JPH0428251B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］ 本発明はヒドロキシル基含有アクリレートまた
はメタクリレート（以下、ヒドロキシル基含有
（メタ）アクリレートと略記する。）に関する。更
に詳しくは、分子中にヒドロキシル基と少なくと
も１個のアリル基を含有する新規な（メタ）アク
リレートに関するものである。 ［従来の技術］ ヒドロキシエチルアクリレートまたはヒドロキ
シエチルメタクリレートのようなヒドロキシアク
リレートまたはヒドロキシメタクリレート（以
下、ヒドロキシ（メタ）アクリレートと略記す
る。）にエチレンオキシドまたはプロピレンオキ
シドを付加させたポリアルキレングリコールモノ
（メタ）アクリレートは公知である。また、ヒド
ロキシ（メタ）アクリレートにε−カプロラクト
ンを付加させたε−カプロラクトン変性ヒドロキ
シ（メタ）アクリレートも公知である。さらに、
ヒドロキシ（メタ）アクリレートにブチルグリシ
ジルエーテルやフエニルグリシジルエーテルを付
加させたヒドロキシル基含有（メタ）アクリレー
トも知られている。これら公知のヒドロキシル基
含有（メタ）アクリレートは単独重合、あるいは
他のビニルモノマーと共重合させることにより塗
料や繊維改質材等に使用されたり、また、イソシ
アネート、エポキシ化合物、酸無水物等と反応さ
せることにより種々の用途に使用されている。 ［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、これらはすべてヒドロキシル基
と（メタ）アクリロイル基の反応性を利用してい
るものである。従つて、これら公知のヒドロキシ
ル基含有（メタ）アクリレートの用途は自ら限定
されたものとなつており、そのため新規な構造を
有するビニルモノマーの開発が望まれているのが
現状である。 ［問題点を解決するための手段および作用］ 本発明者等は、これらの現状について鋭意検討
の結果、新規な構造を有するヒドロキシル基含有
（メタ）アクリレートに到達したものである。こ
れらヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートは
分子中にヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル
基とアリル基の三種類の反応性基を有するので、
単独重合もしくは他のビニルモノマーと共重合さ
せて末端ヒドロキシル基を有する（共）重合体と
したり、あるいは末端ヒドロキシル基をイソシア
ネート基、エポキシ基またはカルボキシル基等と
反応させたのち、他のビニルモノマーと共重合さ
せたり、あるいはアリル基をチオール類と反応さ
せる等により、塗料、接着剤、繊維改質材、放射
線硬化型樹脂等の分野において広い用途を有する
ものである。したがつて、本発明の目的は種々の
用途に有効に応用できる特定の構造を有する新規
なヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを提
供することにある。 本発明は、一般式 ［ただし式中、Ｒは水素原子またはメチル基、Ｚ
はメチレン基またはイソプロピレン基、Ａは下記
の化学式（）で示される２価の有機基、Ｂは下
記の化学式（）〜（）で示される群からなる
２価の有機基のいずれかひとつ、１は１〜20の整
数、ｍは０または１〜20の整数を表わし、しかも
Ａ、Ｂで示される基の配列は任意である。］ (A) (B) −CH₂CH₂O− ……（） −C₄H₈O− ……（） で表されるヒドロキシル基含有（メタ）アクリレ
ートに関するものである。 本発明の一般式（）で表されるヒドロキシル
基含有（メタ）アクリレートの製造方法として
は、例えば一般式 （ただし式中、Ｒ、Ｚは前と同じ意味である。） で表されるヒドロキシ（メタ）アクリレート(a)の
ヒドロキシル基に、アクリルグリシジルエーテル
および必要によりエチレンオキシド、プロピレン
オキシト、ε−カプロラクトン、テトラヒドロフ
ランのいずれかを付加反応させる方法が挙げられ
る。このような製造方法を採用する場合には、触
媒の存在下に反応することが望ましい。触媒とし
ては、例えば有機アミン類等の塩基性触媒；硫酸
や塩酸等のプロトン酸；三フツ化ホウ素、三フツ
化ホウ素エーテラート、四塩化スズ、五酸化アン
チモン等のルイス酸触媒；タングストリン酸、タ
ングストケイ酸、タングストホウ酸、モリブドリ
ン酸、モリブドケイ酸等のヘテロポリ酸もしくは
その塩からなる触媒が挙げられる。中でもヘテロ
ポリ酸は、低い反応温度においても高い触媒活性
を示すことから比較的低い温度で反応を実施する
ことができ、そのために原料および反応生成物の
ビニル基による熱重合の危険を避けることがで
き、更に環状化合物の単独重合体やジエステル等
の副生物が少なく、しかも製品の着色のない高純
度のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート
（）を与えるので好ましい。 一般式(a)で表されるヒドロキシ（メタ）アクリ
レートの具体例としては、ヒドロキシエチルアク
リレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロ
ピルメタクリレートが挙げられる。これらは単独
でも、あるいは混合物としても用いられる。前記
ヒドロキシ（メタ）アクリレート(a)のアリルグリ
シジルエーテルを付加反応させることによつて一
般式（）におけるＡが導入され、更に必要に応
じてエチレンオキシド、プロピレンオキシド、ε
−カプロラクトン、テトラヒドロフランのいずれ
か一つを付加反応させることによつて一般式
（）におけるＢが導入されるのである［以下、
エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ε−カ
プロラクトンおよびテトラヒドロフランの４種の
化合物を環状化合物(b)とする］。 該ヒドロキシ（メタ）アクリレート(a)へのアリ
ルグリシジルエーテルおよび要すれば環状化合物
(b)の付加反応において、原料であるヒドロキシ
（メタ）アクリレート(a)のヒドロキシル基へのア
リルグリシジルエーテルや環状化合物(b)の付加反
応速度と、これら化合物の付加されたヒドロキシ
（メタ）アクリレートのヒドロキシル基にアリル
グリシジルエーテルや環状化合物(b)の付加反応速
度とがほとんど等しい条件の場合には、得られる
反応生成物の付加数分布は統計的分布を示し、原
料のヒドロキシ（メタ）アクリレート(a)が反応生
成物中に一部残存する。また、付加数の統計的分
布による取得の困難さ、あるいはヒドロキシル基
の一分子中に占める割合の減少による有用性の低
下を考慮すれば、アリルグリシジルエーテルおよ
び環状化合物(b)の付加数の上限は、ヒドロキシ
（メタ）アクリレート(a)１モル当たり40モルが好
ましい。 未反応の原料ヒドロキシ（メタ）アクリレート
(a)が残存すると不都合な場合には、蒸留あるいは
抽出により生成物から除去することができるが、
未反応のヒドロキシ（メタ）アクリレート(a)を分
離除去せず、生成物であるヒドロキシル基含有
（メタ）アクリレート（）との混合物の形で各
種用途に使用することもできる。 本発明におけるヒドロキシル基含有（メタ）ア
クリレートには、必要に応じて加えられる環状化
合物(b)付加によつて得られる共付加生成物が含ま
れるが、これは反応生成物の末端ヒドロキシル基
のイソシアネートやエポキシ化合物等との反応性
を高めるために、末端ヒドロキシル基を二級アル
コールの形から一級アルコールの形に変性したも
のである。このように本発明のヒドロキシル基含
有（メタ）アクリレート（）においては、共付
加変性体とすることにより末端ヒドロキシル基の
反応性を大きくすることが可能となる。 該ヒドロキシ（メタ）アクリレートとアリルグ
リシジルエーテルとの反応、あるいは必要に応じ
て加えられる環状化合物(b)との反応は−10〜120
℃、特に10〜100℃の範囲で行うことが好ましい。
反応温度が高いと原料であるヒドロキシ（メタ）
アクリレートおよび反応生成物であるヒドロキシ
ル基含有（メタ）アクリレートのビニル基の重合
反応が起こり易くなる。反応温度があまりにも低
いと反応速度が小さくなる。反応は必ずしも一定
温度で行う必要はなく、反応の前半と後半の反応
温度を変えることもできる。 また、原料並びに反応生成物のビニル基の重合
を避けるために重合防止剤の存在下に反応を行う
のが好ましい。ヒドロキシ（メタ）アクリレート
(a)として市販のヒドロキシエチルアクリレートま
たはメタクリレート等を使用する時はこれらエス
テル中に既に重合防止剤が添加されているが、反
応時に改めて重合防止剤を添加してもよい。重合
防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロ
キノンモノメチルエーテル、ｐ−ベンゾキノン、
メチルハイドロキノン、ｔ−ブチルハイドロキノ
ン、ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、ｔ−ブチル
カテコール、フエノチアジン、Ｎ，N′−ジ−２
−ナフチル−ｐ−フエニレンジアミン、４，６−
ジニトロ−ｏ−クレゾール、Ｎ−ニトロソジフエ
ニルアミン、α−ナフトール、銅塩等が挙げられ
る。その使用量は通常、反応原料に対して0.005
〜１重量％である。 反応圧力は特に制限は無く、常圧下またはやや
加圧下で行うことが好ましい。反応時間は使用す
る触媒の種類、添加量および反応温度等による
が、一般には１〜24時間である。 反応原料の添加方法は特に制限は無く、原料の
種類、反応温度、ヒドロキシ（メタ）アクリレー
ト(a)とアリルグリシジルエーテルや環状化合物(b)
とのモル比は、反応装置の加熱または冷却能力等
に応じて任意に選ぶことができる。即ち、反応の
開始時に原料、触媒、溶媒、重合防止剤を混合し
ておく方法でも、あるいは原料の１種または２種
以上を添加しながら反応する方法でも良い。例え
ば環状化合物(b)のうち、エチレンオキシド、プロ
ピレンオキシド、テトラヒドロフランのように、
反応時の発熱量が大きいものを使用する場合に
は、原料を徐々に添加しながら反応を行う方法が
好ましい。一方ε−カプロラクトンのように反応
時の発熱量が小さいものを使用する場合には、最
初から原料を全量混合して反応を開始する方法が
好ましい。反応方法は回分式でも、あるいは連続
式でも行うことができる。一般に反応は雰囲気ガ
スを吹込みながら行うことができるが、これらの
ガスとしてチツ素、空気、あるいはチツ素ガスで
希釈した空気等が使用される。 反応は無溶媒で行うことができるが。更に溶媒
中で行うこともできる。このような溶媒の具体例
としてメチルエチルケトンのようなケトン類、ジ
プロピルエーテルのようなエーテル類、ベンゼ
ン、トルエン、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプ
タンのような炭化水素類が挙げられる。 反応生成物の精製法として種々の方法が使用で
きる。例えば反応精製物を酸化マグネシウム、酸
化アルミニウム、酸化ケイ素、水酸化マグネシウ
ム、ケイ酸マグネシウム、水酸化アルミナマグネ
シウムのような吸着材と接触させたり、あるいは
反応生成物をアルカリ水溶液で水洗、脱水するこ
とにより精製することもできる。なおアルカリ洗
浄の場合には、水溶性の生成物の損失を少なくす
るため、反応生成物をヘキサンやベンゼンのよう
な炭化水素溶液としたのち、アルカリ洗浄するこ
とが望ましい。水洗後、蒸留等で溶媒を除去すれ
ば純度の高い製品が得られる。 前記一般式（）で表わされる本発明のヒドロ
キシル基含有（メタ）アクリレートの具体例を以
下に示す。なおここでＲは水素原子またはメチル
基を表わし、ｄおよびｅは１〜20の整数を表わ
し、ｄおよびｅで示されるそれぞれの２価の有機
基は任意の配列順序で結合するものとする。 なお公知のように、環状化合物、例えば

【式】のような三員環化合物の開環反応に おいては、二種類の開環反応が起こり、これら反
応の割合は環状化合物の種類、反応条件、触媒の
種類により変化する。 例えば、アルコール（ROH）と

【式】 との反応の場合には、

【式】と

【式】の 二種類の反応が起こる。従つて、ｎモルの付加反
応の場合には、 （ここでｆ＋ｇ＝ｎ） なる反応生成物が生成するが、本発明においては なる表記ですべてを代表するものとする。 具体例 １ ヒドロキシ（メタ）アクリレート(a)とアリルグ
リシジルエーテルのみとの付加生成物。 具体例 ２ ヒドロキシ（メタ）アクリレート(a)とアリルグ
リシジルエーテルとエチレンオキシドとの共付加
生成物。 具体例 ３ ヒドロキシ（メタ）アクリレート(a)とアリルグ
リシジルエーテルとプロピレンオキシドとの共付
加生成物。 具体例 ４ ヒドロキシ（メタ）アクリレート(a)とアリルグ
リシジルエーテルとε−カプロラクトンとの共付
加生成物。 具体例 ５ ヒドロキシ（メタ）アクリレート(a)とアリルグ
リシジルエーテルとテトラヒドロフランとの共付
加生成物。 これらの具体例は、いずれも本発明に係るヒド
ロキシル基（メタ）アクリレート（）の技術的
範囲に含まれるものである。 ［発明の効果］ 本発明の新規な構造を有するヒドロキシル基含
（メタ）アクリレートは、分子中にヒドロキシル
基と（メタ）アクリロイル基とアリル基の三種類
の反応性基を有するので、これら三種類の官能基
を任意に利用して広い用途に利用することができ
る。また、前記化学式から理解できる様にヒドロ
キシル基とエステル基の間にエーテル結合が存在
するものであり、これによつて分子鎖にフレキシ
ビリテイが出ると共に各官能基間に距離的余裕が
生じるので反応性が高まり、各官能基の利用効率
も向上する。 例えば（メタ）アクリロイル基を重合させてヒ
ドロキシル基とアリル基を有する（共）重合体と
することができる。またヒドロキシル基をイソシ
アネート基やエポキシ基等の反応性基を有する化
合物と反応させることにより（メタ）アクリロイ
ル基とアリル基を有するビニル化合物とすること
ができ、これらは単独重合体にしたり、あるいは
他のビニルモノマーと共重合させることもでき
る。さらに、アリル基をチオール類のようなアリ
ル基との反応性を有する化合物と反応させること
ができる。 従つて本発明の新規な構造を有するヒドロキシ
ル基含有（メタ）アクリレートは、分子中に有す
る三種類の反応性基の反応を利用することによ
り、塗料、接着剤、インキ、繊維改質材、放射線
硬化型樹脂、封止剤、表面改質材等の広い用途に
利用できるものである。 ［実施例］ 次に本発明を実施例により説明するが、本発明
はこれらの例によつて限定されるものではない。
なお、例中、アリルグリシジルエーテルや環状化
合物(b)の反応率の測定はガスクロマトグラフイー
で行つた。 また、反応生成物の構造はIR、Ｈ−NMR、¹³C
−NMRおよび水酸基価により確認した。また例
中の部は重量部である。 実施例 １ 温度計、撹拌機、滴下ロート、ガス導入管およ
びマノメーターを備えた反応容器に、ヒドロキシ
（メタ）アクリレート(a)として２−ヒドロキシエ
チルアクリレート139部（1.2モル）、重合防止剤
としてハイドロキノン0.3部、触媒としてタング
ストリン酸2.7部を仕込み、酸素濃度３％のチツ
素・酸素混合ガスを吹込みながら撹拌下にアリル
グリシジルエーテル410部（3.6モル）を４時間を
要して滴下した。なお、アリルグリシジルエーテ
ルの滴下中、反応容器を冷却し内温を30〜40℃に
保つて熟成し、反応を完了した。アリルグリシジ
ルエーテルの反応率を測定すると99.8％であつ
た。つぎに、吸着剤である粉末ケイ素マグネシウ
ム11部を添加し、40℃で30分間撹拌したのち加圧
濾過して精製を行い、水酸基価121、酸価0.09、
色数（APHA）10の無色透明液体の反応生成物
539部（収率98.1％）を得た。反応生成物中のジ
エステル含有率は0.11％であり、グリコールは検
出されなかつた。水酸基価およびNMRにより分
析した結果、アリルグリシジルエーテルの平均付
加数は３であり、下記の構造のヒドロキシル基含
有アクリレートであることがわかつた。 尚、赤外吸収スペクトルは第１図、Ｈ−NMR
スペクトルは第２図、¹³C−NMRスペクトルは第
３図に示す。 実施例 ２ 実施例１と同様の反応容器に、ヒドロキシ（メ
タ）アクリレートとして２−ヒドロキシエチルア
クリレート174部（1.5モル）、重合防止剤として
ハイドロキノンモノメチルエーテル0.26部、触媒
としてタングストリン酸2.6部を仕込み、内温を
30〜40℃に保ちながら、アリルグリシジルエーテ
ル171部（1.5モル）を１時間で滴下した。滴下終
了後、更に1.5時間、40℃に保つて熟成した。 アリルグリシジルエーテルの反応率は99.8％で
あつた。つぎに、プロピレンオキシド174部（3.0
モル）を30〜40℃で2.5時間を要して滴下したの
ち、更に２時間、40℃に保つて熟成し、反応を完
了した。プロピレンオキシドの反応率は99.6％で
あつた。粉末ケイ酸マグネシウム11部を添加した
のち加圧濾過して精製し、無色透明液体の反応生
成物511部（収率98.5％）を得た。得られた反応
生成物は、水酸基価159、酸価0.13、色数
（APHA）30、ジエステル含有率0.12％でグリコ
ールは検出されなかつた。水酸基価とNMRによ
り分析した結果、アリルグリシジルエーテルおよ
びプロピレンオキシドの平均付加数は３であり、
下記構造のヒドロキシル基含有アクリレートであ
ることがわかつた。 尚、赤外吸収スペクトルは第４図、Ｈ−NMR
スペクトルは第５図、¹³C−NMRスペクトルは第
６図に示す。 実施例 ３ 実施例１と同様の反応容器に、２−ヒドロキシ
エチルアクリレート116部（１モル）、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル0.23部、タングストリン
酸2.3部を仕込み、30〜40℃にて、228部（２モ
ル）のアリルグリシジルエーテルと114部（１モ
ル）のε−カプロラクトンとの混合物を３時間で
滴下したのち、40℃で２時間保持して、反応を完
了した。アリルグリシジルエーテルおよびε−カ
プロラクトンの反応率はそれぞれ99.8％、98.6％
であつた。ケイ酸マグネシウム13.8部を添加した
のち加圧濾過して精製し、水酸基価121、酸価
0.09、色数（APHA）30の反応生成物448部（収
率97.8％）が得られた。反応生成物中のジエステ
ル含有率は0.11％であり、グリコールは検出され
なかつた。水酸基価およびNMRにより分析した
結果、アリルグリシジルエーテルとε−カプロラ
クトンの平均付加数は３であり、下記構造のヒド
ロキシル基含有アクリレートであることがわかつ
た。 実施例 ４ 実施例１と同様の反応容器に、２−ヒドロキシ
エチルアクリレート29部（0.25モル）、テトラヒ
ドロフラン90部（1.25モル）、ハイドロキノンモ
ノメチルエーテル0.27部、タングストケイ酸11部
を仕込み、25〜35℃にて、アリルグリシジルエー
テル428部（3.75モル）を６時間を要して滴下し
たのち、さらに45℃にて２時間保持して反応を完
了した。テトラヒドロフランおよびアリルグリシ
ジルエーテルの反応率はそれぞれ91.0％、98.9％
であつた。 反応完了後、40℃、20mmHgの圧力下に30分間
保持して未反応原料を除去した後、ケイ酸マグネ
シウム39部を添加し、加圧濾過して精製を行い、
水酸基価26.2、酸価0.10、色数（APHA）30の反
応生成物510部（収率93.2％）を得た。反応生成
物中のジエステル含有量は0.11％であり、グリコ
ールは検出されなかつた。水酸基価およびNMR
により分析した結果、テトラヒドロフランおよび
アリルグリシジルエーテルの平均付加数は19.5で
あり、下記構造のヒドロキシル基含有アクリレー
トであることがわかつた。 実施例 ５ 実施例１と同様の反応容器に、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート130部（１モル）、ハイドロ
キノンモノメチルエーテル0.14部、タングストリ
ン酸2.83部を仕込み、30〜40℃にてアリルグリシ
ジルエーテル342部（３モル）を３時間を要して
滴下したのち、更に40℃にて３時間保持して反応
を完了した。 アリルグリシジルエーテルの反応率は99.8％で
あつた。次に、吸着剤である粉末塩基性マグネシ
ウム・アルミニウム・ハイドロキシ・カーボネー
ト・ハイドレート15部を添加し、60℃で30分間撹
拌したのち加圧濾過して精製を行ない、水酸基価
118、酸価0.12、色数（APHA）30の無色透明液
体の反応生成物463部（収率98.1％）を得た。反
応生成物中のジエステル含有量は0.12％であり、
グリコールは検出されなかつた。水酸基価および
NMRにより分析した結果、アリルグリシジルエ
ーテルの平均付加数は２であり、下記構造のヒド
ロキシル基含有メタクリレートであることがわか
つた。 実施例 ６ 実施例１と同様の反応容器に、２−ヒドロキシ
エチルメタクリレート195部（1.5モル）、ハイド
ロキノンモノメチルエーテル0.16部、タングスト
ケイ酸2.15部を仕込み、50℃にてアリルグリシジ
ルエーテル342部（３モル）を２時間を要して滴
下したのち、更に40℃にて１時間保持して反応を
完了した。 アリルグリシジルエーテルの反応率は99.7％で
あつた。次に、吸着剤である粉末塩基性マグネシ
ウム・アルミニウム・ハイドロキシ・カーボネー
ト・ハイドレート15部を添加し、60℃で30分間撹
拌したのち加圧濾過して精製を行ない、水酸基価
155、酸価0.10、色数（APHA）10の無色透明液
体の反応生成物530部（収率98.7％）を得た。反
応生成物中のジエステル含有量は0.10％であり、
クリコールは検出されなかつた。水酸基価および
NMRにより分析した結果、アリルグリシジルエ
ーテルの平均付加数は２であり、下記構造のヒド
ロキシル基含有メタクリレートであることがわか
つた。 尚、赤外吸収スペクトルは第７図に示す。 参考例 １ 実施例１と同様の反応容器に、２−ヒドロキシ
エチルアクリレート139部（1.2モル）、ハイドロ
キノン0.3部、タングストリン酸３部を仕込み、
30〜40℃にてｎ−ブチルグリシジルエーテル468
部（3.6モル）を４時間を要して滴下したのち、
更に40℃にて１時間保持して反応を完了した。ｎ
−ブチルグリシジルエーテルの反応率は99.7％で
あつた。つぎに、吸着剤である粉末ケイ酸マグネ
シウム11部を添加し、40℃で30分間撹拌したのち
加圧濾過して精製を行ない、水酸基価109、酸価
0.53、色数（APHA）30の無色透明液体の反応生
成物595部（収率98.0％）を得た。反応生成物中
のジエステル含有率は0.10％であり、グリコール
は検出されなかつた。水酸基価およびNMRによ
り分析した結果、ｎ−ブチルグリシジルエーテル
の平均付加数は３であり、下記構造のヒドロキシ
ル基含有アクリレートであることがわかつた。 実施例 ７ 実施例１で得たヒドロキシル基含有アクリレー
ト56部、ペンタエリスリトールテトラ（３−メル
カプトプロピオネート）44部およびベンジルジメ
チルケタール（チバガイギー社製、イルガキユア
ー651）３部を加え、樹脂組成物を調製した。得
られた樹脂組成物を鋼板パネル上に15μｍの厚さ
に塗布し、80W／cmの高圧水銀灯を用いて10cmの
高さの距離からコンベア速度６ｍ／分で該パネル
を移動させながら照射したところ、１回の照射で
タツクフリーの硬化塗膜が得られた。得られた硬
化塗膜の性能を調べたところ、鉛筆硬度は3Hで
あり、密着性は100／100であつた。 なお硬化塗膜の性能は下記の方法で測定した。 鉛筆硬度：JIS Ｋ 5400の方法 密着性：塗膜上にカツターナイフを用いて１mm間
隔で10mm×10mmの範囲にゴバン目100個を切り、
セロハンテープを圧着した後、勢いよく剥離し
てゴバン目の剥離状態を観察し、100−（剥離し
たゴバン目数）／100で表示した。 比較例 １ 参考例１で得たヒドロキシル基含有アクリレー
ト56部、ペンタエリスリトールテトラ（３−メル
カプトプロピオネート）44部およびベンジルジメ
チルケタール（チバガイギー社製、イルガキユア
ー651）３部を加え、樹脂組成物を調製した。得
られた比較用の樹脂組成物を用いて実施例７と同
様の方法で塗布膜の硬化性を調べたところ、タツ
クフリーの硬化塗膜を得るのに８回の照射を要し
た。更に、得られた硬化塗膜の性能を調べたとこ
ろ、鉛筆硬度は4Bであり、密着性は15/100であ
つた。 比較例 ２ アクリル酸とアリルグリシジルエーテル（モル
比１対１）の反応生成物56部、ペンタエリスリト
ールテトラ（３−メルカプトプロピオネート）44
部およびベンジルジメチルケタール（チバガイギ
ー社製、イルガキユアー651）３部を加え、樹脂
組成物を調製した。得られた比較用の樹脂組成物
を用いて実施例７と同様の方法で塗布膜の硬化性
を調べたところ、タツクフリーの硬化塗膜を得る
のに３回の照射を要した。更に、得られた硬化塗
膜の性能を調べたところ、鉛筆硬度は2Hであり、
密着性は5/100であつた。 実施例７および比較例１、２で得られた結果よ
り、本発明のヒドロキシル基含有（メタ）アクリ
レートはチオール類と反応して優れた硬化塗膜と
なることがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例１で得たヒドロキシル基含有ア
クリレートの赤外吸収スペクトル図であり、第２
図は実施例１で得たヒドロキシル基含有アクリレ
ートのＨ−NMRスペクトル図であり、第３図は
実施例１で得たヒドロキシル基含有アクリレート
の¹³C−NMRスペクトル図であり、第４図は実
施例２で得たヒドロキシル基含有アクリレートの
赤外吸収スペクトル図であり、第５図は実施例２
で得たヒドロキシル基含有アクリレートのＨ−
NMRスペクトル図であり、第６図は実施例２で
得たヒドロキシル基含有アクリレートの¹³C−
NMRスペクトル図であり、第７図は実施例６で
得たヒドロキシル基含有メタクリレートの赤外吸
収スペクトル図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ［ただし式中、Ｒは水素原子またはメチル基、Ｚ
   はメチレン基またはイソプロピレン基、Ａは下記
   の化学式（）で示される２価の有機基、Ｂは下
   記の化学式（）〜（）で示される群からなる
   ２価の有機基のいずれかひとつ、１は１〜20の整
   数、ｍは０または１〜20の整数を表わし、しかも
   Ａ、Ｂで示される基の配列は任意である。］で表
   わされるヒドロキシル基含有（メタ）アクリレー
   ト。 (A) (B) −CH₂CH₂O− ……（） −C₄H₈O− ……（）