JPH0368561A

JPH0368561A - ネマチック液晶化合物及びその組成物

Info

Publication number: JPH0368561A
Application number: JP26566789A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Obikawa; 剛帯川; Shiyuuji Ikukawa; 幾川　修司; Saneko Nakayama; 中山　実子
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1989-01-31
Filing date: 1989-10-12
Publication date: 1991-03-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は液晶表示装置に用いられるネマチック液晶組成
物の成分として有用な新規ネマチック液晶化合物及びそ
の組成物に関するものである。

〔発明の概要〕

本発明は一般式（上式中、Ｒは炭素原子数が１〜１０の直鎖アルキル基
又は直鎖アルｌコキシ基、ＸΣ］はトランス−１，４−
シクロヘキシレン基又は１，４−フェニレン基を示す。

）で表わされる新規なピリミジン誘導体でありネマチッ
ク液晶を有する。また、本発明の液晶化合物は、（１）ネマチック−等方性液体相転移温度（Ｎ−■点）
が高い。

（２）誘電異方性（△ε）が正で大きい。

（３）弾性定数の非に３３／Ｋｌｌ　（Ｋ１１およびに
３゜はそれぞれスプレィおよびベンドの弾性定数を示す
）が小さい。

等の特徴を有する。

したがって、本発明のネマチック液晶化合物と他の複数
のネマチック液晶組成物又は類似化合物を混合して得ら
れるネマチック液晶組成物を用いることにより実用温度
範囲の上限が高く、駆動電圧が低く、かつ電圧−輝度特
性の急峻性（γ）が良好であるので高時分割駆動に適し
た液晶表示装置を提供することができる。

〔従来の技術〕

ネマチック液晶は液晶表示装置に最も広く使用されてお
り、その表示方式には動的散乱型（ＤＳＭ）、ゲスト−
ホスト型（Ｇ−ＩＩ）　、捩れネマチック型（ＴＮ）　
、スーパーツィステッド・ネマチック型（ＳＴＮ）、ス
ーパーツィステッド複屈折型（Ｓ　Ｂ　Ｅ）などがある
。また液晶表示装置は他の表示装置と比較して、（１）、小型、薄型化ができる。

（２）、駆動電圧が低く、かつ消費電力が小さい。

（３）、受光素子であるため長時間使用しても目が疲れ
ない。

等の優れた特徴を有する。そこで、これらの特徴を生か
して、特にＴＮ型の表示方式を用いた液晶表示装置がウ
ォッチ、電卓、オーディオ機器、各種計測器、自動車の
ダツシュボード、電話器、カメラ等の表示に広く応用さ
れている。また、最近では高時分割駆動表示が可能なＳ
ＴＮ型の液晶表示方式やＴＮ型でアクティブ・マトリッ
クス駆動方式を用いた表示装置が実用化されパーソナル
・コンピューター、ワードプロセッサー、液晶テレビ等
の画素数がたいへん多い表示にも応用されつつあり、将
来ＣＲＴに代る表示装置として注目を集めている。

今後もさらに液晶表示装置の応用分野ならびに全表示装
置にしめる割合は拡大してゆくと思われる。それに従っ
て液晶材料に求められる特性もより高度になって行くで
あろうが、以下に示した緒特性は基本的なものであり全
ての液晶表示装置にとって必要不可欠である。

（１）着色がなく、熱、光、電気的、化学的に安定であ
ること。

（２）ネマチック液晶温度範囲ができるだけ広いこと。

（３）電圧−輝度特性のしきい値電圧（Ｖｌｈ）が低く
、かつその温度依存性が小さいこと。

（４）電圧−輝度特性の急峻性（γ）が良いこと。

（５）電圧−輝度特性の視角依存性が小さいこと。

（６）電圧−輝度特性の応答性が良いこと。

〔発明が解決しようとする課題〕

（１）の特性を満足する化合物は多数知られているが、
（２）以下の特性を単一成分で満足する化合物は知られ
ていない。そこで、これらの特性を充たすためには複数
のネマチック液晶化合物又はその類似化合物を混合した
液晶組成物を用いる。

また、液晶組成物の基本的な構成としてはネマチック液
晶温度範囲の下限をできるだけ下げる（−膜内には一３
０℃以下）ために共融混合物組成とする。共融組成物は
次の式を用いて求めることができる。

ここで、ＸＫはＴにおけるモル分率、ＴＫは融点、△Ｈ
ＫはＴＫにおけるモル融解熱である。また上限を高くす
るにはネマチック−等方性液体相転移点（Ｎ−Ｉ点）が
１５０〜２ｏｏ℃以上あるＣＮ（同　２３４℃）等が用
いられている。次に、しきい値電圧は次式で表わされる
。

ここで、ｋは比例定数、△εは誘電率異方性を示す。ま
たｋは次式で表わされる。

ｋ−ＫＨ＋　（Ｒ３３−２に２２）／４したがって、Ｖ
ｌｈを下げるためには誘電率異方性（△ε）が大きく弾
性定数Ｋが小さい化合物、ａｔ＋−□ΣＣＮ、Ｃｓ　ａ
−×Ｇバ亘ンｃＮ等の化合物が用いられている。そして
、ｖｏの温度依存性は前述のＮ−１点が高い化合物を混
合することにより小さくすることが可能である。急峻性
（γ）はしきい値電圧（ｖｌｂ）と飽和電圧（Ｖ、、、
）とにより次式で定義される。

■、。

急峻性はＫ　ｓ　３　／　Ｋ　ｎに関係があり、この比
が小さいほど小さくなることが知られており、例えばピ
リミジン骨格を有する化合物のＫ　３　ｓ／　Ｋ　ｔＩ
が小トに起因しており、屈折率異方性（△ｎ）が小ささ
れる。ここでて７、τ０はそれぞれ立上り、および立下
がりの応答速度を示す。

τＲ−ηｄ２／（ε０Δε（Ｖ−ｖｌｈ）２−にπ２） τＤ−ηｄ２／にπ２また、ηは粘度、ｄはセル厚、■は印加電圧、Ｋ−ＫＨ
＋　（Ｋｉ３−２に２２）／４を表わす。

この式より粘度が小さいほど応答速度は速くなる。した
がって、応答速度を早くするためには例えばＲ＜Ｅ六亘
ンＲ′、Ｒ〈已べすパｂンＲ′等（ここで、Ｒ１および
Ｒ１は直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を示す。）の減粘剤を使用する。

次に、時分割駆動とこれらの緒特性の関係を調べてみる
と、（１）しきい値電圧の温度依存性が小さいこと。

（２）急峻性が良好なこと。

（３）視角依存性が小さいこと。

の３点がより高時分割駆動を可能にする要因であること
がわかる。ところで、しきい値の温度依存性はＮ−１点
が高い化合物、例えば −＠）−ＣＮを混合することにより改善されるが、これ
らの化合物を混合すると△εは大きいが、Ｋも大きいの
で組成物のＶｌｈが上昇する欠点がある。

さらに、これらの物質はに３３／にガの値が大きいため
急峻性が悪くなる欠点を有する。したがって、従来低電
圧で、しかも高時分割駆動が可能な液晶組成物は得にく
かった。

そこで、本発明の目的はＮ−Ｉ点が高いネマチック液晶
化合物であるにもかかわらず、△εが非常に大きく、か
つに３３／に１１の値の小さなネマチック液晶化合物を
提供することにある。さらに本発明の他の目的は実用温
度範囲が室温付近で広く、低電圧で高時分割駆動が可能
な液晶組成物を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は一般式（上式中、Ｒは炭素原子数が１〜１０の直鎖アルキル基
又は直鎖アルｌコキシ基、（）はトランス−１，４−シ
クロヘキシレン基又は１，４−フェニレン基を示す。）
で表わされるネマチック液晶化合物である。

本発明においてはＮ−１点が高く、しかもΔεが大きく
てＫｓＪＫ□の小さな液晶化合物を得ることを目的とし
て開発を進めた。分子構造を決定するに当ってはＫ　３
３　／　Ｋ　１１の値が小さいと思われるピリミジン骨
格を有する化合物が有望であるとが相容性が悪〈従来の
液晶組成物に混合できる割合は約１０重量％以下という
欠点を有しているので、これを改良する方法としてフッ
ソ原子の置換を考えることにより（１）式の化合物に到
達した。

そこで、本発明の化合物に関する文献調査を行ったとこ
ろ、Ｕ、Ｓ、Ｐａｔ、４，８１２，２５８号に本発明の
化合物の化学式の記載があったが、合成例は全く記載さ
れていなかったので合成したところ本発明の目的に非常
に近い特性を有することが確認できた。

本発明の化合物を従来の液晶化合物又はその類似化合と
混合した液晶組成物は応用例に示したように実用温度範
囲が広く、９及び１０頁で述べた高時分割駆動が可能な
な要件の大半を満足し、しかも、低電圧駆動が可能なた
め高時分割にした場合の駆動電圧の上昇をおさえること
ができる特徴を有するので、高時分割駆動用の液晶材料
として非常に有望である。

また、本発明の化合物の従来の液晶組成物に混合できる
割合は１〜５０重量％であるが、さらに好ましくは５〜
３０％の範囲である。

次に、本発明の化合物は応用例に述べたタイプの液晶化
合物以外にもビフェニル系、安息香酸のフェニルエステ
ル系、ジオキサン系、ピリミジン系、シクロヘキシルシ
クロヘキサン系、ターフェニル系、等従来の全ての液晶
材料と良好な相容性を示し、本発明の目的を達成できる
。

４−フェニレン基のものについては、例えば次の方法（上式中、Ｒは炭素原子数が１〜１０の直鎖アルキル基
、又は直鎖アルコキシ基を示す。）により（上式中、Ｒ
は炭素原子数が１〜１０の直鎖アルキル基または直鎖ア
ルコキシ基を示す。）ステップ１　水素化ビス−（メト
キシエトキシ）アルミニウムナトリウムを、トルエンに
溶角ｑさせ、化合物（２０を少しずつ加え、加え終った
ら還流して化合物（３）を得る。また、カルボン酸を直
接アルコールに還元するよりも酸クロライドとしてから
上記いずれかの還元剤で還元したほうが収率が良い。

ステップ２　化合物（３）を塩化チオニルと共に還流し
て塩素化して化合物（４）を得る。塩素化試薬としては
塩化チオニル以外にＰＯＣ，１？３、Ｓ０２　Ｃｉｌ　
２　、ＨＣｆｆ　／ＺｎＣｆ１２等が使用できる。

ステップ３　化合物（４）をジメチルスルホキシド（Ｄ
ＭＳＯ）溶媒中でシアン化ナトリウムと共に１４０℃に
加熱してシアノ化し化合物（５）を得る。ステップ４化
合物（５）をエタノール中で水と水産化ナトリウムと共
に還流して加水分解し化合物（６）を得る。反応溶媒と
してはエタノール以外にエトキシエタノール、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール等が用いられ、水酸
化ナトリウムの代りに水酸化カリウム、水酸化バリウム
等を用いても良い。

ステップ５　オキシ塩化りんとＮ、　Ｎ−ジメチルホル
ムアミドよりフィルス・マイヤー試薬を調整し、化合物
（６）を少しずつ加える。次に水冷下に水、つづいて過
塩素酸ナトリウム水溶液を滴下して化合物（７）を得る
。ステップ６化合物（８）をＮ−メチル−２−ビｅ−ノ
ジノン（ＮＭＰ）溶媒中シアン化第−銅でシアノ化し、
生成した銅錯体を塩化第二鉄で酸化分解して化合物（９
）を得る。

ステップ７　化合物（９）を酢酸中で亜硝酸ナトリウム
と濃硫酸により調整した硫酸水素二トロシルによりジア
ゾニウム塩とし、次に臭化第一銅の臭化水素酸溶液で臭
素化して化合物（１０）を得る。化合物（９）のアニリ
ンはオルトとバラ位に強い電子吸引基を持つため塩基性
が弱く通常の方法ではジアゾ化しにくいので上記の方法
によった。

ステップ８４−ブロモ−３−フルオロベンゾニトリル（
１０）を無水エタノールを乾燥した塩化水素ガスを吹き
こんで反応させ化合物（１１）を得る。

ステップ９　化合物（１０）を無水エタノールに溶解し
乾燥したアンモニアガスを吸収させた無水エタノールを
加えて化合物（１２）を得る。ステップ８．９は置換基
を持たないアミジン合成に一般に用いられているピンチ
ー法を用いている。

ステップ１０　化合物（７）と化合物（１２）をナトリ
ウムメトキシドを含むメタノール溶媒中で反応させて化
合物（１３）を得る。

ステップ１１　化合物（１３）をステップ６と同様にＮ
ＭＰ中でＣｕＣＮと反応させ本発明の化合物（１−ａ）
を得る。

次に本発明の化合物で（）−がトランス−１゜４−シク
ロヘキシレン基のものは、例えば次の製（上式中、Ｒは
炭素原子数が１〜１０の直鎖アルキル基、×ｊトはトラ
ンス−１，４−シクロヘキシレン基を示す。）遣方法により得ることができる。

Ｒ替ＣＯＯＨ（２）ステップ１　↓　ＳＯＣｇ２ステップ４ ↓ ＮａＣＮ／ＤＭＳＯＲ替ＣＨ，Ｃ０ＯＨステップ６　↓　５ＯＣＮ２（７）Ｒ＠ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ（９）（上式中、Ｒは炭素原子数が１〜１０の直鎖アルキル基
、×Ｅンはトランス−１，４−シクロヘキシレン基を示
す。）ステップ１　トランス−４−アルキルシクロへ午サンカ
ルボン酸（２）を塩化チオニル中で還流して塩素化し、
トランス−４−アルキルシクロへ牛サンカルボニルクロ
ライド（３）を得る。

ステップ２　化合物（３）をトルエン溶媒中で水素化ビ
ス−（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムで還
元してトランス−４−アルキルシクロへキシルメタノー
ル（４）を得る。

ステップ３　化合物（４）をピリジン存在下に塩化チオ
ニルで塩素化してトランス−４−アルキルシクロヘキシ
ルメチルクロライド（５）を得る。

ステップ４　化合物（５）をジメチルスルホキシド中で
シアン化ナトリウムを用いてシアノ化してトランス−４
−アルキルシクロヘキシルメチルシアナイド（６）を得
る。

ステップ５　化合物（６）をエタノール中で水と水酸化
ナトリウムを用いて加水分解してトランス＝４−アルキ
ルシクロへキシル酢酸（７）を得る。

ステップ６　化合物（７）を塩化チオニルで塩素化して
トランス−４−アルキルシクロへキシルアセチルクロラ
イド（８）を得る。

ステップ７、化合物（８）をトルエン中水素化ビス−（
メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムで還元した
２−（トランス−４−アルキルシクロへキシル）−１−
ヒドロキシエタン（９）を得る。

ステップ８　化合物（９）をピリジン中ｐ−）ルエンス
ルオニルクロライドと反応させ２−（トランス−４−ア
ルキルシクロへキシル）エチルトシレート（１０）を得
る。

ステップ９　化合物（１０）を炭酸水素ナトリウム存在
下にジメチルスホキシドで酸化してトランス−４−アル
キシルシクロへキシルアセトアルデヒド（１１）を得る
。

ステップ１０　化合物（１１）を酸触媒を用いオルト蟻
酸メチル存在下にメタノールと反応させトランス−４−
アルキルシクロへキシルアセタール（１２）を得る。

ステップ１１　化合物（１２）をリン酸とピリジンを触
媒として脱メタノール化し２−（トランス−４−アルキ
ルシクロヘキシル）−１−メトキシエチレン（１３）を
得る。

ステップ１２　化合物（１３）を三フッ化ホウ素エーテ
ラート触媒下にオルト蟻酸メチルと反応させて２−（ト
ランス−４−アルキルシクロへキシル）マロンアルデヒ
ドテトラメチルアセターツ（１４）を得る。

ステップ１３　化合物（１４）をｐ−１ルエンスルホン
酸触媒下に水と反応させ１−（トランス−４−アルキル
シクロヘキシル）−２−メトキシアクロレイン（１５）
を得る。

ステップ１４〜１７　本発明の化合物（１−ａ）のステ
ップ６−９と同一の方法で化合物（２０）を得る。

ステップ１８　化合物（１５）と化合物（２０）をナト
リウムエトキシド存在下にエタノール中で反応させて化
合物（２１）を得る。

ステップ１つ　化合物（２１）をＮ−メチル−２−ピロ
リジノン中でシアン化鋼（１）を用いてシアノ化して本
発明の化合物（１−ｂ）を得る。

〔実　施　例〕

以下、実施例と応用例により本発明をさらに詳しく説明
する。

実施例１　２−（４’　−シアノ−３′−フルオロフェ
ニル−５−（４’−ブチルフェニル）ピリミドステップ１　水素化ビス−（メトキシエトキシ）アルミ
ニウムナトリウム（Ｎ　ａ　Ａｌ）　Ｈ２（ＯＣ２Ｈ４
０ＣＨｔ　）２　）７３ｃｍ’　　（０，２５ｍｏ　１
）をトルン１００ｃｍ’に溶解し、４−ブチル安息香酸
１８．７ｇ　（０，１ｍｏｌ）を少しずつ加えた。その
後、３時間還流してから室温まで冷却し、過剰なＮａＡ
１１　Ｈ２（ＯＣ２Ｈ４０ＣＨ３）２を水を加えて竹屑
した。溶媒を減圧下に留去してから残渣に１０％塩酸１
５０ｃｍ３を加え、エーテル５０ｃｍ’で３回抽出し、
１０％塩酸と水で洗滌した。エーテル溶液をＮａ２ＳＯ
４で乾燥後、エーテルを留去した。残渣を減圧蒸溜（１
０５℃／２．　　ＯｓｍＨｇ）　して４−ブチルベンジ
ルアルコール１３．９ｇ　（０，０８５ｍｏ　１）を得
た（収率８５％）。

ステップ２４−ブチルベンジルアルコール１３゜９ｇと
塩化チオニル（ＳＯＣｊ！　２　）３１ｇ　（０゜２６
ｍｏ　ｌ）を１時間還流してから過剰な５ＯＣＩ２を減
圧下に留去し、残渣を減圧蒸溜（９５℃／１．　　Ｏｎ
＋Ｈｇ）　Ｌ、て４−ブチルベンジルクロライド１３．
５ｇ　（０，０７４ｍｏ　ｌ）を得た（収率８７％）。

ステップ３　ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）１４．
８ｍ３にシアン化ナトリウム４．４ｇ　（０゜０９０ｍ
ｏ　ｌ）と４−ブチルベンジルクロライド１３．５ｇを
加え、撹拌しながらゆっくり１４０℃まで加熱して室温
まで冷却した。反応物に水４゜５ｃｍ３を加え、エーテ
ル３０ｃｍ’で３回抽出し、水で洗浄してからＮａ２　
ＳＯ４で乾燥した。

エーテルを留去後、残渣を減圧蒸溜（１０５℃／１、　
０ｍｓｌ１ｇ）　Ｌ、、て４−ブチルフェニルアセトニ
トリル１２．２ｇ　（０，０７１ｍｏ　１）を得た（収
率９６％）。

ステップ４４−ブチルフェニルアセトニトリル１２．２
ｇをエタノール７１ｃｍ’に溶解し、水酸化ナトリウム
８．４ｇ　（０，２１ｎｏｌ）を水６．４ｃｍ’にとか
した液を加えフェノールフタレイン試験紙を用いてアン
モニアガスの発生がやむまで（約１０時間）還流した。

溶媒を留去してから、残渣に１０％塩酸１００ｃｒｎ３
を加え充分撹拌した。結晶を濾過し、水で洗浄後、メタ
ノールから再結晶して４−ブチルフェニル酢酸１１゜９
ｇ　（０，０６２ｍｏ　ｌ）を得た（収率８７％）。

ステップ５Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２
２．７ｇ　（０，３１ｎｏｌ）にオキシ塩化リンＣＰＯ
ＣＲ！　）　２９ｇ　（０，１９ｎｏ　ｌ）を冷却撹拌
下にゆっくり滴下した。この溶液を一１０℃以下に冷却
し、４−ブチルフェニル酢酸１１．９ｇを少しずつ加え
た。反応物を室温で１時間と８０℃で５時間撹拌した。

溶媒を湯浴上減圧下に留去し、残渣を水３０ｃｍ’中に
注ぎ、−１０℃以下に冷却してから７０％過塩素酸ナト
リウム（ＮａＣＮ＜）溶液１０ｍ１を加えた。析出した
結晶を濾過し、メタノールから再結晶して１−ジメチル
アミノ−３−ジメチルイミノ−２〜（４′−ブチルフェ
ニル）−１−プロペン過塩素酸塩１４．Ｏｇ　（０，０
３９ｍｏ　ｌ）を得た（収率６３％）。

ステップ６４−ブロモ−２−フルオロアニリン１００ｇ
　（０，５３ｎｏ　Ｉ）とシアン化銅（１）７０、８ｇ
　（０，７９ｎｏ　Ｉ）をＮ−メチル−２＝ピロリジノ
ン５０００ｍ３中で撹拌下に７時間還流した。反応物を
氷水冷却撹拌下に無水エチレンジアミン１６０ｃｍ３を
滴下した。水１０００ｃｍ３を加えてからクロロホルム
で３００　ｃ　ｍ　３４回抽出し、水で洗浄した。クロ
ロホルムを留去してから残渣を減圧蒸溜（１６５℃／　
２３　ｍｉＨｇ）して４−アミノ−３−フルオロベンゾ
ニトリル５５．３ｇ　（０，４１ｎｏｌ）を得た（収率
７７％）。

ステップ７　硫酸２４４ｃｍ３を撹拌しながら粉細した
亜硝酸ナトリウム３０．８ｇ　（０，４５ｎｏ　ｌ）を
４０℃以下で加えた。氷水冷却撹拌下に酢酸４００ｃｍ
’を３５℃以下で加えた。４−アミノ−３−フルオロベ
ンゾニトリル５６．３ｇを２０〜２５℃を保つ速度で加
え、その後この温度で１時間撹拌してジアゾニウム塩を
調整した。

臭化鋼（１）８７．４ｇ　（０，６１ｎｏ　１）を臭化
水素酸３５０ｃｍ３にとかした溶液を氷水冷却撹拌下に
ジアゾニウム塩をゆっくり滴下した。その後、室温で１
晩撹拌した。生成した結晶を濾過し、メタノールから再
結晶して４−ブロモ−３−フルオロベンゾニトリル６１
．７ｇ　（０，３１ｎｏ　１）を得た（収率７６％）。

ステップ９４−ブロモ−３−フルオロベンゾニトリル６
１．３ｇをエタノール６２ｃｍ’とベンゼン７８０ｍ３
に溶解し、氷冷却下に濃硫酸で乾燥した塩化水素ガスを
飽和させた。その後、５℃以下で２昼夜放置した。湯浴
上減圧下に溶媒を約半分留去し、−２０℃に冷却して析
出した結晶を濾過した。濾液をさらに半分濃縮してから
一２０℃に冷却し析出した結晶を濾過し、結晶を合して
４−ブロモ−３−フルオロベンズイミダート塩酸塩８１
．９ｇ　（０，２９ｎｏ　１）を得たく収率９３％）。

ステップ９４−ブロモ−３−フルオロベンズイミダート
塩酸塩８１．９ｇにアンモニアガスを飽和させたエタノ
ール３００ｃｒｎ’を加え室温で１晩撹拌した。湯浴上
で反応液を約半分に濃縮し一２０℃に冷却して析出した
結晶を濾過した。同様にして濃縮冷却をくり返して４−
ブロモ−３−フルオロベンズアミジン塩酸塩６６ｇ　（
０，２６ｎｏ　１）を得た（収率９０％）。

ステップ１０ｍ　　　無水メタノール１００ｃｍ’にナ
トリウム２．８ｇ　（０，１２ｎｏｌ）を溶解し、ステ
ップ５で得た過塩素酸塩１４．２ｇ　（０゜０４ｎｏ　
ｌ）と４−ブロモ−３−フルオロベンズアミジン塩酸塩
１５．４ｇ　（０，０６０ｍｏ　ｌ）を加え３時間還流
した。メタノールを留去してから残渣に水を加え濾過し
た。結晶をアセトンとりロロホルムの混合溶媒から再結
晶して２−（４’−プロモー３′−フルオロフェニル）
−５−（４′−ブチルフェニル）ピリミジン１４．７ｇ
（０，０３８ｍｏ　ｌ）を得た（収率９５％）。

ステップ１１　２−（４’　〜プロモー３′フルオロフ
ェニル）−５−（４’−ブチルフェニル）ピリミジン１
４．７ｇとシアン化銅（１）４．６ｇ（０，０５０ｍｏ
ｌ）をＮ−メチル−２−ピロリジノン（ＮＭＰ）８０ｃ
ｍ３中で３時間還流した。

反応液を６０〜７０℃まで冷却して塩化鉄（ｍ）溶液（
０，０８０ｍｏ　Ｉ）を加え、６０℃で１時間放置した
。水１００ｃｍ’を加え結晶を濾過した。結晶をクロロ
ホルムに溶解しそれをシリカゲルカラムで、クロロホル
ムを溶媒として処理し、活性炭処理後、アセトンとメタ
ノールの混合溶媒から再結晶して２−（４’　−シアノ
−３′−フルオロフェニル）−５−（４’　−ブチルフ
ェニル）ピリミジ７１１．Ｏｇ　（０，０３３ｍｏ　ｌ
）を得た（収率８７％）。この化合物の相転移温度は以
下のとおりであった。

ここで、Ｃは結晶、Ｎはネマチック相、■は等方性液体
を示す。

実施例１と同様な製造方法により以下の化合物を得た。

また、それらの相転移温度を併記した。

２−　（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）５
−（４’−メチルフェニル）ピリミジン２−（４’　−
シアノ−３′−フルオロフェニル）−５−（４’　−エ
チルフェニル）ピリミジン２−（４’　−シアノ−３′
−フルオロフェニル）−５−（４’−プロピルフェニル
）ピリミジン２−　（４’　−シアノ−３′　−フルオ
ロフェニル）−５−（４’−ペンチルフェニル）ピリミ
ジン２−　（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル
）−５−（４’−へキシルフェニル）ピリミジン２−（
４’　−シアノ−３′　−フルオロフェニル）−５−（
４’−へブチルフェニル）ピリミジン２−　（４’　−
シアノ−３′−フルオロフェニル）−５−（４’−オク
チルフェニル）ピリミジンここで、Ｓ、およびＳ２はス
メクチック相を示す。

２−　（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−
５−（４’−ノニルフェニル）ピリミジン２−（４’　
　−シアノ−３′　−フルオロフェニル）−５−（４’
−デシルフェニル）ピリミジン実施例２２−（４’　−
シアノ−３′−フルオロフェニル）−５−（４’　−へ
プチルオキシフエニの製造方法。

ステップＩ　　ＮｉＡｌ３　Ｈ２（ＯＣ２Ｈ４ＱＣＨ３
）２７３ｃｍ３　（０，２５ｍｏ　１）をトルエン１０
０ｃｍ３に溶解し、４−へブチルオキシ安息香酸クロラ
イド５１ｇ　（０，２０ｍｏｌ）を滴下し、滴下後３時
間還流した。反応液を室温に冷却し、水を滴下して過剰
なＮ　ａ　Ａ　ｆｌ　Ｈ２（ＯＣ２Ｈ４０ＣＨ３）２を
分解した。次に１０％塩酸１５０ｃｍ３を加え、クロロ
ホルムで抽出し、１０％塩酸と水で洗浄した。クロロホ
ルムを留去し、残渣をヘキサンから再結晶して４−へブ
チルオキシベンジルアルコール４１ｇ　（０，１８ｍｏ
＋）を得た（収率９２％）。

ステップ２４−へブチルオキシベンジルアルコール４１
ｇと５ＯＣｆｆ　２３３ｇ　（０，２８ｍｏ　１）を１
時間還流し、過剰な５ＯＣＩ２を減圧下に留去し、残渣
を減圧蒸溜（１３７℃／　３　ａｖｌｌｇ）　して４−
へブチルオキシベンジルクロライド４２ｇ（０，１７ｍ
ｏｌ）を得た（収率９５％）。

ステップ３　　ＤＭＳ０４４ｃｍ３にＮａＣＮ１０゜３
ｇ　（０，２１ｍｏｌ）と４−へブチルオキシベンジル
クロライド４２ｇを加え、撹拌しながら１４０℃まで加
熱してから室温に冷却した。反応物に水１７０ｃｍ’を
加え、エーテルで抽出し、水で洗浄してからＮａ２５Ｏ
＊で乾燥した。エーテルを留去後、残渣を減圧蒸溜（１
５５℃／３＋ｕｆ１ｇ）　して４−へブチルオキシフェ
ニルアセトニトリル３７ｇ　（０，１６ｍｏｌ）を得た
（収率９２％）。

ステップ４４−へブチルオキシフェニルアセトニトリル
３７ｇとＫＯＨ４２ｇ　（０，６４ｍｏ　１）と水１１
ｃｍ’をエタノール１５０ｃｍ３に溶解し、１０時間還
流した。エタノールを留去し、残渣を水１２０ｃｍ’に
溶解し、１０％塩酸１００ｃｍ’を加えて結晶を析出さ
せた。結晶を濾過し、水で洗浄後、メタノールから再結
晶して４−へブチルオキシフェニル酢酸３７．　９ｇ　
（０，１５ｍｏ　１）を得た（収率９４％）。

ステップ５　　ＤＭＦ５５．６ｇ　（０゜１５ｍｏ　Ｉ
）にＰＯＣＩＩ　ｓ　６９ｇ　（０，７６ｍｏ　１）を
冷却撹拌下にゆっくり滴下し、４−へブチルオキシフェ
ニル酢酸３７．９ｇを少しずつ加えた。反応物を室温で
１時間、８０℃で５時間撹拌した。過剰なりＭＦを湯浴
上で減圧下に留去し、残渣を水６０Ｃｍ’に注いだ。反
応液に７０％ＮａＣｆ１Ｏａ溶液４０ｃｍ’を加え、析
出した結晶を濾過し、水で洗浄してからメタノールから
再結晶して１−ジメチルアミノ−３−ジメチルイミノ−
２−（４’−へブチルオキシフェニル）−１−プロペン
ＮａＣＮ　ｏ、塩４１ｇ　（０，１ｍｏｌ）を得た（収
率６５％）。

ステップ６〜９　実施例１のステップ６〜っで得たアミ
ジン塩酸塩を用いた。

ステップ１０　無水メタノール５０ｃｍ’にナトリウム
１．０４ｇ　（０，０４５ｍｏ　＋）を溶解し、ステッ
プ５で得た過塩素酸塩６．３ｇ　（０，０１５ｍｏ　１
）とステップって得たアミジン塩酸塩５゜８ｇ　（０，
０２３ｍｏ　１）を加え、３時間還流した。メタノール
を留去し、残渣に水を加え、結晶を濾過した。結晶をア
セトンとクロロホルムの混合溶媒から再結晶して２−　
（４’　−ブロモ−３′−フルオロフェニル）−５−（
４’　−へブチルオキシフェニル）ピリミジン５．７ｇ
　（０，０１２ｒｙ＋ｏ　１）を得た（収率８５％）。

ステップ１１　２−（４’　−プロモー３′フルオロフ
エニル）−５−（４’　−へブチルオキシフェニル）ピ
リミジン５．７ｇとシアン化銅（１）１゜７ｇ　（０，
０２ｍｏｌ）をＮＭＰ５０ｃｍ’中で３時間還流した。

反応液を６０〜７０℃に冷却し、塩化鉄（ｍ）溶液を加
え、６０℃で１時間放置した。水５０ｃｍ３を加え析出
した結晶を濾過した。

結晶をクロロホルムに溶解しシリカゲルカラムを用いて
クロロホルム溶媒で処理し、クロロホルムを留去し、残
渣をアセトンとメタノールの混合溶媒から再結晶して２
−４′−シアノ−３′−フルオロフェニル）−５−（４
’　−へブチルオキシフェニル）ピリミジン４．０ｇ　
（０，１ｍｏｌ）を得た（収率８０％）。この化合物の
相転移温度は以下の通りであった。

以下、実施例２と同様な製造方法により次の化合物を製
造した。

２−　（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−
５−（４’−メトキシフェニル）ピリミジン２−　（４
’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−５−（４’
　−エトキシフェニル）ビリミジン−５−（４’−ノニ
ルオキシフェニル）ピリミジ２− ５− ５− 一５− ジン（４′ （４′ （４′ （４′ （４′ （４′ 一シアノー３′−フルオロフェニル） −プロポキシフェニル）ピリミジン −シアノ−３′−フルオロフェニル） −ブトキシフェニル）ピリミジン一シアノー３′−フルオロフェニル） −ベンチルオキシフェニル）ピリミ２−　　（４’ −５−（４’ ２−　　（４’ −５−（４’ ジン２−　（４’ 一シアノー３′−フルオロフェニル〉 −へキシルフェニル）ピリミジン一シアノー３′−フルオロフェニル） −オクチルオキシフェニル）ピリミーシアノ−３′−フルオロフェニル）ン２−（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−５
−（４’−デシルオキシフェニル）ピリミジン実施例３２−　（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−
５−（）ランス−４′　−プロピルシクロヘキシルピリ
ミジンの製造。

ステップ１　トランス−４−プロピルシクロヘキサンカ
ルボン酸１７０ｇ　（１，０モル）と塩化チオニル１１
０ｃｍ３　（１，５モル）を３時間還流した。過剰な塩
化チオニルを減圧下に留去してから残渣を減圧蒸溜（１
０６℃／　１５ｗｍ１ｇ）　してトランス−４−プロピ
ルシクロヘキサンカルボニルクロライド１８１ｇ　（０
，９６モル）を得た（収率９６％）。

ステップ２７０％水素化ビス＝（メトキシエトキシ）ア
ルミニウムナトリウムのトルエン溶液３３０ｃｍ’　　
（１，１５モル）とトルエン１９０ｃｍ’を撹拌しなが
らトランス−４−プロピルシクロヘキサンカルボニルク
ロライド１８１ｇ（０゜９６モル）をおだやかに還流す
るような速度で滴下した。その後８０〜９０℃で５時間
撹拌した。

室温まで冷却してから濃塩酸３００ｃｍ’と水１０００
ｃｍ’を加え錯体を分解した。トルエン層を分離してか
ら水層をトルエン２００ｃｍ３で３回抽出し、最初のト
ルエン溶酸と合して１０％塩酸と水で洗浄した。トルエ
ンをロータリーエバポレータで留去後、残渣を減圧蒸溜
（９２−３℃／２，５開１１ｇ）　Ｌ、てトランス−４
−プロピルシクロヘキシルメタノール１４５ｇ　（０，
９３モル）を得た（収率９７％）。

ステップ３　トランス−４−一プロビルシクロヘキシル
メタノール１４５ｇ　（０，９３モル）と脱水ピリジン
１１０ｇ　（１，４モル）を室温で撹拌しながら塩化チ
オニル２２１ｇ　（１，８６モル）を滴下した。滴下終
了後、１１５〜１２０℃で６時間撹拌した。反応液を室
温に冷却し、濃塩酸２００ｃｍ’と氷５００ｇ中に注ぎ
油層を分離してから水層をクロロホルムで抽出して油層
に合し、１０％塩酸と水で洗浄した。クロロホルムを留
去してから残渣を減圧蒸溜（７６℃／　３　、　５　ａ
＋ＩＩＨｇ）してトランス−４−プロピルシクロヘキシ
ルメチルクロライド１４５ｇ　（０，８３モル）を得た
。

（収率８９％）。

ステップ４　トランス−４−プロピルシクロヘキシルメ
チルクロライド１４５ｇ　（０，８３モル）とシアン化
ナトリウム４９ｇ　（１，０モル）とジメチルスルホキ
シド２０７ｃｍ３を撹拌しながら１３０〜１４０℃に３
時間加熱した。冷却後、水４００ｃｍ’を加えクロロホ
ルムで抽出し水で洗浄した。クロロホルムを留去してか
ら残渣を減圧蒸溜（１１９−２１℃／　９　ｍｍｍｍ１
ｌ　シてトランス−４−プロピルシクロヘキシルアセト
ニトリル１３２ｇ　（０，８モル）を得た（収率９６％
）。ステップ５　トランス−４−プロピルシクロへキシ
ルアセトニトリル１３２ｇ　（０，８モル）と水酸化ナ
トリウム１２８ｇ　（３，２モル）と水７２ｇ（４，０
モル）とエタノール４００ｃｍ’を１０時間各撹拌しな
がら還流した（アンモニアの発生が止まるまで）。反応
液中のエタノールをロータリーエバポレーターで留去し
た。残渣に濃塩酸５００ｃｍ’を加えて撹拌してから結
晶を濾過して水で洗浄した。結晶をメタノールから再結
晶してトランス−４−プロピルシクロヘキシル酢酸１３
８ｇ　（０，７５モル）を得た（収率９３％）。

ステップ６　トランス−４−プロピルシクロヘキシル酢
酸１３８ｇ　（０，７５モル）と塩化チオニル１７９ｇ
　（１，５モル）を湯浴上で３時間還流した。過剰な塩
化チオニルを減圧下に留去し、トルエン１００ｃｍ’を
加えて減圧下に留去してから残渣を減圧蒸＃（１０６−
８℃７８問Ｐｇ）　してトランス−４−プロピルシクロ
ヘキシルアセチルクロライド１４８ｇ　（０，７３モル
）を得た（収率９７％）ａステップ７　水素化ビス−（メトキシエトキシ）アルミ
ニウムナトリウムの７０％トルエン溶液２７５ｃｍ３　
（０，９５モル）とトルエン１５０ｃｍ３を７５ｃｍ３
　（０，９５モル）とトルエン１５０ｃｍ’を撹拌しな
がらトランス−４−プロピルシクロヘキシルアセチルク
ロライド１４８ｇ（０，７３モル）をゆっくり還流する
速度で滴下した。その後、８０〜９０℃で５時間撹拌し
た。

室温まで冷却してから濃塩酸３００ｃｍ’と水５００ｃ
ｍ’を加え、トルエン層を分離してから水層をトルエン
で抽出し、合したトルエン層を１０％塩酸と水で洗浄し
た。トルエンを留去したから残渣を減圧蒸溜（１０７℃
／２．　５＋ａｍｌ１ｇ）　Ｌ、て２−トランス−４′
　−プロピルシクロへキシル）１−ヒドロキシエタン１
１８ｇ（０，６９モル）を得た。（収率９４％）ステップ８２−トランス−４′−プロピルシクロヘキシ
ル）−１−ヒドロキシエタン１１８ｇ（０，６９モル）
とｐ−トルエンスルホニルクロライド１４４ｇ　（０，
７６モル）をＮａＣｌ２−水浴上で一５℃以下に冷却し
、はげしく撹拌しながら脱水ピリジン１０９ｇ　（１，
３８モル）を滴下した。その後、−５℃以下で２時間撹
拌した。室温にもどしてから水３００ｃｍ’を加え撹拌
後、部層を分離し、水層をクロロホルムで抽出した。

油層とクロロホルム層を合して水、１０％硫酸、水の順
序で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで一晩乾燥してから
クロロホルムを留去して２−（トランス−４′−プロピ
ルシクロヘキシル）エチルトシレート２０１ｇ　（０，
６２モル）を得た（収率９０％）。

ステップ９　トランス−４−プロピルシクロヘキシルエ
チルトシレート２０１ｇ　（０，６２モル）と炭酸水素
ナトリウム５８．５ｇ　（０，７５モル）とジメチルス
ルホキシド５２１ｇ　（６，２モルを撹拌しながら１４
０℃まで加熱し、この温度で３０分間撹拌した。反応液
を室温まで冷却し、氷５００ｇ中へあけ、クロロホルム
で抽出し、合せたクロロホルム層を水で洗浄した。クロ
ロホルムを留去し、残渣を減圧蒸溜（１０２℃／３．０
−０−−１ｌしてトランス−４−プロピルシクロヘキシ
ルアセトアルデヒド６７．３　（０，４０モル）を得た
（収率６５％）。

ステップ１０　トランス−４−プロピルシクロヘキシル
アセトアルデヒド６７．３　（０，４０モル）とオルト
蟻酸メチル４６．６ｇ　（０，４４モル）とメタノール
４００ｃｍ３とイオン交換樹脂（強酸性Ｈ＋型）２．０
ｇを１０時間還流した。イオン交換樹脂を濾過してから
反応液中の溶媒を減圧下に留去した。残渣を減圧蒸溜（
１３５℃／１゜ＯｗｉＨｇ）　してトランス−４−プロ
ピルシクロへ午ジルアセトアルデヒドジメチルアセター
ル７５゜０ｇ　（０，３５モル）を得た（収率８０％）
。

ステップ１１　トランス−４−プロピルシクロヘキシル
アセトアルデヒドジメチルアセタール７５゜０ｇ　（０
，３５モル）と８５％りん酸０．７ｇとピリジン１．４
ｇを蒸溜しながら２００℃まで加熱した。残渣を減圧蒸
溜（９６−８℃１５．０ｍｌ１＋Ｈｇ）　Ｌ、て１−（
トランス−４７−プロピルシクロヘキシル）−２−メト
キシエチレン４９．２ｇ（０，２７モル）を得た（収率
７７％）。

ステップ１２　１−（）ランス−４′−ブロビルシクロ
ヘキシル）−２−メトキシエチレン４９゜２ｇ　（０，
２７モル）とオルト蟻酸メチル２８６ｇ（２，７モル）
を室温で撹拌下に三ふっ化はう素・エーテラート４２．
６ｇ　（０，３０モル）を滴下した。その後、−昼夜撹
拌した。炭酸ナトリウム４５ｇ　（０，５モル）を加え
室温で３時間撹拌した。結晶を濾過し、濾液中のオルト
蟻酸メチル減圧下に留去した。残渣を減圧蒸溜（１２５
℃１０、　３１１ｍ１ｇ）　してトランス−４−プロピ
ルシクロヘキシルマロンアルデヒドテトラメチルアセタ
ール５７．７ｇ　（０，２０モル）を得た（収率７４％
）。

ステップ１３　トランス−４−プロピルシクロヘキシル
マロンアルデヒドテトラメチルアセタール５７．７ｇ　
（０，２０モル）と水４，７ｇとｐ−トルエンスルホン
酸・−水和物０．２ｇを湯浴上で８０℃に２時間加熱撹
拌した。反応物をエーテル２００ｃｍ’に溶解し、２％
水酸化ナトリウム溶液と水で洗浄した。エーテル層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。エーテルを留去して、１
（トランス−４′−プロピルシクロヘキシル）＝２−メ
トキシアクロレイン３７．８ｇ　（０，１８モル）を得
た（収率９０％）。得られたクロレインはただちにステ
ップ１８に使用した。

ステップ１４〜１７　実施例１のステップ６〜９で得た
アミジン塩酸塩を用いた。

２−メトキシアクロレイン３７．８ｇ　（０，１８モル
）を得た（収率９０％）。得られたクロレインはただち
にステップ１８に使用した。

ステップ１４〜１７　実施例１のステップ６〜っで得た
アミジン塩酸塩を用いた。

ステップ１８　エタノール１００ｃｍ３にナトリウム２
．３ｇ　（０，１０モル）を溶解し、ステップ１３で製
造した１−（トランス−４′−プロピルシクロヘキシル
）−２−メトキシアクロレイン８．０ｇ　（０，０３６
モル）と４−ブロモ−３−フルオロベンズアミジン塩酸
塩９．　２ｇ　（０，０３６モル）を加え５時間還流し
た。溶媒を留去し、残渣に水を加えて濾過し、水洗した
。結晶をアセトンとメタノールの混合溶媒から再結晶し
て２（４′−ブロモ−３′−フルオロフェール）５−（
トランス−４′−プロピルシクロヘキシル）ピリミジン
６．１ｇ　（０，０１６モル）を得た。

ステップ１９　２−（４’　−ブロモ−３′−フルオロ
フェニル）−５−（トランス−４′−プロピルシクロヘ
キシル）ピリミジン６．１ｇ（０，０１６モル）とシア
ン化鋼（１）　２．　２ｇ　（０，０２５モル）をＮ−
メチル−２−ピロリジノン３２ｃｍ３中で３時間還流し
た。反応液を５０〜６０℃に冷却し、塩化鉄（■）６水
和物８．７ｇと塩酸２．９ｃｍ’と水１３ｃｍ’より成
る溶液を加え撹拌後、６０℃に１時間放置した。水１０
０ｃｍ’を加え析出した結晶を濾過した。結晶をシリカ
ゲルカラムでクロロホルムを溶媒に用いて処理し、溶媒
を留去した。残渣をアセトンとメタノールの混合溶媒か
ら再結晶し２−（４’　−シアノ−３′−フルオロフェ
ニル）−５−（）ランス−４１−プロピルシクロヘキシ
ル）ピリミジン４゜４ｇ　（０，０１４モル）を得た。

この化合物の相転移温度は以下のとおりであった。

／８　　８２．０℃ （ここで、Ｃは結晶、Ｎはネマチック相、Ｓはスメクチ
ック相、■は等方性液体を示す。）以下、同様な製造方
法により下記の化合物を合成した。

２−　（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−
５−（）ランス−４′−メチルシクロヘキシル）ピリミ
ジン２−　（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−
５−（）ランス−４１−エチルシクロヘキシル）ピリミ
ジン２−　（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−
５−（）ランス−４′−ブチルシクロヘキシル）ビリミ
ジン２−（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−５
−（トランス−４′−ペンチルシクロヘキシル）ピリミ
ジン２−（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−５
−（）ランス−４′−へキシルシクロヘキシル）ピリミ
ジンル）ピリミジン２−　（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）５
−（トランス−４′−ノニルシクロヘキシル）ピリミジ
ン２−（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−５
−（）ランス−４′−デシルシクロへキシル）ピリミジ
ン実施例１〜３の相転移温度の測定結果を第１表にまとめ
た。ここで、Ｃは結晶、ＳｌおよびＳ２はスメクチック
相、Ｎはネマチック相、■は等方性液体を示す。

２−　（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−
５−（）ランス−４′−へブチルシクロヘキシル）ピリ
ミジン２−　（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−
５−（）ランス−４′−オクチルシクロヘキシ第表（単位℃）物の相転移温度を第２表に示した。尚、本発明以外の化
合物の相転移温度のデータはり、　Ｄｅｓ＋ｕｓ　ａｎ
ｄｔｌ、　Ｚａｓｃｈｋｅ、　　Ｐｌｕｓｓｉｇｅ　Ｋ
ｒ１ｓｔａｌｌｅ　ｉｎ　Ｔａｂｌｌｅｎ■（１９８４
）によった。

第　２　表　　（単位℃）比較するため、ｃ５ａ、、４Σ＄ｃＮ（Ａ）　、Ｃｓ　Ｈ＋＋　　＠べ巨ト色ンＣＮ　（Ｂ）
、この表より、Ｃ−Ｎ点は３位にＦ置換することにより下がって従来の液晶化合物との相容性が高まり、
Ｎ−１点は比較した液晶化合物より多少低いが、従来の
液晶組成物に数１０％程度混合した場合にはあまり気に
ならない。したがって、３位をＦ置換した本発明のピリ
ミジン化合物はＣＮ基のみを有するピリミジン化合物（
Ｃ）、ＣＤ）、（Ｅ）の欠点であった相容性の悪さを改
善し、しかもＮ−Ｉ点がさほど下がらない特徴を有する
。

さらに、後で応用例で説明するように△εは（Ａ）〜（
Ｅ）のいずれよりも大きく、液晶組成物のしきい値電圧
を大巾に下げる効果も合せ持っている。

応用例１市販の液晶組成物ＺＬＩ−１５６５８　（メルク社製）
に本発明の化合物２−（４’　−シアノ−３′−フルオ
ロフェニル）−５−（４’　−ブチルフェニル）ピリミ
ジンおよび２−　（４’　−シアノ−３′−フルオロフ
ェニル）−５−（）ランス−４′−ブチルシクロヘキシ
ル）ピリミジンを各々５．１０．１５．２０．２５．３
０重量％混合した液晶組成物を作り一３０℃に２００時
間放置して液晶の析出の有無を調べた。その結果を第３
表に示した。ここで、○は析出なし、×は析出ありを示
す。

第　　　３　　　表この結果より本発明の化合物の従来の液晶組成物に対す
る混合割合は５〜３０重量％の範囲が好ましいことがわ
かる。なお、本応用例以外の液晶組成物に混合した場合
には多少数値が上下するが、はぼこの混合割合は確保で
きることを確認している。

応用例２市販の液晶組成物ＺＬＩ−１５６５に実施例１の２−（
４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−５−（４
’−ブチルフェニル）ピリミジンおよび実施例３の２−
（４’　−シアノ−３′−フルオロフェニル）−５−（
トランス−４′−ブチルシクロヘキシル）ピリミジンを
各々５．１０．１５．２０、重量％混合した液晶組成物
を作りＮ−１点を測定した。次にこれらの組成物をセル
厚９μｍのＴＮ型セルに封入して、２０℃においてＶｏ
、γ値および電圧マージンＭを測定した。なお、電圧マ
ージンＭは次式で定義した。

第表第表ここで、■、およびｖｌ、はそれぞれ輝度１０％および
５０％のときの電圧、Ｔは測定温度、φは視角（正面を
Ｏ＠とする）を示す。また、比較のためｚＬ■−１５６
５のみ、オヨびＣ３ＨＩＩＣＮをそれぞれ１０重量％混
合した液晶組成物を作り、同様な方法でＮ−１点、■９
５、γ値、Ｍを測定した。これらの結果を第４表、第５
表および第６表に示した。

第６表応用例３次に示した組成の液晶組成物［Ａ］を作った。

液晶組成物［Ａコこの組成物［Ａ］に本発明の化合物および、比較例としてをそれぞれ１０重量％混合した液晶組成物を作り、実施
例２と同様にしてＮ−１点、　ｌｈｓ γ、Ｍを応用例４測定した結果を第７表に示した。

次に示した組成の液晶組成物［Ｂ］を作った。

第表液晶組成物［Ｂ］３Ｈ７（×□ＣＮ１１．１この組成物ＣＨ３に応用例３と同じ化合物をそれぞれ１０重量％混合した液晶組成物をつくり、応用例
２と同様にしてＮ−１点、Ｖ　ｌ　ｈ　ｓハＭを測定した結果を第８表に示した。

応用例５次に示した組成の液晶組成物［Ｃ］液晶組成物ＣＣ］を作った。

Ｃ＋Ｈｑ＋０Ｏ−Ｃ）−ＣＮ　　Ｌｌ、、ｆ〃この組成
物［Ｃ］に応用例３と同じ化合物をそれぞれ１０重量％
混合した液晶組成物を作り、応用例２と同様にしてＮ−
Ｉ点、Ｖｌｈ、γ、Ｍを測定した結果を第９表に示した
。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明のネマチック液晶化合物は高い
Ｎ−Ｉ点（＞１８０℃）と非常に大きい正の誘電率異方
性を有すことが明らかとなった。

また、本発明の化合物は従来のあらゆる液晶組成物と混
ぜた場合に相容性が良好であり、得られた液晶組成物は
実用温度範囲が広く、しきい値電圧が低く、かつ高時分
割駆動が可能であることが確認できた。

以上

Claims

【特許請求の範囲】１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上式中、Ｒは炭素原子数が１〜１０の直鎖アルキル基
又は直鎖アルコキシ基、▲数式、化学式、表等がありま
す▼はトランス−１，４−シクロヘキシレン基又は１，
４−フェニレン基を示す。）で表わされるネマチック液晶化合物。２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上式中、Ｒ＾１は炭素原子数が１〜１０の直鎖アルキ
ル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項１記載のネマチッ
ク液晶化合物。３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上式中、Ｒ＾２は炭素原子数が１〜１０の直鎖アルキ
ル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項１記載のネマチッ
ク液晶化合物。４）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上式中、Ｒ＾３は炭素原子数が１〜１０の直鎖アルキ
ル基を示す。）で表わされることを特徴とする請求項１記載のネマチッ
ク液晶化合物。５）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上式中、Ｒは炭素原子数が１〜１０の直鎖アルキル基
又は直鎖アルコキシ基、▲数式、化学式、表等がありま
す▼はトランス−１，４−シクロヘキシレン基又は１，
４−フェニレン基を示す。）で表わされるネマチック液晶化合物を少なくとも一成分
含有することを特徴とするネマチック液晶組成物。６）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上式中、Ｒは炭素原子数が１〜１０の直鎖アルキル基
又は直鎖アルコキシ基、▲数式、化学式、表等がありま
す▼はトランス−１，４−シクロヘキシレン基又は１，
４−フェニレン基を示す。）で表わされるネマチック液晶化合物を５〜３０重量％含
有することを特徴とする請求項５項記載のネマチック液
晶組成物。