JPH0429782A - 防曇プラスチックの製造方法 - Google Patents
防曇プラスチックの製造方法Info
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- JPH0429782A JPH0429782A JP13486890A JP13486890A JPH0429782A JP H0429782 A JPH0429782 A JP H0429782A JP 13486890 A JP13486890 A JP 13486890A JP 13486890 A JP13486890 A JP 13486890A JP H0429782 A JPH0429782 A JP H0429782A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、耐擦傷性を有する防曇プラスチックの製造方
法に関する。
法に関する。
(従来の技術)
一般に、ブラスチンクやガラスの表面温度が、露点以下
になった場合には、それらの表面に微小な水滴が付着し
て曇りを生じる。例えば、HIi鏡レンズ、ゴーグル、
車の窓ガラスなどでは、その周囲の温度が急激に低下し
た場合に曇りが生しることは良く知られているところで
ある。このような透明部材に曇りが生じた場合には、先
を見通すことができないので、不快に感じるだけでなく
、大事故につながる危険性もある。このため、従来がら
透明部材の曇りを防止するために種々の防曇技術が提案
されている。
になった場合には、それらの表面に微小な水滴が付着し
て曇りを生じる。例えば、HIi鏡レンズ、ゴーグル、
車の窓ガラスなどでは、その周囲の温度が急激に低下し
た場合に曇りが生しることは良く知られているところで
ある。このような透明部材に曇りが生じた場合には、先
を見通すことができないので、不快に感じるだけでなく
、大事故につながる危険性もある。このため、従来がら
透明部材の曇りを防止するために種々の防曇技術が提案
されている。
例えば、特開昭53−58492号公報には、スルホン
酸型両性界面活性剤および無機塩あるいは酢酸塩を含有
する組成物を透明部材の表面に処理する技術が提案され
ている。しかしながら、この方法では透明部材の表面に
形成された膜の硬度が低く、防曇効果の長期持続性に劣
る欠点がある。また、透明部材となる樹脂中に界面活性
剤を混練する技術も提案されているが、防曇効果の持続
性、ブリド現象による白化、表面耐擦傷性に劣る欠点が
ある。さらに、親水性高分子を架橋させて防曇性と耐擦
傷性の両者を付与しようとする方法や、透明部材表面の
プラズマ処理による親水性の付加、表面グラフト化など
の方法も提案されているが、いずれの方法も防曇性、耐
擦傷性の両者を実用レベルで付与するまでには至ってい
ない。
酸型両性界面活性剤および無機塩あるいは酢酸塩を含有
する組成物を透明部材の表面に処理する技術が提案され
ている。しかしながら、この方法では透明部材の表面に
形成された膜の硬度が低く、防曇効果の長期持続性に劣
る欠点がある。また、透明部材となる樹脂中に界面活性
剤を混練する技術も提案されているが、防曇効果の持続
性、ブリド現象による白化、表面耐擦傷性に劣る欠点が
ある。さらに、親水性高分子を架橋させて防曇性と耐擦
傷性の両者を付与しようとする方法や、透明部材表面の
プラズマ処理による親水性の付加、表面グラフト化など
の方法も提案されているが、いずれの方法も防曇性、耐
擦傷性の両者を実用レベルで付与するまでには至ってい
ない。
また、特開平2−22343号公報には、表面に金属酸
化物層が形成されたプラスチック基材の金属酸化物層表
面を親水性有機物で修飾する方法が開示されているが、
防曇効果の長期持続性に劣る。
化物層が形成されたプラスチック基材の金属酸化物層表
面を親水性有機物で修飾する方法が開示されているが、
防曇効果の長期持続性に劣る。
(発明が解決しようとする課B)
本発明は上記の実情に着目してなされたものであり、そ
の目的は、防曇性と耐擦傷性を共に有する防曇プラスチ
ックの製造方法を提供することにある。
の目的は、防曇性と耐擦傷性を共に有する防曇プラスチ
ックの製造方法を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明の防曇プラスチックの製造方法は、表面に金属酸
化物層が設けられたプラスチック基材の金属酸化物層表
面を、低温プラズマ処理する工程と該低温プラズマ処理
された金属酸化物層表面を、水酸基を一個以上有し、か
つ水酸基以外の官能基を有する脂肪族炭化水素および/
または水酸基を三個以上有し、かつ水酸基以外の官能基
を有しない脂肪族炭化水素を含有する処理液で処理する
工程からなることを特徴としており、そのことにより上
記目的が達成される。
化物層が設けられたプラスチック基材の金属酸化物層表
面を、低温プラズマ処理する工程と該低温プラズマ処理
された金属酸化物層表面を、水酸基を一個以上有し、か
つ水酸基以外の官能基を有する脂肪族炭化水素および/
または水酸基を三個以上有し、かつ水酸基以外の官能基
を有しない脂肪族炭化水素を含有する処理液で処理する
工程からなることを特徴としており、そのことにより上
記目的が達成される。
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明において使用するプラスチック基材上には、金属
酸化物層が形成されている。金属酸化物層を形成する手
段は特に限定されるものではない。例えば、真空蒸着法
、スパッタリング法、イオンブレーティング法などの物
理的蒸着法や、CVD法、メツキ法などを用いることが
できる。金属酸化物層の膜厚は耐擦傷性を上げるために
は、厚いほど好ましいが、用途によって適宜設定するこ
とができる。プラスチック基材としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート、塩化ビニル樹脂、ポリスチレン、ポリイミド
、ポリプロピレン、ジエチレングリコールジアリルカー
ボネート、ポリエチレン、ABS樹脂、ポリエーテルス
ルホン、ポリエーテルエーテルケトンなどが使用される
。
酸化物層が形成されている。金属酸化物層を形成する手
段は特に限定されるものではない。例えば、真空蒸着法
、スパッタリング法、イオンブレーティング法などの物
理的蒸着法や、CVD法、メツキ法などを用いることが
できる。金属酸化物層の膜厚は耐擦傷性を上げるために
は、厚いほど好ましいが、用途によって適宜設定するこ
とができる。プラスチック基材としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート、塩化ビニル樹脂、ポリスチレン、ポリイミド
、ポリプロピレン、ジエチレングリコールジアリルカー
ボネート、ポリエチレン、ABS樹脂、ポリエーテルス
ルホン、ポリエーテルエーテルケトンなどが使用される
。
金属酸化物層を構成する材料は、例えば、5iOz、s
io 、AlzOz 、MgO、Zr0z、CaO+
Ti0z、5nOz、TnzOs 、WO3、Mo5s
、BaO5ZnO、NiO、Hf0z、TazO=等が
あげられる。金属酸化物層は、これら材料にて形成され
る単層膜や、これらの材料の2種以上の組成にて形成さ
れる単層膜、あるいはこれらの単層膜を積層して形成さ
れる積層膜であってもよい。特に、金属酸化物層の最上
層がシリコン酸化物またはシリコン酸化物を含む組成物
で形成されていることが好ましい。
io 、AlzOz 、MgO、Zr0z、CaO+
Ti0z、5nOz、TnzOs 、WO3、Mo5s
、BaO5ZnO、NiO、Hf0z、TazO=等が
あげられる。金属酸化物層は、これら材料にて形成され
る単層膜や、これらの材料の2種以上の組成にて形成さ
れる単層膜、あるいはこれらの単層膜を積層して形成さ
れる積層膜であってもよい。特に、金属酸化物層の最上
層がシリコン酸化物またはシリコン酸化物を含む組成物
で形成されていることが好ましい。
本発明においては上記金属酸化物層の表面を低温プラズ
マによって処理するのである。低温プラズマとは、減圧
下で放電することによって発生されたプラズマであり、
プラズマ中の電子温度がイオン温度より、はるかに高い
状態のプラズマのことである。低温プラズマを発生方法
は、特に限定されるものではないが、例えば、真空層内
を10−’ Torr以下に減圧後、酸素ガス、窒素ガ
スやアルゴン等の不活性ガスを導入して真空層内のガス
圧を10〜10 ”3Torrとし、真空槽内で放電を
起こすことにより低温プラズマを発生させる方法があげ
られる。放電を起こす方法は、任意の方法が採用されて
よく、例えば、直流放電、交流放電、高周波放電、マイ
クロ波放電等による方法があげられ、高周波放電による
方法が好適に使用される。
マによって処理するのである。低温プラズマとは、減圧
下で放電することによって発生されたプラズマであり、
プラズマ中の電子温度がイオン温度より、はるかに高い
状態のプラズマのことである。低温プラズマを発生方法
は、特に限定されるものではないが、例えば、真空層内
を10−’ Torr以下に減圧後、酸素ガス、窒素ガ
スやアルゴン等の不活性ガスを導入して真空層内のガス
圧を10〜10 ”3Torrとし、真空槽内で放電を
起こすことにより低温プラズマを発生させる方法があげ
られる。放電を起こす方法は、任意の方法が採用されて
よく、例えば、直流放電、交流放電、高周波放電、マイ
クロ波放電等による方法があげられ、高周波放電による
方法が好適に使用される。
高周波放電を起こすための出力は、処理される金属酸化
物層の種類、厚さ等に応して適宜決定すればよく、5〜
300Wの範囲が好ましい。
物層の種類、厚さ等に応して適宜決定すればよく、5〜
300Wの範囲が好ましい。
低温プラズマによる金属酸化物層表面の処理時間は、金
属酸化物層の種類、厚さ等に応じて適宜決定すればよく
、10秒〜15分の範囲が好ましい。
属酸化物層の種類、厚さ等に応じて適宜決定すればよく
、10秒〜15分の範囲が好ましい。
本発明においてはプラスチック基材上の金属酸化物層を
低温プラズマ処理した後に、水酸基を一個以上有し、か
つ水酸基以外の官能基を有する脂肪族炭化水素および/
または水酸基を三個以上有し、かつ水酸基以外の官能基
を有しない脂肪族炭化水素(以下「親水性有機物」とい
う。)を含有する処理液で処理する。ここで、水酸基以
外の官能基とは、例えば、カルボキシル基(−COOH
)、アルデヒド基(−CHO) 、スルホ基(−5O,
H)、ニトロ基(−NO□)等であり、したがって水酸
基を一個有し、かつ水酸基以外の官能基を有する脂肪族
炭化水素には、ニトロエタノール、ヒドロキシェタンス
ルホン酸、ヒドロキン酢酸等があげられる。また、水酸
基を三個以上存し、かつ水酸基以外の官能基を有しない
脂肪族炭化水素には、グリセリン、アラビノース、フル
クトース等があげられる。これらは、単独で用いてもよ
く、あるいは複数種のものを併用してもよい。
低温プラズマ処理した後に、水酸基を一個以上有し、か
つ水酸基以外の官能基を有する脂肪族炭化水素および/
または水酸基を三個以上有し、かつ水酸基以外の官能基
を有しない脂肪族炭化水素(以下「親水性有機物」とい
う。)を含有する処理液で処理する。ここで、水酸基以
外の官能基とは、例えば、カルボキシル基(−COOH
)、アルデヒド基(−CHO) 、スルホ基(−5O,
H)、ニトロ基(−NO□)等であり、したがって水酸
基を一個有し、かつ水酸基以外の官能基を有する脂肪族
炭化水素には、ニトロエタノール、ヒドロキシェタンス
ルホン酸、ヒドロキン酢酸等があげられる。また、水酸
基を三個以上存し、かつ水酸基以外の官能基を有しない
脂肪族炭化水素には、グリセリン、アラビノース、フル
クトース等があげられる。これらは、単独で用いてもよ
く、あるいは複数種のものを併用してもよい。
この処理液は、上記親水性有機物と有機溶剤とを含有す
る溶液、あるいは親水性有機物と多量の水とを含有する
溶液、あるいは親水性有機物と水溶性無機塩類と多量の
水とを含有する溶液を用いることができる。
る溶液、あるいは親水性有機物と多量の水とを含有する
溶液、あるいは親水性有機物と水溶性無機塩類と多量の
水とを含有する溶液を用いることができる。
処理液を、親水性有機物と有11tl剤とを含有する溶
液で作製する場合には、親水性有機物の濃度は10重量
%以上が好ましく、防曇性能を考慮すると、30重量%
以上がさらに好ましい。また、処理液のpHは7〜12
が好ましい。処理液のPH1Jl整は、水酸化ナトリウ
ムあるいはアンモニア等の塩基を用いた水溶液や、塩酸
などの酸を用いた水溶液を添加して行うことができる。
液で作製する場合には、親水性有機物の濃度は10重量
%以上が好ましく、防曇性能を考慮すると、30重量%
以上がさらに好ましい。また、処理液のpHは7〜12
が好ましい。処理液のPH1Jl整は、水酸化ナトリウ
ムあるいはアンモニア等の塩基を用いた水溶液や、塩酸
などの酸を用いた水溶液を添加して行うことができる。
処理液のpHが低すぎると処理時間を長くする必要があ
り、処理液のpHが高くなれば、処理時間を短くするこ
とができるが、プラスチック基材の表面に形成された金
属酸化物層の溶出、剥離を起こし易くなる。適正な処理
温度および処理時間は、処理液のpHおよびプラスチッ
ク基材の耐熱性、金属酸化物層の種類によって異なる0
例えば、表面に真空蒸着法によってシリコン酸化物が形
成されたポリカーボネートのプラスチック基材を処理す
る際に、グリセリン50重量%、エタノール45重量%
、水酸化ナトリウム水溶液5重量%からなるPHIOの
処理液を使用する場合は、処理温度35〜60°Cで処
理時間は5分以上とするのが好ましい。この処理液で使
用しうる有機溶剤としては、エタノール、メタノール、
プロパツール、ブタノール、ジエチルエーテル等があげ
られる。
り、処理液のpHが高くなれば、処理時間を短くするこ
とができるが、プラスチック基材の表面に形成された金
属酸化物層の溶出、剥離を起こし易くなる。適正な処理
温度および処理時間は、処理液のpHおよびプラスチッ
ク基材の耐熱性、金属酸化物層の種類によって異なる0
例えば、表面に真空蒸着法によってシリコン酸化物が形
成されたポリカーボネートのプラスチック基材を処理す
る際に、グリセリン50重量%、エタノール45重量%
、水酸化ナトリウム水溶液5重量%からなるPHIOの
処理液を使用する場合は、処理温度35〜60°Cで処
理時間は5分以上とするのが好ましい。この処理液で使
用しうる有機溶剤としては、エタノール、メタノール、
プロパツール、ブタノール、ジエチルエーテル等があげ
られる。
処理液を、親水性有機物と多量の水とを含有する溶液で
作製する場合には、親水性有機物の濃度は、0.1重量
%以上が好ましく、処理時間を短縮するためには1重量
%以上がさらに好ましい。
作製する場合には、親水性有機物の濃度は、0.1重量
%以上が好ましく、処理時間を短縮するためには1重量
%以上がさらに好ましい。
また、この処理液のpHは7〜12が好ましい。
処理液のpH調整は水酸化ナトリウムあるいはアンモニ
ア等の塩基を用いた水溶液や、塩酸などの酸を用いた水
溶液を添加して行うことができる。
ア等の塩基を用いた水溶液や、塩酸などの酸を用いた水
溶液を添加して行うことができる。
処理液のPHが低すぎると処理時間を長くする必要があ
り、処理液のpHが高くなれば、処理時間を短くするこ
とができるが、プラスチック基材の表面に形成された金
属酸化物層の溶出、剥離を起こし易くなる。適正な処理
温度および処理時間は、上記したようにこの処理液のp
Hおよびプラスチック基材の耐熱性、金属酸化物層の種
類によって異なる。例えば、表面に真空蒸着法によって
シリコン酸化物が形成されたポリカーボネートのプラス
チック基材を処理する際に、グリセリン10重量%、水
酸化ナトリウム水溶液90重量%からなるpH10の処
理液を使用する場合には、処理温度35〜60°Cで処
理時間は5分以上とするのが好ましい。
り、処理液のpHが高くなれば、処理時間を短くするこ
とができるが、プラスチック基材の表面に形成された金
属酸化物層の溶出、剥離を起こし易くなる。適正な処理
温度および処理時間は、上記したようにこの処理液のp
Hおよびプラスチック基材の耐熱性、金属酸化物層の種
類によって異なる。例えば、表面に真空蒸着法によって
シリコン酸化物が形成されたポリカーボネートのプラス
チック基材を処理する際に、グリセリン10重量%、水
酸化ナトリウム水溶液90重量%からなるpH10の処
理液を使用する場合には、処理温度35〜60°Cで処
理時間は5分以上とするのが好ましい。
処理液を、親水性有機物と水溶性無機塩類と多量の水と
を含有する溶液で作製した場合には、親水性有機物の濃
度は、0.1重量%以上が好ましく、処理時間を短縮す
るためは1重量%以上がさらに好ましい。使用しうる水
溶性無機塩類としては、例えば、KCI 、NaC1,
LiC1,CaC1z 、MgC1z、LizSOa、
KzSOa 、CaSO4、Na2SO2,21gS0
4等のアルカリ金属およびアルカリ土類金属の塩化物お
よび硫酸塩があげられ、特にNaC1,LiC1が好ま
しく、その添加量は飽和状態に近いほど好ましい。
を含有する溶液で作製した場合には、親水性有機物の濃
度は、0.1重量%以上が好ましく、処理時間を短縮す
るためは1重量%以上がさらに好ましい。使用しうる水
溶性無機塩類としては、例えば、KCI 、NaC1,
LiC1,CaC1z 、MgC1z、LizSOa、
KzSOa 、CaSO4、Na2SO2,21gS0
4等のアルカリ金属およびアルカリ土類金属の塩化物お
よび硫酸塩があげられ、特にNaC1,LiC1が好ま
しく、その添加量は飽和状態に近いほど好ましい。
また、この処理液のpHは7〜12が好ましい。
処理液のPH調整は水酸化ナトリウムあるいはアンモニ
ア等の塩基を用いた水溶液や、塩酸などの酸を用いた水
溶液を添加して行うことができる。
ア等の塩基を用いた水溶液や、塩酸などの酸を用いた水
溶液を添加して行うことができる。
処理液のpHが低すぎると処理時間を長くする必要があ
り、処理液のpHが高くなれば、処理時間を短くするこ
とができるが、プラスチック基材の表面に形成された金
属酸化物層の溶出、剥離を起こし易くなる。適正な処理
温度および処理時間は、上記したようにこの処理液のp
Hおよびプラスチック基材の耐熱性、金属酸化物層の種
類によって異なる。例えば、表面に真空庫着法によって
シリコン酸化物が形成されたポリカーボネートのプラス
チック基材を処理する際に、グリセリン10重量%、N
aC115重量%、水酸化ナトリウム水溶液75重量%
からなるpH10の処理液を使用する場合は、処理温度
35〜60°Cで処理時間は5分以上とするのが好まし
い。
り、処理液のpHが高くなれば、処理時間を短くするこ
とができるが、プラスチック基材の表面に形成された金
属酸化物層の溶出、剥離を起こし易くなる。適正な処理
温度および処理時間は、上記したようにこの処理液のp
Hおよびプラスチック基材の耐熱性、金属酸化物層の種
類によって異なる。例えば、表面に真空庫着法によって
シリコン酸化物が形成されたポリカーボネートのプラス
チック基材を処理する際に、グリセリン10重量%、N
aC115重量%、水酸化ナトリウム水溶液75重量%
からなるpH10の処理液を使用する場合は、処理温度
35〜60°Cで処理時間は5分以上とするのが好まし
い。
なお、上記処理液の処理条件においては親水性有機物と
してグリセリンについて説明したが、グリセリン以外の
親木性有機物を含有する処理液で処理する場合も、グリ
セリンを用いた場合と同様の処理条件で行うことができ
る。
してグリセリンについて説明したが、グリセリン以外の
親木性有機物を含有する処理液で処理する場合も、グリ
セリンを用いた場合と同様の処理条件で行うことができ
る。
処理方法としては、特に限定されるものではなく、上記
に示されたプラスチック基材を処理液中に浸漬する方法
以外に、例えば1、プラスチック基材の表面に処理液を
スプレーする方法、プラスチック基材の表面に処理液の
1気を当てる方法、プラスチック基材の表面に処理液を
塗布した後80〜100%RHの高湿度下で保持する方
法等があげられる。
に示されたプラスチック基材を処理液中に浸漬する方法
以外に、例えば1、プラスチック基材の表面に処理液を
スプレーする方法、プラスチック基材の表面に処理液の
1気を当てる方法、プラスチック基材の表面に処理液を
塗布した後80〜100%RHの高湿度下で保持する方
法等があげられる。
上記のいずれかの方法で処理されたプラスチック基材は
、処理後、高温下で保持して熱処理を施すことが好まし
い。熱処理条件については、金属酸化物層の種類、プラ
スチック基材の種類、処理液の種類等に応じて適宜決定
されればよいが、湿度30%RH以下、温度50〜15
0°Cで5分〜3時間熱処理されるのが好ましい。但し
、熱処理温度については、金属酸化物層のプラスチック
基材からの剥離、金属酸化物層のクラック発生等を防ぐ
ためにプラスチック基材の熱変形温度以下であることが
望ましい。また、処理液のpHの強さが金属酸化物層の
プラスチック基材への密着性を損なう場合は、プラスチ
ック基材表面の処理液を中性の水で洗い流してから熱処
理されるのが望ましい。
、処理後、高温下で保持して熱処理を施すことが好まし
い。熱処理条件については、金属酸化物層の種類、プラ
スチック基材の種類、処理液の種類等に応じて適宜決定
されればよいが、湿度30%RH以下、温度50〜15
0°Cで5分〜3時間熱処理されるのが好ましい。但し
、熱処理温度については、金属酸化物層のプラスチック
基材からの剥離、金属酸化物層のクラック発生等を防ぐ
ためにプラスチック基材の熱変形温度以下であることが
望ましい。また、処理液のpHの強さが金属酸化物層の
プラスチック基材への密着性を損なう場合は、プラスチ
ック基材表面の処理液を中性の水で洗い流してから熱処
理されるのが望ましい。
このようにして得られた防曇プラスチングの表面は、優
れた防曇性を発現する。これは、防曇処理された防曇プ
ラスチングの表面を分析した結果、プラスチック基材表
面の金属酸化物層と親水性有機物で形成される有機物層
とが化学的に結合し、親水性の有機物層が防曇プラスチ
ック基材の表面全体に亘って均一に形成されているため
と思われる。また、有機物層は100Å以下の極めて薄
い層であるため、外力によって有機物層に傷が付くこと
もなく、かつ有機物層は低温プラズマ処理された金属酸
化物層と化学結合しているため剥離することもないため
、本発明の防曇プラスチックは、優れた表面耐擦傷性を
発現するのである。しかも、防曇プラスチックは、防曇
性の持続性も従来品に比較して飛躍的に優れている。ま
た、水溶性無機塩を添加して調整した処理液でプラスチ
ック基材を処理した場合には、金属酸化物層表面への親
水性有機物の付加量を増加させることができる。
れた防曇性を発現する。これは、防曇処理された防曇プ
ラスチングの表面を分析した結果、プラスチック基材表
面の金属酸化物層と親水性有機物で形成される有機物層
とが化学的に結合し、親水性の有機物層が防曇プラスチ
ック基材の表面全体に亘って均一に形成されているため
と思われる。また、有機物層は100Å以下の極めて薄
い層であるため、外力によって有機物層に傷が付くこと
もなく、かつ有機物層は低温プラズマ処理された金属酸
化物層と化学結合しているため剥離することもないため
、本発明の防曇プラスチックは、優れた表面耐擦傷性を
発現するのである。しかも、防曇プラスチックは、防曇
性の持続性も従来品に比較して飛躍的に優れている。ま
た、水溶性無機塩を添加して調整した処理液でプラスチ
ック基材を処理した場合には、金属酸化物層表面への親
水性有機物の付加量を増加させることができる。
(実施例)
以下に本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。
支i±]
グリセリン50重量部とエタノール45重量部と少量の
水とを混合した後、水酸化ナトリウム水溶液と水を加え
て、pH10の処理液100重量部を得た。
水とを混合した後、水酸化ナトリウム水溶液と水を加え
て、pH10の処理液100重量部を得た。
一方、プラスチック基材としてポリカーポネトを使用し
、このポリカーボネート表面に真空7着法によって2μ
m厚さのシリコン酸化物(S10□)の被膜を形成した
。次に、このようにしてシリコン酸化物層で被覆された
ポリカーボネートを高周波スパッタリング装置(13,
56M)Iz)に供給し、4 X 10−6Torrに
減圧した後、Arガスを導入してI X 10 ”To
rrとし、その状態を保ちつつ高周波電力25Wでプラ
ズマを発生させて、シリコン酸化物被膜表面を30秒間
低温プラズマ処理した。次に、低温プラズマ処理が施さ
れたシリコン酸化物層で被覆されたポリカーボネートを
、上記処理液中に浸漬し、50“Cで30分間処理を行
った後、処理液より取り出し、薫留水を用いて洗浄して
から乾燥し、防曇プラスチックを得た。
、このポリカーボネート表面に真空7着法によって2μ
m厚さのシリコン酸化物(S10□)の被膜を形成した
。次に、このようにしてシリコン酸化物層で被覆された
ポリカーボネートを高周波スパッタリング装置(13,
56M)Iz)に供給し、4 X 10−6Torrに
減圧した後、Arガスを導入してI X 10 ”To
rrとし、その状態を保ちつつ高周波電力25Wでプラ
ズマを発生させて、シリコン酸化物被膜表面を30秒間
低温プラズマ処理した。次に、低温プラズマ処理が施さ
れたシリコン酸化物層で被覆されたポリカーボネートを
、上記処理液中に浸漬し、50“Cで30分間処理を行
った後、処理液より取り出し、薫留水を用いて洗浄して
から乾燥し、防曇プラスチックを得た。
次に、この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の
評価を行った。防曇性の評価方法は、防曇プラスチック
を15°C2相対湿度40%の雰囲気中に10分以上保
った後、防曇プラスチックを40 ’C1相対湿度90
%の雰囲気中に放置し、防曇プラスチックの表面を濡ら
した後、布で拭き取る。この操作を繰り返して防曇プラ
スチックの表面が曇り始める回数で評価した。耐擦傷性
の評価は、#000スチールウールを防曇プラスチック
表面に当て、このスチールウールを設定荷重で防曇プラ
スチック表面に押し当てた状態で20回回転転せた後、
防曇プラスチックの表面に呼気を吹き付け、この呼気に
より、防曇プラスチック表面が曇らない最大荷重で示し
た。結果を第1表に示す。
評価を行った。防曇性の評価方法は、防曇プラスチック
を15°C2相対湿度40%の雰囲気中に10分以上保
った後、防曇プラスチックを40 ’C1相対湿度90
%の雰囲気中に放置し、防曇プラスチックの表面を濡ら
した後、布で拭き取る。この操作を繰り返して防曇プラ
スチックの表面が曇り始める回数で評価した。耐擦傷性
の評価は、#000スチールウールを防曇プラスチック
表面に当て、このスチールウールを設定荷重で防曇プラ
スチック表面に押し当てた状態で20回回転転せた後、
防曇プラスチックの表面に呼気を吹き付け、この呼気に
より、防曇プラスチック表面が曇らない最大荷重で示し
た。結果を第1表に示す。
支胤1
実施例1と同様にして得られた表面が親水化処理された
シリコン酸化物層被覆ポリカーボネートを、雰囲気温度
が75°Cに保持された乾燥機に供給し1時間熱処理し
て防曇プラスチックを得た。
シリコン酸化物層被覆ポリカーボネートを、雰囲気温度
が75°Cに保持された乾燥機に供給し1時間熱処理し
て防曇プラスチックを得た。
この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の評価を
実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示す。
実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示す。
支駈性主二1
第1表に示すように処理液の組成および処理条件を変え
た他は、実施例1と同様にして防曇プラスチックを得た
。この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の評価
を実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示す。
た他は、実施例1と同様にして防曇プラスチックを得た
。この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の評価
を実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示す。
支五医立二玉
第1表に示すように処理液の組成および処理条件を変え
た他は、実施例2と同様にして防曇プラスチックを得た
。この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の評価
を実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示す。
た他は、実施例2と同様にして防曇プラスチックを得た
。この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の評価
を実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示す。
支胤■ユ
ポリカーボネートの表面に厚さ0.05μmのジルコニ
ア酸化物(ZrOz)の被膜を真空蒸着法により形成し
、さらにその上に厚さ4μmのシリコン酸化物(SiO
□)の被膜を形成した。この金属酸化物層被覆ポリカー
ボネートを、実施例2と同様にして防曇プラスチックを
得た。この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の
評価を実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示
す。
ア酸化物(ZrOz)の被膜を真空蒸着法により形成し
、さらにその上に厚さ4μmのシリコン酸化物(SiO
□)の被膜を形成した。この金属酸化物層被覆ポリカー
ボネートを、実施例2と同様にして防曇プラスチックを
得た。この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の
評価を実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示
す。
L校±」
プラズマ処理を行わない他は、実施例1と同様にして防
曇プラスチックを得た。
曇プラスチックを得た。
この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の評価を
実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示す。
実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示す。
比較■1
ジエチレングリコールジアリルカーボネート樹脂表面に
防曇処理がなされた市販品の防曇性および耐擦傷性の評
価を実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示す
。
防曇処理がなされた市販品の防曇性および耐擦傷性の評
価を実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示す
。
(以下余白)
実JdL旦
グリセリン20重量部と水を混合した後、水酸化ナトリ
ウム水溶液と水を加えてPHIOの処理液100重量部
を得た。
ウム水溶液と水を加えてPHIOの処理液100重量部
を得た。
一方、プラスチック基材としてポリカーボネトを使用し
、このポリカーボネート表面に真空蒸着法によって2μ
m厚さのシリコン酸化物(Sing)の被膜を形成した
0次に、このようにしてシリコン酸化物層で被覆された
ポリカーボネートを高周波スパッタリング装置(13,
56MHz)に供給し、4 X 10−”Torrに減
圧した後、Arガスを導入してI X 10−”Tor
rとし、その状態を保ちつつ高周波電力25Wでプラズ
マを発生させて、シリコン酸化物被膜表面を30秒間低
温プラズマ処理した。次に、低温プラズマ処理が施され
たシリコン酸化物層で被覆されたポリカーボネートを、
上記処理液中に浸漬し、50°Cで30分間処理を行っ
た後、処理液より取り出し、蒸留水を用いて洗浄してか
ら乾燥し、防曇プラスチックを得た。
、このポリカーボネート表面に真空蒸着法によって2μ
m厚さのシリコン酸化物(Sing)の被膜を形成した
0次に、このようにしてシリコン酸化物層で被覆された
ポリカーボネートを高周波スパッタリング装置(13,
56MHz)に供給し、4 X 10−”Torrに減
圧した後、Arガスを導入してI X 10−”Tor
rとし、その状態を保ちつつ高周波電力25Wでプラズ
マを発生させて、シリコン酸化物被膜表面を30秒間低
温プラズマ処理した。次に、低温プラズマ処理が施され
たシリコン酸化物層で被覆されたポリカーボネートを、
上記処理液中に浸漬し、50°Cで30分間処理を行っ
た後、処理液より取り出し、蒸留水を用いて洗浄してか
ら乾燥し、防曇プラスチックを得た。
この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の評価を
実施例1と同様にして行った。結果を第2表に示す。
実施例1と同様にして行った。結果を第2表に示す。
支厳阻エニュ1
第2表に示すように処理液の組成および処理条件を変え
た他は、実施例8と同様にして防曇プラスチックを得た
。この防曇プラスチフクの防曇性および耐擦傷性の評価
を実施例1と同様にして行った。結果を第2表に示す。
た他は、実施例8と同様にして防曇プラスチックを得た
。この防曇プラスチフクの防曇性および耐擦傷性の評価
を実施例1と同様にして行った。結果を第2表に示す。
支1桝エユ
実施例8と同様にして得られた表面が親水化処理された
シリコン酸化物層被覆ポリカーボネートを、雰囲気温度
が75°Cに保持された乾燥機に供給し1時間熱処理し
て防曇プラスチックを得た。
シリコン酸化物層被覆ポリカーボネートを、雰囲気温度
が75°Cに保持された乾燥機に供給し1時間熱処理し
て防曇プラスチックを得た。
この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の評価を
実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示す。
実施例1と同様にして行った。結果を第1表に示す。
支1阻上Iニュユ
第2表に示すように処理液の組成を変えた他は、実施例
11と同様にして防曇プラスチックを得た。この防曇プ
ラスチフクの防曇性および耐擦傷性の評価を実施例1と
同様にして行った。結果を第2表に示す。
11と同様にして防曇プラスチックを得た。この防曇プ
ラスチフクの防曇性および耐擦傷性の評価を実施例1と
同様にして行った。結果を第2表に示す。
支1桝工1
ポリカーボネートの表面に厚さ0.05μmのジルコニ
ア酸化物(ZrO□)の被膜を真空蒸着法により形成し
、さらにその上に厚さ4μmのシリコン酸化物(SiO
□)の被膜を形成した。この金属酸化物層被覆ポリカー
ボネートを、実施例11と同様にして防曇プラスチック
を得た。この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性
の評価を実施例1と同様にして行った。結果を第2表に
示す。
ア酸化物(ZrO□)の被膜を真空蒸着法により形成し
、さらにその上に厚さ4μmのシリコン酸化物(SiO
□)の被膜を形成した。この金属酸化物層被覆ポリカー
ボネートを、実施例11と同様にして防曇プラスチック
を得た。この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性
の評価を実施例1と同様にして行った。結果を第2表に
示す。
を較■ユ
プラズマ処理を行わない他は、実施例8と同様にして防
曇プラスチックを得た。
曇プラスチックを得た。
この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の評価を
実施例1と同様にして行った。結果を第2表に示す。
実施例1と同様にして行った。結果を第2表に示す。
(以下余白)
第2表
支流−例ユj−
グリセリン20重量部とNaCl 15重量部と水を混
合した後、水酸化すl−IJウム水溶液と水を加えて、
pH10の処理液100重量部を得た。
合した後、水酸化すl−IJウム水溶液と水を加えて、
pH10の処理液100重量部を得た。
一方、プラスチック基材としてポリカーボネートを使用
し、このポリカーボネート表面に真空蒸着法によって2
μm厚さのシリコン酸化物(SiO□)の被膜を形成し
た。次に、このようにしてシリコン酸化物層で被覆され
たポリカーボネートを高周波スパッタリング装置(13
,56MHz)に供給し、4 X 10−”Torrに
減圧した後、Arガスを導入してI X 10 ”To
rrとし、その状態を保ちつつ高周波電力25Wでプラ
ズマを発生させて、シリコン酸化物被膜表面を30秒間
低温プラズマ処理した。次に、低温プラズマ処理が施さ
れたシリコン酸化物層で被覆されたポリカーボネートを
、上記処理液中に浸漬し、50°Cで30分間処理を行
った後、処理液より取り出し、蒸留水を用いて洗浄して
から乾燥し、防曇プラスチックを得た。
し、このポリカーボネート表面に真空蒸着法によって2
μm厚さのシリコン酸化物(SiO□)の被膜を形成し
た。次に、このようにしてシリコン酸化物層で被覆され
たポリカーボネートを高周波スパッタリング装置(13
,56MHz)に供給し、4 X 10−”Torrに
減圧した後、Arガスを導入してI X 10 ”To
rrとし、その状態を保ちつつ高周波電力25Wでプラ
ズマを発生させて、シリコン酸化物被膜表面を30秒間
低温プラズマ処理した。次に、低温プラズマ処理が施さ
れたシリコン酸化物層で被覆されたポリカーボネートを
、上記処理液中に浸漬し、50°Cで30分間処理を行
った後、処理液より取り出し、蒸留水を用いて洗浄して
から乾燥し、防曇プラスチックを得た。
この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の評価を
実施例1と同様にして行った。結果を第3表に示す。
実施例1と同様にして行った。結果を第3表に示す。
支1■上旦二エユ
第3表に示すように処理液の組成を変えた他は、実施例
15と同様にして防曇プラスチックを得た。この防曇プ
ラスチックの防暑性および耐擦傷性の評価を実施例1と
同様にして行った。結果を第3表に示す。
15と同様にして防曇プラスチックを得た。この防曇プ
ラスチックの防暑性および耐擦傷性の評価を実施例1と
同様にして行った。結果を第3表に示す。
支!±」ユ
実施例2
実施例15と同様にして得られた表面が親水化処理され
たシリコン酸化物層被覆ポリカーボネトを、雰囲気温度
が75℃に保持された乾燥機に供給し1時間熱処理して
防曇プラスチックを得た。この防曇プラスチックの防曇
性および耐擦傷性の評価を実施例1と同様にして行った
。結果を第3表に示す。
たシリコン酸化物層被覆ポリカーボネトを、雰囲気温度
が75℃に保持された乾燥機に供給し1時間熱処理して
防曇プラスチックを得た。この防曇プラスチックの防曇
性および耐擦傷性の評価を実施例1と同様にして行った
。結果を第3表に示す。
11銖上エニ11
第3表に示すように処理液の組成および処理条件を変え
た他は、実施例1Bと同様にして防曇プラスチックを得
た。この防曇プラスチックの防暑性および耐擦傷性の評
価を実施例1と同様にして行った。結果を第3表に示す
。
た他は、実施例1Bと同様にして防曇プラスチックを得
た。この防曇プラスチックの防暑性および耐擦傷性の評
価を実施例1と同様にして行った。結果を第3表に示す
。
支1阻1]
ポリカーボネートの表面に厚さ0.05μmのジルコニ
ア酸化物(ZrO□)の被膜を真空蒸着法により形成し
、さらにその上に厚さ4μmのシリコン酸化物(Sin
g)の被膜を形成した。この金属酸化物層被覆ポリカー
ボネートを、実施例18と同様にして防曇プラスチック
を得た。この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性
の評価を実施例1と同様にして行った。結果を第3表に
示す。
ア酸化物(ZrO□)の被膜を真空蒸着法により形成し
、さらにその上に厚さ4μmのシリコン酸化物(Sin
g)の被膜を形成した。この金属酸化物層被覆ポリカー
ボネートを、実施例18と同様にして防曇プラスチック
を得た。この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性
の評価を実施例1と同様にして行った。結果を第3表に
示す。
L較■1
プラズマ処理を行わない他は、実施例15と同様にして
防曇プラスチックを得た。
防曇プラスチックを得た。
この防曇プラスチックの防曇性および耐擦傷性の評価を
実施例1と同様にして行った。結果を第3表に示す。
実施例1と同様にして行った。結果を第3表に示す。
(以下余白)
第3表
(発明の効果)
このように、本発明によれば、防曇性と耐擦傷性が共に
優れた防曇プラスチックを得ることができる。したがっ
て、この防曇プラスチックを、例えば、眼鏡レンズ、ゴ
ーグル、窓ガラスなどに通用すれば、周囲の急激な温度
変化によっても曇りの生じ難い防曇透明部材を簡単に得
ることができる。
優れた防曇プラスチックを得ることができる。したがっ
て、この防曇プラスチックを、例えば、眼鏡レンズ、ゴ
ーグル、窓ガラスなどに通用すれば、周囲の急激な温度
変化によっても曇りの生じ難い防曇透明部材を簡単に得
ることができる。
Claims (1)
- 1.表面に金属酸化物層が設けられたプラスチック基材
の金属酸化物層表面を、低温プラズマ処理する工程と該
低温プラズマ処理された金属酸化物層表面を、水酸基を
一個以上有し、かつ水酸基以外の官能基を有する脂肪族
炭化水素および/または水酸基を三個以上有し、かつ水
酸基以外の官能基を有しない脂肪族炭化水素を含有する
処理液で処理する工程からなることを特徴とする防曇プ
ラスチックの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13486890A JPH0429782A (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | 防曇プラスチックの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13486890A JPH0429782A (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | 防曇プラスチックの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0429782A true JPH0429782A (ja) | 1992-01-31 |
Family
ID=15138354
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13486890A Pending JPH0429782A (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | 防曇プラスチックの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0429782A (ja) |
-
1990
- 1990-05-24 JP JP13486890A patent/JPH0429782A/ja active Pending
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