JPH04283568A - クロロスルホニルピラゾール化合物の製造法 - Google Patents
クロロスルホニルピラゾール化合物の製造法Info
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- JPH04283568A JPH04283568A JP3047156A JP4715691A JPH04283568A JP H04283568 A JPH04283568 A JP H04283568A JP 3047156 A JP3047156 A JP 3047156A JP 4715691 A JP4715691 A JP 4715691A JP H04283568 A JPH04283568 A JP H04283568A
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Landscapes
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、農、医薬等の中間体と
して有用な一般式（ＩＩ）で表されるクロロスルホニル
ピラゾール化合物の製造法、詳しくは一般式（Ｉ）で表
されるメルカプトピラゾール化合物を、第４級アンモニ
ウム塩及び／又は水溶性添加物の存在下、塩素と反応さ
せることを特徴とするクロロスルホニルピラゾール化合
物の製造法に関するものである。
して有用な一般式（ＩＩ）で表されるクロロスルホニル
ピラゾール化合物の製造法、詳しくは一般式（Ｉ）で表
されるメルカプトピラゾール化合物を、第４級アンモニ
ウム塩及び／又は水溶性添加物の存在下、塩素と反応さ
せることを特徴とするクロロスルホニルピラゾール化合
物の製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】アイ、ビー、ダグラス等のジャーナル、
オブ、アメリカン、ケミカル、ソサイヤティ（Ｊ． Ａ
ｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． ）、第６０巻、１４８６
頁、１９３８年には、チオール誘導体と塩素の反応によ
るクロロスルホニル化合物の合成法が開示されている。
オブ、アメリカン、ケミカル、ソサイヤティ（Ｊ． Ａ
ｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． ）、第６０巻、１４８６
頁、１９３８年には、チオール誘導体と塩素の反応によ
るクロロスルホニル化合物の合成法が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、アイ、ビー、
ダグラス等の方法を一般式（Ｉ）で表されるメルカプト
ピラゾール化合物に適用したところ、目的物である一般
式（ＩＩ）で表されるクロロスルホニルピラゾール化合
物の収率は８５％程度であり、しかも副生物として一般
式（ＩＩＩ）で表されるクロロピラゾール化合物が１０
％程度生成する。
ダグラス等の方法を一般式（Ｉ）で表されるメルカプト
ピラゾール化合物に適用したところ、目的物である一般
式（ＩＩ）で表されるクロロスルホニルピラゾール化合
物の収率は８５％程度であり、しかも副生物として一般
式（ＩＩＩ）で表されるクロロピラゾール化合物が１０
％程度生成する。
【０００４】
【化３】
【０００５】又、副生物である一般式（ＩＩＩ）で表さ
れるクロロピラゾール化合物は目的物である一般式（Ｉ
Ｉ）で表されるクロロスルホニルピラゾール化合物の精
製やその後の反応に悪い影響があるので、その生成を極
力減らす必要がある。
れるクロロピラゾール化合物は目的物である一般式（Ｉ
Ｉ）で表されるクロロスルホニルピラゾール化合物の精
製やその後の反応に悪い影響があるので、その生成を極
力減らす必要がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意努力検討の結果、第４級アンモニウム
塩及び／又は或る種の水溶性化合物を反応系に添加する
ことにより副生物である一般式（ＩＩＩ）で表されるク
ロロピラゾール化合物を画期的に抑制できることを見出
し本発明を完成するに至った。
を解決すべく鋭意努力検討の結果、第４級アンモニウム
塩及び／又は或る種の水溶性化合物を反応系に添加する
ことにより副生物である一般式（ＩＩＩ）で表されるク
ロロピラゾール化合物を画期的に抑制できることを見出
し本発明を完成するに至った。
【０００７】即ち、本発明は、一般式（Ｉ）
【０００８
】
】
【化４】
【０００９】〔式中、Ｘは水素原子、塩素原子を意味し
、Ｒは炭素数１〜４の低級アルキル基を意味する。〕で
表されるメルカプトピラゾール化合物を、第４級アンモ
ニウム塩及び／又は水溶性添加物の存在下、塩素と反応
させることを特徴とする一般式（ＩＩ）
、Ｒは炭素数１〜４の低級アルキル基を意味する。〕で
表されるメルカプトピラゾール化合物を、第４級アンモ
ニウム塩及び／又は水溶性添加物の存在下、塩素と反応
させることを特徴とする一般式（ＩＩ）
【００１０】
【化５】
【００１１】〔式中、Ｘ及びＲは前記に同じ。〕で表さ
れるクロロスルホニルピラゾール化合物の製造法に関す
るものである。以下、本発明を詳細に説明する。式中の
Ｒとしては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロ
ピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−
ペンチル、ｉ−ペンチル等が挙げられる。
れるクロロスルホニルピラゾール化合物の製造法に関す
るものである。以下、本発明を詳細に説明する。式中の
Ｒとしては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロ
ピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−
ペンチル、ｉ−ペンチル等が挙げられる。
【００１２】本発明の第４級アンモニウム塩としては、
テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルア
ンモニウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウ
ムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムブロマ
イド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、ト
リメチルベンジルアンモニウムブロマイド等が挙げられ
る。
テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルア
ンモニウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウ
ムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムブロマ
イド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、ト
リメチルベンジルアンモニウムブロマイド等が挙げられ
る。
【００１３】第４級アンモニウム塩の使用量としては、
通常一般式（Ｉ）のメルカプトピラゾール化合物に対し
て０．０１〜１００重量％、好ましくは０．１〜３０重
量％が良い。本発明の水溶性添加物としては、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジオキサン、ジ
メチルスルホキサイド、エタノール等が挙げられる。
通常一般式（Ｉ）のメルカプトピラゾール化合物に対し
て０．０１〜１００重量％、好ましくは０．１〜３０重
量％が良い。本発明の水溶性添加物としては、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジオキサン、ジ
メチルスルホキサイド、エタノール等が挙げられる。
【００１４】上記水溶性添加物の使用量としては、通常
一般式（Ｉ）のメルカプトピラゾール化合物に対して１
〜５００重量％、好ましくは２０〜２００重量％が良い
。塩素としては、液体塩素、塩素ガスの何れも使用する
ことができる。塩素の使用量としては、通常一般式（Ｉ
）のメルカプトピラゾール化合物に対して０．５〜１０
倍モル、好ましくは１〜５倍モルが良い。
一般式（Ｉ）のメルカプトピラゾール化合物に対して１
〜５００重量％、好ましくは２０〜２００重量％が良い
。塩素としては、液体塩素、塩素ガスの何れも使用する
ことができる。塩素の使用量としては、通常一般式（Ｉ
）のメルカプトピラゾール化合物に対して０．５〜１０
倍モル、好ましくは１〜５倍モルが良い。
【００１５】溶媒としては、塩素と反応せず一般式（Ｉ
）のメルカプトピラゾール化合物を溶解するものであれ
ば制限はないが、通常塩素化アルキル、芳香族塩素化物
等が使用される。塩素化アルキルの具体例としては、塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン等が挙げら
れる。
）のメルカプトピラゾール化合物を溶解するものであれ
ば制限はないが、通常塩素化アルキル、芳香族塩素化物
等が使用される。塩素化アルキルの具体例としては、塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン等が挙げら
れる。
【００１６】芳香族塩素化物の具体例としては、クロロ
ベンゼン、オルトジクロロベンゼン等が挙げられる。 又、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジ
オキサン、ジメチルスルホキサイド、エタノール等の水
溶性添加物も溶媒として使用することができる。
ベンゼン、オルトジクロロベンゼン等が挙げられる。 又、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジ
オキサン、ジメチルスルホキサイド、エタノール等の水
溶性添加物も溶媒として使用することができる。
【００１７】溶媒の使用量としては、通常一般式（Ｉ）
のメルカプトピラゾール化合物に対して１〜５００重量
％、好ましくは２０〜２００重量％が良い。反応温度と
しては、通常−２０℃〜８０℃が採用されるが、目的物
である一般式（ＩＩ）のクロロスルホニルピラゾール化
合物等の安定性等を考慮し、好ましくは−２０℃〜３０
℃が良い。
のメルカプトピラゾール化合物に対して１〜５００重量
％、好ましくは２０〜２００重量％が良い。反応温度と
しては、通常−２０℃〜８０℃が採用されるが、目的物
である一般式（ＩＩ）のクロロスルホニルピラゾール化
合物等の安定性等を考慮し、好ましくは−２０℃〜３０
℃が良い。
【００１８】本反応系には水が添加されるが、水の使用
量としては通常一般式（Ｉ）のメルカプトピラゾール化
合物に対して０．５〜１００重量部、好ましくは１〜２
０重量部が良い。
量としては通常一般式（Ｉ）のメルカプトピラゾール化
合物に対して０．５〜１００重量部、好ましくは１〜２
０重量部が良い。
【００１９】
【発明の効果】本発明方法に従うと、一般式（Ｉ）のメ
ルカプトピラゾール化合物から一般式（ＩＩ）のクロロ
スルホニルピラゾール化合物を高い収率で得ることがで
きるうえ、一般式（ＩＩＩ）のクロロピラゾール化合物
が副生しないため、精製工程を必要とせず工業的製造法
として好適である。
ルカプトピラゾール化合物から一般式（ＩＩ）のクロロ
スルホニルピラゾール化合物を高い収率で得ることがで
きるうえ、一般式（ＩＩＩ）のクロロピラゾール化合物
が副生しないため、精製工程を必要とせず工業的製造法
として好適である。
【００２０】
【実施例】以下、実施例を挙げ本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇ及びジメチルホルムアミド３．１ｇを反応器に仕
込み、１０℃で塩素１０．７ｇ（０．１５ｇ）を２時間
で吹き込み反応を終了させた。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇ及びジメチルホルムアミド３．１ｇを反応器に仕
込み、１０℃で塩素１０．７ｇ（０．１５ｇ）を２時間
で吹き込み反応を終了させた。
【００２１】次に、ジクロロエタン層を分離して２回水
洗し、乾燥後反応生成物を液体クロマトグラフィ（カラ
ム Ｕｎｉｓｉｌ ５Ｃ１８−２５０Ａ）で分析したと
ころ、メチル １− メチル−３− クロロ−５− ク
ロロスルホニルピラゾール−４− カルボキシレート（
ＣＰＳＣＣｌ）を収率９６％で得た。又、メチル １−
メチル−３，５− ジクロロピラゾール−４− カル
ボキシレート（ＣＰＣｌ）の生成は１．５％であった。 実施例２〜５ ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）の量を変化させた以外
は、実施例１と同様に反応及び操作を行った。結果を第
１表に示す。
洗し、乾燥後反応生成物を液体クロマトグラフィ（カラ
ム Ｕｎｉｓｉｌ ５Ｃ１８−２５０Ａ）で分析したと
ころ、メチル １− メチル−３− クロロ−５− ク
ロロスルホニルピラゾール−４− カルボキシレート（
ＣＰＳＣＣｌ）を収率９６％で得た。又、メチル １−
メチル−３，５− ジクロロピラゾール−４− カル
ボキシレート（ＣＰＣｌ）の生成は１．５％であった。 実施例２〜５ ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）の量を変化させた以外
は、実施例１と同様に反応及び操作を行った。結果を第
１表に示す。
【００２２】
【表１】
第１表 ─────────
─────────────────────
ＤＭＦ／ＣＰＳＨ（％）
ＣＰＳＣｌ収率（％） ＣＰＣｌ収率（％
） ──────────────────
──────────── 実施例２
５０ ９５．４
２．０ 実施例３
７０ ９５．５
２．４ 実施例
４ １００ ９５．６
１．０ 実施例
５ １５０ ９４．７
１．５ ─────
─────────────────────────
実施例６ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇ及びジメチルアセトアマイド１０．３ｇを反応器
に仕込み、１０℃で塩素１０．７ｇ（０．１５ｇ）を２
時間で吹き込み反応を終了させた。
第１表 ─────────
─────────────────────
ＤＭＦ／ＣＰＳＨ（％）
ＣＰＳＣｌ収率（％） ＣＰＣｌ収率（％
） ──────────────────
──────────── 実施例２
５０ ９５．４
２．０ 実施例３
７０ ９５．５
２．４ 実施例
４ １００ ９５．６
１．０ 実施例
５ １５０ ９４．７
１．５ ─────
─────────────────────────
実施例６ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇ及びジメチルアセトアマイド１０．３ｇを反応器
に仕込み、１０℃で塩素１０．７ｇ（０．１５ｇ）を２
時間で吹き込み反応を終了させた。
【００２３】次に、ジクロロエタン層を分離して２回水
洗し、乾燥後反応生成物を実施例１と同様にして液体ク
ロマトグラフィで分析したところ、メチル １− メチ
ル−３− クロロ−５− クロロスルホニルピラゾール
−４− カルボキシレート（ＣＰＳＣｌ） を収率９６
．５％で得た。又、メチル １− メチル−３，５−
ジクロロピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＣ
ｌ）の生成は１．３％であった。 実施例７ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇ及びジオキサン１０．３ｇを反応器に仕込み、１
０℃で塩素１０．７ｇ（０．１５ｇ）を２時間で吹き込
み反応を終了させた。
洗し、乾燥後反応生成物を実施例１と同様にして液体ク
ロマトグラフィで分析したところ、メチル １− メチ
ル−３− クロロ−５− クロロスルホニルピラゾール
−４− カルボキシレート（ＣＰＳＣｌ） を収率９６
．５％で得た。又、メチル １− メチル−３，５−
ジクロロピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＣ
ｌ）の生成は１．３％であった。 実施例７ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇ及びジオキサン１０．３ｇを反応器に仕込み、１
０℃で塩素１０．７ｇ（０．１５ｇ）を２時間で吹き込
み反応を終了させた。
【００２４】次に、ジクロロエタン層を分離して２回水
洗し、乾燥後反応生成物を実施例１と同様にして液体ク
ロマトグラフィで分析したところ、メチル １− メチ
ル−３− クロロ−５− クロロスルホニルピラゾール
−４− カルボキシレート（ＣＰＳＣｌ） を収率９５
．９％で得た。又、メチル １− メチル−３，５−
ジクロロピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＣ
ｌ）の生成は３．１％であった。 実施例８ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇ及びテトラブチルアンモニウムブロマイド（ＴＢ
ＡＢ）０．０５ｇを反応器に仕込み、１０℃で塩素１０
．７ｇ（０．１５ｇ）を２時間で吹き込み反応を終了さ
せた。
洗し、乾燥後反応生成物を実施例１と同様にして液体ク
ロマトグラフィで分析したところ、メチル １− メチ
ル−３− クロロ−５− クロロスルホニルピラゾール
−４− カルボキシレート（ＣＰＳＣｌ） を収率９５
．９％で得た。又、メチル １− メチル−３，５−
ジクロロピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＣ
ｌ）の生成は３．１％であった。 実施例８ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇ及びテトラブチルアンモニウムブロマイド（ＴＢ
ＡＢ）０．０５ｇを反応器に仕込み、１０℃で塩素１０
．７ｇ（０．１５ｇ）を２時間で吹き込み反応を終了さ
せた。
【００２５】次に、ジクロロエタン層を分離して２回水
洗し、乾燥後反応生成物を実施例１と同様にして液体ク
ロマトグラフィで分析したところ、メチル １− メチ
ル−３− クロロ−５− クロロスルホニルピラゾール
−４− カルボキシレート（ＣＰＳＣｌ） を収率９６
．３％で得た。又、メチル １− メチル−３，５−
ジクロロピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＣ
ｌ）の生成は１．８％であった。 実施例９〜１１ テトラブチルアンモニウムブロマイドの量を変化させた
以外は、実施例８と同様に反応及び操作を行った。結果
を第２表に示す。
洗し、乾燥後反応生成物を実施例１と同様にして液体ク
ロマトグラフィで分析したところ、メチル １− メチ
ル−３− クロロ−５− クロロスルホニルピラゾール
−４− カルボキシレート（ＣＰＳＣｌ） を収率９６
．３％で得た。又、メチル １− メチル−３，５−
ジクロロピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＣ
ｌ）の生成は１．８％であった。 実施例９〜１１ テトラブチルアンモニウムブロマイドの量を変化させた
以外は、実施例８と同様に反応及び操作を行った。結果
を第２表に示す。
【００２６】
【表２】
第２表 ─────────
─────────────────────
ＴＢＡＢ／ＣＰＳＨ（％）
ＣＰＳＣｌ収率（％） ＣＰＣｌ収率（％
） ──────────────────
──────────── 実施例９
２ ９５．６
０．８ 実施例
１０ ５ ９６．０
１．５ 実施
例１１ １０ ９７．２
０．２ ────
─────────────────────────
──実施例１２ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇ及びトリオクチルメチルアンモニウムクロライド
（ＴＯＭＡ）０．０５ｇを反応器に仕込み、１０℃で塩
素１０．７ｇ（０．１５ｇ）を２時間で吹き込み反応を
終了させた。
第２表 ─────────
─────────────────────
ＴＢＡＢ／ＣＰＳＨ（％）
ＣＰＳＣｌ収率（％） ＣＰＣｌ収率（％
） ──────────────────
──────────── 実施例９
２ ９５．６
０．８ 実施例
１０ ５ ９６．０
１．５ 実施
例１１ １０ ９７．２
０．２ ────
─────────────────────────
──実施例１２ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇ及びトリオクチルメチルアンモニウムクロライド
（ＴＯＭＡ）０．０５ｇを反応器に仕込み、１０℃で塩
素１０．７ｇ（０．１５ｇ）を２時間で吹き込み反応を
終了させた。
【００２７】次に、ジクロロエタン層を分離して２回水
洗し、乾燥後反応生成物を実施例１と同様にして液体ク
ロマトグラフィで分析したところ、メチル １− メチ
ル−３− クロロ−５− クロロスルホニルピラゾール
−４− カルボキシレート（ＣＰＳＣｌ） を収率９４
．５％で得た。又、メチル １− メチル−３，５−
ジクロロピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＣ
ｌの生成は１．５％であった。 実施例１３〜１４ トリオクチルメチルアンモニウムクロライドの量を変化
させた以外は、実施例１２と同様に反応及び操作を行っ
た。結果を第３表に示す。
洗し、乾燥後反応生成物を実施例１と同様にして液体ク
ロマトグラフィで分析したところ、メチル １− メチ
ル−３− クロロ−５− クロロスルホニルピラゾール
−４− カルボキシレート（ＣＰＳＣｌ） を収率９４
．５％で得た。又、メチル １− メチル−３，５−
ジクロロピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＣ
ｌの生成は１．５％であった。 実施例１３〜１４ トリオクチルメチルアンモニウムクロライドの量を変化
させた以外は、実施例１２と同様に反応及び操作を行っ
た。結果を第３表に示す。
【００２８】
【表３】
第３表 ─────────
─────────────────────
ＴＯＭＡ／ＣＰＳＨ（％）
ＣＰＳＣｌ収率（％） ＣＰＳＣｌ収率（％
） ──────────────────
──────────── 実施例１３
２ ９６．８
０．３ 実施例１
４ １０ ９６．８
０．２ ──────
────────────────────────実
施例１５ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇ及びトリメチルベンジルアンモニウムクロライド
１．０３ｇを反応器に仕込み、１０℃で塩素１０．７ｇ
（０．１５ｇ）を２時間で吹き込み反応を終了させた。
第３表 ─────────
─────────────────────
ＴＯＭＡ／ＣＰＳＨ（％）
ＣＰＳＣｌ収率（％） ＣＰＳＣｌ収率（％
） ──────────────────
──────────── 実施例１３
２ ９６．８
０．３ 実施例１
４ １０ ９６．８
０．２ ──────
────────────────────────実
施例１５ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇ及びトリメチルベンジルアンモニウムクロライド
１．０３ｇを反応器に仕込み、１０℃で塩素１０．７ｇ
（０．１５ｇ）を２時間で吹き込み反応を終了させた。
【００２９】次に、ジクロロエタン層を分離して２回水
洗し、乾燥後反応生成物を実施例１と同様にして液体ク
ロマトグラフィで分析したところ、メチル １− メチ
ル−３− クロロ−５− クロロスルホニルピラゾール
−４− カルボキシレート（ＣＰＳＣｌ） を収率９６
．５％で得た。又、メチル １− メチル−３，５−
ジクロロピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＣ
ｌ）の生成は１．５％であった。 実施例１６ エチル １− メチル−５− メルカプトピラゾール−
４− カルボキシレート８．６ｇ（０．０５モル）、ジ
クロロエタン５０ｇ、水２０ｇ及びテトラブチルアンモ
ニウムブロマイド０．５ｇを反応器に仕込み、１０℃で
塩素１０．７ｇ（０．１５ｇ）を２時間で吹き込み反応
を終了させた。
洗し、乾燥後反応生成物を実施例１と同様にして液体ク
ロマトグラフィで分析したところ、メチル １− メチ
ル−３− クロロ−５− クロロスルホニルピラゾール
−４− カルボキシレート（ＣＰＳＣｌ） を収率９６
．５％で得た。又、メチル １− メチル−３，５−
ジクロロピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＣ
ｌ）の生成は１．５％であった。 実施例１６ エチル １− メチル−５− メルカプトピラゾール−
４− カルボキシレート８．６ｇ（０．０５モル）、ジ
クロロエタン５０ｇ、水２０ｇ及びテトラブチルアンモ
ニウムブロマイド０．５ｇを反応器に仕込み、１０℃で
塩素１０．７ｇ（０．１５ｇ）を２時間で吹き込み反応
を終了させた。
【００３０】次に、ジクロロエタン層を分離して２回水
洗し、乾燥後反応生成物を液体クロマトグラフィ（カラ
ム Ｕｎｉｓｉｌ ５Ｃ１８−２５０Ａ）で分析したと
ころ、エチル １− メチル−５− クロロスルホニル
ピラゾール−４− カルボキシレートを収率９６％で得
た。又、エチル １− メチル−５− クロロピラゾー
ル−４− カルボキシレートの生成は１．５％であった
。 比較例１ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇを反応器に仕込み、１０℃で塩素１０．７ｇ（０
．１５ｇ）を２時間で吹き込み反応を終了させた。
洗し、乾燥後反応生成物を液体クロマトグラフィ（カラ
ム Ｕｎｉｓｉｌ ５Ｃ１８−２５０Ａ）で分析したと
ころ、エチル １− メチル−５− クロロスルホニル
ピラゾール−４− カルボキシレートを収率９６％で得
た。又、エチル １− メチル−５− クロロピラゾー
ル−４− カルボキシレートの生成は１．５％であった
。 比較例１ メチル １− メチル−３− クロロ−５− メルカプ
トピラゾール−４− カルボキシレート（ＣＰＳＨ）１
０．３ｇ（０．０５モル）、ジクロロエタン５０ｇ、水
２０ｇを反応器に仕込み、１０℃で塩素１０．７ｇ（０
．１５ｇ）を２時間で吹き込み反応を終了させた。
【００３１】次に、ジクロロエタン層を分離して２回水
洗し、乾燥後反応生成物を液体クロマトグラフィで分析
したところ、メチル １− メチル−３−クロロ−５−
クロロスルホニルピラゾール−４− カルボキシレー
ト（ＣＰＳＣｌ） を収率８７．１％で得た。又、メチ
ル １− メチル−３，５− ジクロロピラゾール−４
− カルボキシレート（ＣＰＣｌ）の生成は１１．３％
であった。
洗し、乾燥後反応生成物を液体クロマトグラフィで分析
したところ、メチル １− メチル−３−クロロ−５−
クロロスルホニルピラゾール−４− カルボキシレー
ト（ＣＰＳＣｌ） を収率８７．１％で得た。又、メチ
ル １− メチル−３，５− ジクロロピラゾール−４
− カルボキシレート（ＣＰＣｌ）の生成は１１．３％
であった。
Claims (5)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｘは水素原子、塩素原子を意味し、Ｒは炭素数
１〜４の低級アルキル基を意味する。〕で表されるメル
カプトピラゾール化合物を、第４級アンモニウム塩及び
／又は水溶性添加物の存在下、塩素と反応させることを
特徴とする一般式（ＩＩ） 【化２】 〔式中、Ｘ及びＲは前記に同じ。〕で表されるクロロス
ルホニルピラゾール化合物の製造法。 - 【請求項２】 第４級アンモニウム塩がテトラブチル
アンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブ
ロマイド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド
、トリオクチルメチルアンモニウムブロマイドから選ば
れる請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】 水溶性添加物がジメチルホルムアミド
、ジメチルアセトアミド、ジオキサンから選ばれる請求
項１記載の製造法。 - 【請求項４】 一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）にお
いて、Ｘが塩素原子、Ｒがメチル基である請求項１記載
の製造法。 - 【請求項５】 一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）にお
いて、Ｘが塩素原子、Ｒがエチル基である請求項１記載
の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3047156A JP3048001B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | クロロスルホニルピラゾール化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3047156A JP3048001B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | クロロスルホニルピラゾール化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04283568A true JPH04283568A (ja) | 1992-10-08 |
| JP3048001B2 JP3048001B2 (ja) | 2000-06-05 |
Family
ID=12767226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3047156A Expired - Lifetime JP3048001B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | クロロスルホニルピラゾール化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3048001B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999000392A1 (en) * | 1997-06-26 | 1999-01-07 | Dow Agrosciences Llc | Process for heterocyclic sulfonyl chloride compounds |
| CN115521259A (zh) * | 2022-10-28 | 2022-12-27 | 宁夏万博生物科技有限公司 | 一种氯吡嘧磺胺的制备方法 |
-
1991
- 1991-03-13 JP JP3047156A patent/JP3048001B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999000392A1 (en) * | 1997-06-26 | 1999-01-07 | Dow Agrosciences Llc | Process for heterocyclic sulfonyl chloride compounds |
| US6162915A (en) * | 1997-06-26 | 2000-12-19 | Dow Agrosciences Llc | Process for heterocyclic sulfonyl chloride compounds |
| CN115521259A (zh) * | 2022-10-28 | 2022-12-27 | 宁夏万博生物科技有限公司 | 一种氯吡嘧磺胺的制备方法 |
| CN115521259B (zh) * | 2022-10-28 | 2024-06-07 | 宁夏万博生物科技有限公司 | 一种氯吡嘧磺胺的制备方法 |
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|---|---|
| JP3048001B2 (ja) | 2000-06-05 |
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