溶解させてから水
で洗浄した。
クロロホルムを留去し、残渣をアセトンとメタツルの混
合溶媒から再結晶して1−(4’ −ブロモ−3′−フ
ルオロフェニル)−2−(5’ −ペンチルピリミジン
−2′−イル)エチレン9.1g (0,026モル)
を得た。
ステップ3−2 1−(4’ −ブロモ−3′−フルオ
ロフェニル)−2−(5’ −ペンチルピリミジン−2
′−イル)エチレン9. 1g (0,026モル) 
、CuCN3.Ig (0,034モル)およびNMP
52cm3を1.5時間還流した。
反応物にFeCρB ” 6H2014,Og、HCρ
5,2cm3および水20cm3から成る溶液を加え6
0−70 ’Cで1時間放置した。反応物をヘキサンで
抽出し、水で洗浄した。ヘキサンを留去し、残渣をメタ
ノールから再結晶して1(4′ −シアノ−3′−フル
オロフェニル)−2(5′−ペンチルピリミジン−2′
−イル)エチレン6.7g (0,023モル)を得た
。この化合物の相転移温度をDSCで測定した結果は次
のとうりであった。
(ここで、Cは結晶、Sはスメクチック相、Nはネマチ
ック相、■は等方性液体を示す。)また、実施例3と同
様な製造方法により次の化合物を合成した。
]−(4’ −シアノ−3′ −フルオロフェニル)1
 (5’ −ブチルピリミジン−2′−イル)エチレン (実施例4) ]−(4’ −シアノ−3′−フルオロフェニル)2−
 (5’ −ペンチルピリミジン−2′ −イル)アセ
チレンの製造方法。(スキーム4)ステップ4−1 1
−(4’ −シアノ−3′−)ルオロフェニル)−2−
(5’ −ペンチルピリミジン−2−イル)エチレン6
.7g(鉤 023モル)をCH2CΩ245cm3に
溶解し、水冷撹拌下にB r 24.4 g (0,0
28モル)を滴下し、その後、1晩室温で撹拌した。反
応液を5%KOH水溶液で洗浄し、CH2CD 2を留
去して1.2−ジブロモ−1−(4’ −シアノ−3′
フルオロフエニル)−2−(5’ −ペンチルピリミジ
ン−2′−イル)エタン8.3g (0,018モル)
を得た。
ステップ4−21.2−ジブロモ−1,−(4’シアノ
−3′−フルオロフェニル)−2(5′ −ペンチルピ
リミジン−2′−イル)エタン8.3g (0,018
モル)を無水THFIIOcm3に溶解し、N2気流下
で氷水冷却下に撹拌しながらKOt−Bo3.Og (
0,045モル)を少しずつ加え、その後40℃で3時
間撹拌した。反応液に水330cm3を加えエーテルで
抽出し、水で洗浄した。この溶液をNa2SO4で乾燥
してからエーテルを留去した。残渣をアセドンと水の混
合溶媒から再結晶して1−(4’シアノ−3′−フルオ
ロフェニル)−2−(5’ペンチルピリミジン−2′−
イル)アセチレン]、、7g (0,006モル)を得
た。この化合物の相転移温度をDSCで測定した結果は
次のとうりであった。
また、実施例4と同様な製造方法により次の化合物を製
造した。
1−(4’ −シアノ−3′−フルオロフェニル)2−
 (5’ −ブチルピリミジン−2′ −イル)アセチ
レン (実施例5) 4−ブロモ−3,5−ジフルオロペンズアルデヒトの製
造方法。(スキーム5) ステップ5−12.6−ジフルオロアニリン252g 
(1,95モル)と無水ピリジン170g(2,15モ
ル)をクロロホルム780cm3に溶解し、氷水浴上で
撹拌しながらクロロホルム390cm3に溶解した臭素
328g (2,05モル)溶液を2時間かけて滴下し
、その後、室温で2時間撹拌した。反応液を水で洗浄し
、クロロホルムを留去してから残渣を減圧蒸留(b、 
 p、110℃/30mmHg)L、蒸留した結晶をヘ
キサンから再結晶して4−ブロモ−2,6−ジフルオロ
アニリン340g (1,63モル)を得た。
ステップ5−24−ブロモ−2,6−ジフルオロアニリ
ン340g (1,63モル)、CuCN223g (
2,5モル)およびNMP800cm3をマントルヒー
ターで1.5時間還流した。
反応液を室温まで冷却し、エチレンジアミン300cm
3を加えてから水2000cm3中に注ぎ、ヘキサンで
抽出し、エチレンジアミン水溶液と水で洗浄した。ヘキ
サンを留去し、残渣を減圧蒸留しくす、p、143°C
/6mmHg)して4−アミノ−3,5−ジフルオロベ
ンゾニトリル108g (0,7モル)を得た。
ステップ5−3 濃硫酸420cm’を氷水浴上で撹拌
しながら粉細したN a N O254g (0。
78モル)を40℃以下で加え、浴温を50℃に上げて
結晶が完全に溶解するまで撹拌した。この溶液を氷水浴
上で撹拌しながら氷酢酸7000m3を滴下した。次に
、4−アミノ−3,5−ジフルオロベンゾニトリル10
8g (0,7モル)を20−25℃を保つ速度で加え
、結晶が完全に溶解するまで撹拌してジアゾニウム塩溶
液を調整した。47%HBr420cm3にCu B 
r 1.43g (1,0モル)をとかした溶液を氷水
浴上で撹拌しながらジアゾニウム塩溶液を2時間かけて
滴下し、水浴上で1時間と室温で1晩撹拌した。
生成した結晶を濾過し、結晶を氷酢酸で洗浄してからア
セトンとメタノールの混合溶媒から再結晶して4−ブロ
モ−3,5−ジフルオロベンゾニトリル98g (0,
44モル)を得た。
ステップ5−48nCΩ1.67g (0,88モル)
をジエチルエーテル880cm3に加え、室温で乾燥し
たHCΩガスを飽和するまで吸収させた。この混合物に
4−ブロモ−3,5−ジフルオロベンゾニトリル98g
 (0,44モル)を−度に加えて1時間撹拌し、1晩
放置した。反応物を水1.000cm3中に注ぎ、50
℃の湯浴上でエチルを前席した。残った油状物質をクロ
ロホルムで抽出し、水で洗滌してからクロロホルムを留
去した。残渣を減圧前席(b、  p、  96℃/1
3mmHg)して4−ブロモ−3,5−ジフルオロベン
ズアルデヒド88g (0,40モル)を得た。
(実施例6) 1−(4’ −シアノ−3′  5′−ジフルオロフェ
ニル)−2−(5’ −ペンチルピリミジン2′−イル
)エチレンの製造方法。(スキーム6)ステップ6−1
2−メチル−5−ペンチルピリミジン11.3g (0
,07モル)、4−ブロモ3.5−ジフルオロベンズア
ルデヒド15.2g (0,07モル)およびZnCl
221.4g (0゜1モル)をN2気流下で190℃
で3時間撹拌した。反応物を室温まで冷却し、クロロホ
ルムと水を加えて撹拌して溶解した。クロロホルム溶液
を水で洗浄してからクロロホルムを留去した。残渣をメ
タノールから再結晶して1−(4’ −ブロモ−3’ 
  5’−ジフルオロフェニル)−2(5′−ペンチル
ピリミジン−2′−イル)エチレン14.2g (0,
04モル)を得た。
ステップ6−2 1−(4’ −ブロモ−3′5′−ジ
フルオロフェニル) −2−(5’ −ペンチルピリミ
ジン−2′−イル)エチレン14.2g (0,04モ
ル) 、CuCN4.4g (0,05モル)およびN
MP78cm3を1.5時間還流した。反応物をFeC
Ω3・6H20、濃塩酸7.8cm3および水300m
3から成る溶液に注ぎ、50〜60℃で1時間放置した
。反応物をヘキサンで抽出して水で洗浄してからヘキサ
ンを留去した。残渣をメタノールから再結晶して1(4
′−シアノ−3’ 、  5’ −ジフルオロフェニル
)−2−(5’ −ペンチルピリミジン−2′イル)エ
チレン9. 7g (0,03モル)を得た。
(実施例7) 1−(4’ −シアノ−3′  5′−ジフルオロフェ
ニル)−2−(5’ −ペンチルピリミジン2′−イル
)アセチレンの製造方法。(スキームステップ7−1 
1−(4’ −シアノ−3′5′−ジフルオロフェニル
)−2−(5’ −ペンチルピリミジン−21−イル)
エチレン9.7g(0,03モル)をジクロロメタン6
0cm3に溶解した液を氷水浴」二撹拌下にジクロロメ
タン20Cm3に溶解した臭素5.4g (0,03モ
ル)の溶液を滴下した。室温で2時間撹拌してから水、
10%KOH水溶液、水の順序で洗浄し、ジクロロメタ
ンを留去した。残渣をメタノールから再結晶して1.2
−ジブロモ−1−(4’ −シアノ3’、5’ −ジフ
ルオロフェニル) −2−(5’ペンチルピリミジン−
2′−イル)エタン13g (0,03モル)を得た。
ステップ7−21.2−ジブロモ−1,−(4’シアノ
−3′5′ −ジフルオロフェニル)2− (5’ −
ペンチルピリミジン−2′−イル)エタン13g1カリ
ウムtert−ブトキシド8゜5g (0,08モル)
およびTHF150cm3を40℃で3時間撹拌した。
反応液を水500Cm3に注ぎ、クロロホルムで抽出し
、水で洗浄してからクロロホルムを留去した。残渣をク
ロロホルムを溶媒としてシリカゲルカラムで処理し、メ
タノールと水の混合溶媒から再結晶して1(4′−シア
ノ−3’、5’ −ジフルオロフェニル)−2−(5’
 −ペンチルピリミジン−2′イル)アセチレン:1.
.2g (0,004モル)を得た。この化合物の融点
をDSCを用いて測定した結果は次のとうりであった。
(応用例1) 市販のネマチック液晶組成物ZLI−1565(Mer
k社製)に実施例3の化合物および比較た液晶組成物を
作った。これらの液晶組成物のN1点および△nを測定
した。次に、これらの液晶組成物をセル厚9μmのTN
型セルに封入し、20℃において電圧−輝度特性のvl
、(光透過率10%の電圧)を求めた。以上の結果を第
1表に示した。
第   1   表 (応用例2) 応用例1と同様にして実施例4の化合物を混合した液晶
組成物のN−1点、△nおよびVlhを測定した。その
結果を第2表に示した。
第   2   表 (応用例3) 応用例1と同様にして実施例6の化合物をZLI−15
65に10重量%混合した液晶組成物を作り、N−1点
、△nおよびV lhを測定した。これらの測定結果を
第3表に示した。
第   3   表 (応用例4) 応用例1と同様にして実施例7の化合物をZLI −1
,565に10重量%混合した液晶組成物を作り、N−
1点、△nおよびVlhを測定した。これらの測定結果
を第4表に示した。
第   4   表 〔発明の効果〕 以上述べてきたように、本発明のピリミジン誘導体は大
きな△nと△εを有することがわかった。
また、本発明の化合物を従来の液晶組成物と混合するこ
とにより応答速度が速くかつ駆動電圧の低い液晶組成物
が得られることが確認できた。
したがって、本発明のピリミジン誘導体はTNおよびS
TN型で高速高時分割駆動用の液晶表示装置用の液晶材
料として非常に有用である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中、Rは炭素原子数が1〜10の直鎖アルキル基
    、AはCH=CH又はC=C、XはH又はFを表わす。 ) で表わされることを特徴とするピリミジン誘導体。
  2. (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中、Rは炭素原子数が1〜10の直鎖アルキル基
    、AはCH=CH又はC=C、XはH又はFを表わす。 ) で表わされるピリミジン誘導体を少なくとも1種類含有
    することを特徴とする液晶組成物。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006171715A (ja) * 2004-11-22 2006-06-29 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶電気光学装置
JP2009007517A (ja) * 2007-06-29 2009-01-15 Dic Corp ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子

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