JPH04270144A - ガラスを被覆する方法 - Google Patents
ガラスを被覆する方法Info
- Publication number
- JPH04270144A JPH04270144A JP3242628A JP24262891A JPH04270144A JP H04270144 A JPH04270144 A JP H04270144A JP 3242628 A JP3242628 A JP 3242628A JP 24262891 A JP24262891 A JP 24262891A JP H04270144 A JPH04270144 A JP H04270144A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- undercoat
- glass
- precursor material
- coating
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 109
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 91
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 74
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 61
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 43
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 23
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 23
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 39
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 34
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 27
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 25
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 9
- 239000005329 float glass Substances 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 35
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 abstract description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 9
- 230000003993 interaction Effects 0.000 abstract description 4
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 abstract 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 abstract 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 32
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 16
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 11
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 7
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000234435 Lilium Species 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- GRUMUEUJTSXQOI-UHFFFAOYSA-N vanadium dioxide Chemical compound O=[V]=O GRUMUEUJTSXQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021542 Vanadium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 3
- PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K indium(iii) chloride Chemical compound Cl[In](Cl)Cl PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 2
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 2
- 238000010944 pre-mature reactiony Methods 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021551 Vanadium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007667 ZnOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 description 1
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011158 quantitative evaluation Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K vanadium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[V+3] HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3423—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings comprising a suboxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/407—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/453—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】本発明は送行する熱ガラス基体を酸素の存
在下に被覆プリカーサー材料と接触させることにより送
行熱ガラス基体上に熱分解的に形成された酸化物層を含
む被覆を形成する方法に関する。
在下に被覆プリカーサー材料と接触させることにより送
行熱ガラス基体上に熱分解的に形成された酸化物層を含
む被覆を形成する方法に関する。
【０００２】種々な異なる目的のためガラスを被覆する
ことは良く知られている。電気回路の一部を形成するた
め又は赤外放射線について被覆面の輻射率を低下するた
め、種々の導電性被覆を付与することができる。例えば
金属の反射性被覆を、吸収剤被覆として太陽放射線を遮
蔽するために付与することができる。
ことは良く知られている。電気回路の一部を形成するた
め又は赤外放射線について被覆面の輻射率を低下するた
め、種々の導電性被覆を付与することができる。例えば
金属の反射性被覆を、吸収剤被覆として太陽放射線を遮
蔽するために付与することができる。
【０００３】本発明は酸化物又は他の材料であることが
できる一つ以上の上に積重した層を有する酸化物のアン
ダーコートがある特に多層被覆に関する。
できる一つ以上の上に積重した層を有する酸化物のアン
ダーコートがある特に多層被覆に関する。
【０００４】酸化物アンダーコート及び一つ以上の積重
した被覆層を含む多層被覆を作ることも知られている。 多層熱分解被覆を付与するについては種々異なる理由が
ある、これらは、上層を付着させる方法を変えること、
又は上被覆材料と基体のガラスの間の相互作用を減ずる
こと及び／又は被覆全体の性質を変えること、又は酸化
物アンダーコートの如き被覆の下層と大気の間の相互作
用を低下させ、汚染もしくは摩耗からアンダーコートを
保護し、そのアンダーコートがパネル上に与える性質を
保存させることを主たる目的として有する。
した被覆層を含む多層被覆を作ることも知られている。 多層熱分解被覆を付与するについては種々異なる理由が
ある、これらは、上層を付着させる方法を変えること、
又は上被覆材料と基体のガラスの間の相互作用を減ずる
こと及び／又は被覆全体の性質を変えること、又は酸化
物アンダーコートの如き被覆の下層と大気の間の相互作
用を低下させ、汚染もしくは摩耗からアンダーコートを
保護し、そのアンダーコートがパネル上に与える性質を
保存させることを主たる目的として有する。
【０００５】基体のガラスと上被覆層の材料の間の相互
作用を防ぐことが有用である。例として、１種以上の異
なる酸化物又は他の材料例えば金属の層であってよい他
の被覆層で上被覆すべく下被覆層として酸化ケイ素が使
用できる。ソーダライムガラス上の酸化ケイ素アンダー
コートの存在は、上層の形成中又は続いての高温処理中
上被覆層中への拡散その他によってガラスからのナトリ
ウムイオンの移行を防ぐのに特に有利である。例えばソ
ーダライムガラス基体上に塩化錫から酸化錫被覆を熱分
解的に形成するに当って、塩化ナトリウムが、被覆プリ
カーサー材料又はその反応生成物とガラスとの反応の結
果として被覆中に入るようになる傾向を有し、これが被
覆に曇をもたらす傾向を有することが見出されている。
作用を防ぐことが有用である。例として、１種以上の異
なる酸化物又は他の材料例えば金属の層であってよい他
の被覆層で上被覆すべく下被覆層として酸化ケイ素が使
用できる。ソーダライムガラス上の酸化ケイ素アンダー
コートの存在は、上層の形成中又は続いての高温処理中
上被覆層中への拡散その他によってガラスからのナトリ
ウムイオンの移行を防ぐのに特に有利である。例えばソ
ーダライムガラス基体上に塩化錫から酸化錫被覆を熱分
解的に形成するに当って、塩化ナトリウムが、被覆プリ
カーサー材料又はその反応生成物とガラスとの反応の結
果として被覆中に入るようになる傾向を有し、これが被
覆に曇をもたらす傾向を有することが見出されている。
【０００６】或いは放射線遮蔽目的のため付与される被
覆の光学的性質を変性することが望ましいことがある。 特に放射線遮蔽被覆は薄くする傾向があり、従って透過
光又は反射光の何れかでのそれらの外観は干渉効果は影
響を受け、被覆の厚さにおける小さい変動が被覆の見掛
けの色を変える重要な効果を有しうる。被覆の見掛けの
色への厚さの変動の効果を減ずるため、酸化物アンダー
コートを設けることが提案され、これはアンダーコート
の光学的厚さがそれ自体良好に選択されるならば、被覆
全体の厚さにおける変動に原因する望ましからぬ干渉効
果を減ずるのに高度に有利な効果を有しうる。
覆の光学的性質を変性することが望ましいことがある。 特に放射線遮蔽被覆は薄くする傾向があり、従って透過
光又は反射光の何れかでのそれらの外観は干渉効果は影
響を受け、被覆の厚さにおける小さい変動が被覆の見掛
けの色を変える重要な効果を有しうる。被覆の見掛けの
色への厚さの変動の効果を減ずるため、酸化物アンダー
コートを設けることが提案され、これはアンダーコート
の光学的厚さがそれ自体良好に選択されるならば、被覆
全体の厚さにおける変動に原因する望ましからぬ干渉効
果を減ずるのに高度に有利な効果を有しうる。
【０００７】或いは又、全体としてパネル上に特別の性
質を与える酸化物アンダーコートを設けること、及び周
囲雰囲気による化学的侵害からアンダーコートを保護す
る作用もする耐摩耗性被覆によってそのアンダーコート
を保護することが望ましいことがある。
質を与える酸化物アンダーコートを設けること、及び周
囲雰囲気による化学的侵害からアンダーコートを保護す
る作用もする耐摩耗性被覆によってそのアンダーコート
を保護することが望ましいことがある。
【０００８】本発明の目的は、被覆下層がそれ自体の一
定の特別な性質を有し、又は被覆されたガラスに一定の
特殊な性質を与える少なくとも一つの他の被覆層と組合
せて作用するガラス上の多層熱分解被覆を形成する方法
を提供することにある。
定の特別な性質を有し、又は被覆されたガラスに一定の
特殊な性質を与える少なくとも一つの他の被覆層と組合
せて作用するガラス上の多層熱分解被覆を形成する方法
を提供することにある。
【０００９】本発明によれば送行する熱ガラス基体を酸
素の存在下に被覆プリカーサー材料と接触させることに
よって、送行熱ガラス基体上に熱分解的に形成された酸
化物層を含む被覆を形成する方法を提供し、この方法は
前記被覆の酸化物下層（アンダーコート）を、アンダー
コート形成室中で、基体上にアンダーコート材料の完全
酸化をするには不充分な量での酸素の存在下にアンダー
コートプリカーサー材料と基体を接触させることにより
不完全に酸化された状態で熱分解的に形成し、それが未
だ不完全に酸化された状態にある間、かつ基体が未だ熱
い間にかかるアンダーコートを上被覆層で上被覆し、こ
れによって不完全に酸化された状態でのかかるアンダー
コートを保護することを特徴としている。
素の存在下に被覆プリカーサー材料と接触させることに
よって、送行熱ガラス基体上に熱分解的に形成された酸
化物層を含む被覆を形成する方法を提供し、この方法は
前記被覆の酸化物下層（アンダーコート）を、アンダー
コート形成室中で、基体上にアンダーコート材料の完全
酸化をするには不充分な量での酸素の存在下にアンダー
コートプリカーサー材料と基体を接触させることにより
不完全に酸化された状態で熱分解的に形成し、それが未
だ不完全に酸化された状態にある間、かつ基体が未だ熱
い間にかかるアンダーコートを上被覆層で上被覆し、こ
れによって不完全に酸化された状態でのかかるアンダー
コートを保護することを特徴としている。
【００１０】従って本発明は、不完全に酸化されたアン
ダーコートを形成し、続いて不完全に酸化された材料の
そのアンダーコートの性質を保護する上被覆層を形成し
、かくして与えられた性質を維持する方法を提供する。 ここで「不完全に酸化された材料」なる表現は、真の下
級酸化物、換言すれば多価元素の低原子価状態の酸化物
（例えばＶＯ２ 又はＴｉＯ）を定義するため使用し、
又構造中に酸素ギヤツプを含有する酸化物を定義するた
めに使用する、後者の材料の例にはＳｉＯｘ（ｘは２以
下である）があり、これはＳｉＯ２ の一般構造式を有
するが、二酸化物中に酸素で満たされるべきある割合の
ギヤツプを有する。
ダーコートを形成し、続いて不完全に酸化された材料の
そのアンダーコートの性質を保護する上被覆層を形成し
、かくして与えられた性質を維持する方法を提供する。 ここで「不完全に酸化された材料」なる表現は、真の下
級酸化物、換言すれば多価元素の低原子価状態の酸化物
（例えばＶＯ２ 又はＴｉＯ）を定義するため使用し、
又構造中に酸素ギヤツプを含有する酸化物を定義するた
めに使用する、後者の材料の例にはＳｉＯｘ（ｘは２以
下である）があり、これはＳｉＯ２ の一般構造式を有
するが、二酸化物中に酸素で満たされるべきある割合の
ギヤツプを有する。
【００１１】不完全に酸化された材料のアンダーコート
によって与えられる特別な性質の正確な種類は少なくと
も一部はその材料の種類によって決るであろう。
によって与えられる特別な性質の正確な種類は少なくと
も一部はその材料の種類によって決るであろう。
【００１２】例えばアンダーコートは半導体層として構
成できる。半導体層は酸化亜鉛もしくは酸化カドミウム
、又は酸化チタン、又は二酸化バナジウムから形成でき
る、かかる層は本発明による方法によって、一定の酸化
度に容易に形成でき、それらはオーバーコート層によっ
て不完全酸化の状態で保護できる。オーバーコート層は
アンダーコートを大気中酸素によるそれ以上の酸化に対
し、周囲雰囲気による他の化学的侵害に対して、及び摩
耗に対して保護するため容易に選択できる。
成できる。半導体層は酸化亜鉛もしくは酸化カドミウム
、又は酸化チタン、又は二酸化バナジウムから形成でき
る、かかる層は本発明による方法によって、一定の酸化
度に容易に形成でき、それらはオーバーコート層によっ
て不完全酸化の状態で保護できる。オーバーコート層は
アンダーコートを大気中酸素によるそれ以上の酸化に対
し、周囲雰囲気による他の化学的侵害に対して、及び摩
耗に対して保護するため容易に選択できる。
【００１３】しかしながら本発明は不完全に酸化された
酸化ケイ素のアンダーコートの形成に重要な工業的用途
を見出すことを現在は目的としている。前述した如く、
ソーダライムガラス上の酸化ケイ素被覆の存在は、積重
した被覆層のナトリウム被毒を減少又は除去するのに有
利な効果を有する。更に、そしてこれは非常に重要なも
ので、酸化ケイ素の屈折率がその酸化状態により及びそ
の構造中に存在するギヤツプに関連して変化する。従っ
て本発明の採用はアンダーコート層例えば酸化ケイ素の
形成のための追加の制御パラメーターを提供し、これは
そのアンダーコートの光学的厚さの制御を容易にする。 それはもちろん全体としての被覆の光学的及び放射線透
過性の多くを決定する種々の被覆層の光学的厚さであり
、被覆層の光学的厚さは、被覆層が作られる材料の屈折
率及び実際の厚さの積である（干渉反射の場合、重要な
要因は実際の厚さと屈折率の積の２倍でありうる）。 種々の元素の異なる酸化物が異なる屈折率を示す、従っ
て本発明はアンダーコートを付着させる実際の厚さの制
御のみならず、アンダーコート中で可能な酸化度の適切
な選択によりその光学的厚さの独立した制御の測度も可
能にする。
酸化ケイ素のアンダーコートの形成に重要な工業的用途
を見出すことを現在は目的としている。前述した如く、
ソーダライムガラス上の酸化ケイ素被覆の存在は、積重
した被覆層のナトリウム被毒を減少又は除去するのに有
利な効果を有する。更に、そしてこれは非常に重要なも
ので、酸化ケイ素の屈折率がその酸化状態により及びそ
の構造中に存在するギヤツプに関連して変化する。従っ
て本発明の採用はアンダーコート層例えば酸化ケイ素の
形成のための追加の制御パラメーターを提供し、これは
そのアンダーコートの光学的厚さの制御を容易にする。 それはもちろん全体としての被覆の光学的及び放射線透
過性の多くを決定する種々の被覆層の光学的厚さであり
、被覆層の光学的厚さは、被覆層が作られる材料の屈折
率及び実際の厚さの積である（干渉反射の場合、重要な
要因は実際の厚さと屈折率の積の２倍でありうる）。 種々の元素の異なる酸化物が異なる屈折率を示す、従っ
て本発明はアンダーコートを付着させる実際の厚さの制
御のみならず、アンダーコート中で可能な酸化度の適切
な選択によりその光学的厚さの独立した制御の測度も可
能にする。
【００１４】特に被覆ガラスの大規模製造コース中で、
アンダーコート及びオーバーコートを付着させる正確な
厚さを制御することよりも、アンダーコートの材料の酸
化度を制御することは非常に簡単なことである。被覆装
置は、被覆材料の種類を考慮に入れてほぼ要求される実
際の厚さの均一被覆を提供するために設定でき、調整は
、アンダーコート形成室に入れることのできる酸素の量
を制御することによって簡単にそのアンダーコートの要
求される光学的厚さを達成するためにすることができる
。
アンダーコート及びオーバーコートを付着させる正確な
厚さを制御することよりも、アンダーコートの材料の酸
化度を制御することは非常に簡単なことである。被覆装
置は、被覆材料の種類を考慮に入れてほぼ要求される実
際の厚さの均一被覆を提供するために設定でき、調整は
、アンダーコート形成室に入れることのできる酸素の量
を制御することによって簡単にそのアンダーコートの要
求される光学的厚さを達成するためにすることができる
。
【００１５】アンダーコートされるガラス基体を酸化性
雰囲気中で充分に長い時間曝すと、アンダーコートは完
全に酸化されるようになる傾向があり、従ってその望ま
しい性質が失われることが予期される。従って本発明に
よれば、かかるアンダーコートは、それが未だ不完全に
酸化された状態にある間に、そして基体が未だ熱い間に
、上被覆層で上被覆し、これによって不完全に酸化され
た状態でかかるアンダーコートを保護する。新しくアン
ダーコートされたガラス基体を空気の如き酸化性雰囲気
に曝し、アンダーコートをオーバーコートする前の時間
は、かかる暴露中のガラスの温度及びアンダーコートの
種類によって決るであろう。しかしながら一般的には、
酸化ケイ素にとって、１５秒の暴露時間であり、３０秒
まで許容できる。かかる時間はアンダーコートの酸化の
完了にとっては不充分であり、形成される酸化における
増大は予想できる、従ってアンダーコート形成工程で許
される酸化度を適切に変えることによって達成できる。
雰囲気中で充分に長い時間曝すと、アンダーコートは完
全に酸化されるようになる傾向があり、従ってその望ま
しい性質が失われることが予期される。従って本発明に
よれば、かかるアンダーコートは、それが未だ不完全に
酸化された状態にある間に、そして基体が未だ熱い間に
、上被覆層で上被覆し、これによって不完全に酸化され
た状態でかかるアンダーコートを保護する。新しくアン
ダーコートされたガラス基体を空気の如き酸化性雰囲気
に曝し、アンダーコートをオーバーコートする前の時間
は、かかる暴露中のガラスの温度及びアンダーコートの
種類によって決るであろう。しかしながら一般的には、
酸化ケイ素にとって、１５秒の暴露時間であり、３０秒
まで許容できる。かかる時間はアンダーコートの酸化の
完了にとっては不充分であり、形成される酸化における
増大は予想できる、従ってアンダーコート形成工程で許
される酸化度を適切に変えることによって達成できる。
【００１６】有利には前記アンダーコート形成室は還元
性雰囲気で囲む。この特長の採用は周囲酸素がアンダー
コート形成室に入るのを防ぐことを助け、従ってそのア
ンダーコート形成室内の酸化条件の制御をより良くする
ことができる。
性雰囲気で囲む。この特長の採用は周囲酸素がアンダー
コート形成室に入るのを防ぐことを助け、従ってそのア
ンダーコート形成室内の酸化条件の制御をより良くする
ことができる。
【００１７】本発明は予備切断時に下級酸化物被覆の形
成に使用でき、これを要求するときにはガラスを再加熱
できる。しかしながら、熱分解的に被覆された平板ガラ
スを製造することが望ましいときには、ガラスが新しく
形成されたときにそうするのが最も良い。そうすること
は、熱分解反応を生起させるためガラスを再加熱する必
要がない経済的有利性を有し、又それはガラスの表面が
本来の条件にあることを確実にすることから被覆の品質
についても有利性を有する。従って好ましくは前記アン
ダーコートプリカーサー材料は新しく形成されたガラス
によって形成された熱ガラス基体の上面と接触するよう
にする。
成に使用でき、これを要求するときにはガラスを再加熱
できる。しかしながら、熱分解的に被覆された平板ガラ
スを製造することが望ましいときには、ガラスが新しく
形成されたときにそうするのが最も良い。そうすること
は、熱分解反応を生起させるためガラスを再加熱する必
要がない経済的有利性を有し、又それはガラスの表面が
本来の条件にあることを確実にすることから被覆の品質
についても有利性を有する。従って好ましくは前記アン
ダーコートプリカーサー材料は新しく形成されたガラス
によって形成された熱ガラス基体の上面と接触するよう
にする。
【００１８】アンダーコート形成室は例えば、ガラスリ
ボンが進行する徐冷レアの上流端に又はその近く置くこ
とができた、そしてリボンは引上げ機又はフロート室中
で形成できる。
ボンが進行する徐冷レアの上流端に又はその近く置くこ
とができた、そしてリボンは引上げ機又はフロート室中
で形成できる。
【００１９】しかしながら、多層被覆で被覆したガラス
の製造のため一つのレア及び二つ以上の被覆ステーショ
ンを形成するため未被覆ガラスを徐冷するために先に使
用したレアを変える問題が生ずることが見出された。か
かる問題は、一方で被覆を形成するための、そして他方
でガラスの適切な徐冷のための多分異なる温度条件の結
果として生ずる、又各種の被覆ステーションを置くため
有効な空間をしいて置く結果として生ずる。更に被覆反
応は、ガラスが全面的に冷却されるばかりでなく、被覆
された面が非被覆面よりも早く冷却されることでガラス
面上に冷却効果を有する、従って被覆されたガラスの製
造から非被覆ガラスへと変えるとき及び再び戻すとき、
時にはガラスに付与する被覆の厚さに実質的な変化を作
るときにさえも二つ以上の被覆ステーションを備えた徐
冷レア内に異なる温度域をしばしば確立しなければなら
ない。
の製造のため一つのレア及び二つ以上の被覆ステーショ
ンを形成するため未被覆ガラスを徐冷するために先に使
用したレアを変える問題が生ずることが見出された。か
かる問題は、一方で被覆を形成するための、そして他方
でガラスの適切な徐冷のための多分異なる温度条件の結
果として生ずる、又各種の被覆ステーションを置くため
有効な空間をしいて置く結果として生ずる。更に被覆反
応は、ガラスが全面的に冷却されるばかりでなく、被覆
された面が非被覆面よりも早く冷却されることでガラス
面上に冷却効果を有する、従って被覆されたガラスの製
造から非被覆ガラスへと変えるとき及び再び戻すとき、
時にはガラスに付与する被覆の厚さに実質的な変化を作
るときにさえも二つ以上の被覆ステーションを備えた徐
冷レア内に異なる温度域をしばしば確立しなければなら
ない。
【００２０】この問題を減ずるため、前記アンダーコー
トプリカーサー材料は、フロートガラスが製造されるフ
ロート室内に位置させた前記アンダーコート形成室中で
熱いフロートガラス基体の上面と接触するようにもたら
すのが最も好ましい。
トプリカーサー材料は、フロートガラスが製造されるフ
ロート室内に位置させた前記アンダーコート形成室中で
熱いフロートガラス基体の上面と接触するようにもたら
すのが最も好ましい。
【００２１】本発明のこの好ましい実施態様に従って操
作し、フロート室内でアンダーコートを形成することに
より、徐冷レアの上流端で又はその近くにアンダーコー
ト形成ステーションのための空間をつくる必要が避けら
れる。更にフロート室を出るガラスリボンの温度はリボ
ンがアンダーコートされていてもいなくても実質的に影
響を受けず、従ってアンダーコート形成室を操作の中に
又は外に切換えるとき、徐冷レア中の温度を変える必要
がないことが判った。
作し、フロート室内でアンダーコートを形成することに
より、徐冷レアの上流端で又はその近くにアンダーコー
ト形成ステーションのための空間をつくる必要が避けら
れる。更にフロート室を出るガラスリボンの温度はリボ
ンがアンダーコートされていてもいなくても実質的に影
響を受けず、従ってアンダーコート形成室を操作の中に
又は外に切換えるとき、徐冷レア中の温度を変える必要
がないことが判った。
【００２２】更に驚くべきことは、フロート室内で酸化
物アンダーコートを形成することを提案する。フロート
ガラス室はガラスリボンを拡げるために要する温度でか
なり容易に酸化される全体が又は主として錫である溶融
金属の浴を含み、従ってフロート室内を還元性雰囲気で
保つことが一般の慣行である、何故なら金属浴の表面か
らガラスリボンによって取り上げられる表面浮滓が作ら
れるガラス中の欠陥源となるからである。代表的なかか
る雰囲気は９２〜９５％の窒素及び約８〜５％の水素を
含有し、周囲雰囲気からフロート室中に漏入する酸素を
防ぐため僅かに過圧で保たれている。フロート室中へ酸
素が入ることを避けるためあらゆる注意を払うにも拘ら
ず、金属浴の表面に殆ど常に形成する浮滓を除くために
多くの研究がなされて来た。従ってフロート室中に酸化
条件を保つことは、フロートガラスの製造についての教
示の形勢に反するものである。しかしながら本発明者等
は、予期した問題を生ぜしめることなくフロート室内に
酸化性条件を作ることができることを見出した。本発明
者等は、これは前記アンダーコートプリカーサー材料が
アンダーコート形成室中で前面と接触状態にもたされる
という事実に少なくとも一部原因があると信ずる。アン
ダーコート形成室の使用がアンダーコート形成プリカー
サー材料の及びアンダーコート形成反応生成物の酸化条
件の拘束を容易にし、かくしてフロート室中の金属浴上
でのそれらの効果を小さく又は無視しうる程度に減少で
きるのである。
物アンダーコートを形成することを提案する。フロート
ガラス室はガラスリボンを拡げるために要する温度でか
なり容易に酸化される全体が又は主として錫である溶融
金属の浴を含み、従ってフロート室内を還元性雰囲気で
保つことが一般の慣行である、何故なら金属浴の表面か
らガラスリボンによって取り上げられる表面浮滓が作ら
れるガラス中の欠陥源となるからである。代表的なかか
る雰囲気は９２〜９５％の窒素及び約８〜５％の水素を
含有し、周囲雰囲気からフロート室中に漏入する酸素を
防ぐため僅かに過圧で保たれている。フロート室中へ酸
素が入ることを避けるためあらゆる注意を払うにも拘ら
ず、金属浴の表面に殆ど常に形成する浮滓を除くために
多くの研究がなされて来た。従ってフロート室中に酸化
条件を保つことは、フロートガラスの製造についての教
示の形勢に反するものである。しかしながら本発明者等
は、予期した問題を生ぜしめることなくフロート室内に
酸化性条件を作ることができることを見出した。本発明
者等は、これは前記アンダーコートプリカーサー材料が
アンダーコート形成室中で前面と接触状態にもたされる
という事実に少なくとも一部原因があると信ずる。アン
ダーコート形成室の使用がアンダーコート形成プリカー
サー材料の及びアンダーコート形成反応生成物の酸化条
件の拘束を容易にし、かくしてフロート室中の金属浴上
でのそれらの効果を小さく又は無視しうる程度に減少で
きるのである。
【００２３】フロート室内にアンダーコート形成室を置
くことは、アンダーコート形成室を還元性雰囲気でとり
囲むことを確実にする非常に簡単な方法でもあり、それ
はその雰囲気を維持するための追加の装置を設ける必要
がない。
くことは、アンダーコート形成室を還元性雰囲気でとり
囲むことを確実にする非常に簡単な方法でもあり、それ
はその雰囲気を維持するための追加の装置を設ける必要
がない。
【００２４】アンダーコートは、リボンがその最終幅に
達する位置の下流でフロート室に沿った任意の位置で形
成でき、選択する実際の位置はガラスの被覆を開始する
ために所望される温度によって決る。ガラスは通常５７
０℃〜６５０℃の範囲である温度で徐冷レアへ通すため
フロート室から引き出される。５７０℃以上のリボン温
度が生起すべき熱分解被覆反応に本来好適である、従っ
て被覆ステーションは実際にフロート室からの出口に非
常に近いところに置くことができる。しかしながら好ま
しくは、被覆が中に形成されていないときには、ガラス
がフロート室から出る温度よりも少なくとも５０℃、好
ましくは１００℃高い温度をガラスが有するようにフロ
ート室に沿った位置で被覆プリカーサー材料をガラスに
接触させる。本発明のこの好ましい特長の採用は被覆反
応中にとられる熱を再び得るためリボンに対して充分な
時間がある利点を提供し、従ってそれがフロート室を出
るとき、その温度はアンダーコート形成操作によって実
質的に影響を受けない。
達する位置の下流でフロート室に沿った任意の位置で形
成でき、選択する実際の位置はガラスの被覆を開始する
ために所望される温度によって決る。ガラスは通常５７
０℃〜６５０℃の範囲である温度で徐冷レアへ通すため
フロート室から引き出される。５７０℃以上のリボン温
度が生起すべき熱分解被覆反応に本来好適である、従っ
て被覆ステーションは実際にフロート室からの出口に非
常に近いところに置くことができる。しかしながら好ま
しくは、被覆が中に形成されていないときには、ガラス
がフロート室から出る温度よりも少なくとも５０℃、好
ましくは１００℃高い温度をガラスが有するようにフロ
ート室に沿った位置で被覆プリカーサー材料をガラスに
接触させる。本発明のこの好ましい特長の採用は被覆反
応中にとられる熱を再び得るためリボンに対して充分な
時間がある利点を提供し、従ってそれがフロート室を出
るとき、その温度はアンダーコート形成操作によって実
質的に影響を受けない。
【００２５】ガラスがフロート室内でアンダーコートさ
れないときでさえも、基体は少なくとも４００℃の温度
を有するアンダーコート形成室に到達することが好まし
い。かかる温度は、例えばシラン含有被覆プリカーサー
から酸化ケイ素被覆を急速形成するのに非常に好適であ
る。一般的なルールとして、被覆形成中のガラスの温度
が高ければ高い程、被覆が生成する被覆反応は速くなる
、即ち有用な被覆酸化物に変換される被覆プリカーサー
材料の割合が増大せしめられ、リボン進行の一定速度に
対して、所望によってより厚い被覆を形成することがで
きることも知るべきである。このため、アンダーコート
プリカーサー材料は先ずガラスが少なくとも６５０℃の
温度を有するときガラスに接触させることが好ましい。 多くの目的のため、ガラスはそれがアンダーコートプリ
カーサー材料によって最初に接触せしめられるとき７０
０℃〜７５０℃の温度を有するとよい。
れないときでさえも、基体は少なくとも４００℃の温度
を有するアンダーコート形成室に到達することが好まし
い。かかる温度は、例えばシラン含有被覆プリカーサー
から酸化ケイ素被覆を急速形成するのに非常に好適であ
る。一般的なルールとして、被覆形成中のガラスの温度
が高ければ高い程、被覆が生成する被覆反応は速くなる
、即ち有用な被覆酸化物に変換される被覆プリカーサー
材料の割合が増大せしめられ、リボン進行の一定速度に
対して、所望によってより厚い被覆を形成することがで
きることも知るべきである。このため、アンダーコート
プリカーサー材料は先ずガラスが少なくとも６５０℃の
温度を有するときガラスに接触させることが好ましい。 多くの目的のため、ガラスはそれがアンダーコートプリ
カーサー材料によって最初に接触せしめられるとき７０
０℃〜７５０℃の温度を有するとよい。
【００２６】アンダーコート形成反応に必要な酸素は分
子状酸素の形で存在するのが好ましい。それは純粋酸素
として供給してもよいが、これは不必要な費用が加わる
、従って酸素を導入するためアンダーコート形成室に空
気を供給することが好ましい。
子状酸素の形で存在するのが好ましい。それは純粋酸素
として供給してもよいが、これは不必要な費用が加わる
、従って酸素を導入するためアンダーコート形成室に空
気を供給することが好ましい。
【００２７】有利には前記アンダーコートプリカーサー
材料は、ガラス上に酸化ケイ素アンダーコートを形成す
るためケイ素を含有するように選択する。酸化ケイ素被
覆は種々の目的のためのアンダーコートとして有用であ
る。シランを含有するアンダーコートプリカーサー材料
を使用することが特に好適である。
材料は、ガラス上に酸化ケイ素アンダーコートを形成す
るためケイ素を含有するように選択する。酸化ケイ素被
覆は種々の目的のためのアンダーコートとして有用であ
る。シランを含有するアンダーコートプリカーサー材料
を使用することが特に好適である。
【００２８】ガラス上に熱分解被覆を形成するためシラ
ン特にＳｉＨ４ の使用がそれ自体良く知られている。 シランは４００℃以上の温度で分解してケイ素被覆を形
成できる。しかしながら、かかるケイ素被覆をその場で
酸化して酸化ケイ素被覆を形成することは難しい。この
ため、シランを直接酸素と反応させることが好ましい。 この反応を、被覆装置の或る部でなくガラス基体上に酸
化ケイ素を付着させるため生起させるために、従来発表
された提案の全てが、酸化ケイ素被覆の形成に当りシラ
ン含有被覆プリカーサー材料の使用をするため、被覆プ
リカーサー材料は、これらの材料が自由に直接基体と接
触する位置で、被覆されるべき基体に向って開いた被覆
室内で酸素とのみ混合すべきことを固執して来た。しか
しながら本発明者等はこれは高品質酸化ケイ素被覆を製
造するためには不利であることを見出した。
ン特にＳｉＨ４ の使用がそれ自体良く知られている。 シランは４００℃以上の温度で分解してケイ素被覆を形
成できる。しかしながら、かかるケイ素被覆をその場で
酸化して酸化ケイ素被覆を形成することは難しい。この
ため、シランを直接酸素と反応させることが好ましい。 この反応を、被覆装置の或る部でなくガラス基体上に酸
化ケイ素を付着させるため生起させるために、従来発表
された提案の全てが、酸化ケイ素被覆の形成に当りシラ
ン含有被覆プリカーサー材料の使用をするため、被覆プ
リカーサー材料は、これらの材料が自由に直接基体と接
触する位置で、被覆されるべき基体に向って開いた被覆
室内で酸素とのみ混合すべきことを固執して来た。しか
しながら本発明者等はこれは高品質酸化ケイ素被覆を製
造するためには不利であることを見出した。
【００２９】本発明の最も好ましい実施態様において、
シラン含有アンダーコートプリカーサー材料は、それが
ガラスに接触できる前に酸素と均質に混合する。本発明
者等は、このアンダーコート形成試薬の早期混合は基体
の幅一杯に均一なアンダーコート形成を達成するのに大
なる有利性を与えることを見出した。驚いたことに、こ
の早期混合は、従来の技術の教示から予期される如き被
覆プリカーサー材料の早すぎる反応をもたらさず、事実
において、それは高品質酸化ケイ素被覆の生成にとって
有利である。
シラン含有アンダーコートプリカーサー材料は、それが
ガラスに接触できる前に酸素と均質に混合する。本発明
者等は、このアンダーコート形成試薬の早期混合は基体
の幅一杯に均一なアンダーコート形成を達成するのに大
なる有利性を与えることを見出した。驚いたことに、こ
の早期混合は、従来の技術の教示から予期される如き被
覆プリカーサー材料の早すぎる反応をもたらさず、事実
において、それは高品質酸化ケイ素被覆の生成にとって
有利である。
【００３０】本発明の好ましい実施態様において、被覆
プリカーサー材料としてのシランは実質的に不活性なキ
ヤリヤーガス流中の蒸気相の形で被覆室に向って送り、
酸素は、シラン含有キヤリヤーガス流中に、それが被覆
室に入る前に導入する。酸素及び被覆プリカーサーシラ
ンは被覆室中に入る前に均質に混合されていることが望
ましいのであるが、これらの試薬は被覆室に供給する前
に混合するための時間の長さを制御することができるこ
とも有利である。実質的に不活性なキヤリヤーガス流中
で被覆室に向ってシランを送ること及び次いでそのキヤ
リヤーガス流に酸素を導入することは、その制御を達成
するため酸素が導入されるべきである点の選択を可能に
する。
プリカーサー材料としてのシランは実質的に不活性なキ
ヤリヤーガス流中の蒸気相の形で被覆室に向って送り、
酸素は、シラン含有キヤリヤーガス流中に、それが被覆
室に入る前に導入する。酸素及び被覆プリカーサーシラ
ンは被覆室中に入る前に均質に混合されていることが望
ましいのであるが、これらの試薬は被覆室に供給する前
に混合するための時間の長さを制御することができるこ
とも有利である。実質的に不活性なキヤリヤーガス流中
で被覆室に向ってシランを送ること及び次いでそのキヤ
リヤーガス流に酸素を導入することは、その制御を達成
するため酸素が導入されるべきである点の選択を可能に
する。
【００３１】実質的に不活性なキヤリヤーガスとして窒
素を使用することが有利である。窒素は目的の観点から
充分に不活性であり、それは貴ガスと比較したとき安価
である。
素を使用することが有利である。窒素は目的の観点から
充分に不活性であり、それは貴ガスと比較したとき安価
である。
【００３２】被覆プリカーサー及び／又は酸素はベンチ
ユリによってキヤリヤーガス流中に都合良く導入できる
。
ユリによってキヤリヤーガス流中に都合良く導入できる
。
【００３３】好ましい実施態様においては、実質的に不
活性なガスとシランの均質混合を確実にするためキヤリ
ヤーガス流に乱流を誘起させる。前述した如くベンチユ
リを使用すると、或る量の乱流が誘起される、しかしこ
れは例えば被覆プリカーサー導入点の下流に絞りを有す
る供給ラインの使用によって増強できる。かかる絞りは
非対称であるのがよい。キヤリヤーガス中へのプリカー
サーの均質混合は乱流を誘起することによって確実にさ
れる。
活性なガスとシランの均質混合を確実にするためキヤリ
ヤーガス流に乱流を誘起させる。前述した如くベンチユ
リを使用すると、或る量の乱流が誘起される、しかしこ
れは例えば被覆プリカーサー導入点の下流に絞りを有す
る供給ラインの使用によって増強できる。かかる絞りは
非対称であるのがよい。キヤリヤーガス中へのプリカー
サーの均質混合は乱流を誘起することによって確実にさ
れる。
【００３４】同じ理由のため、シラン含有キヤリヤーガ
スと酸素の均質混合を確実にするため、酸素の導入後キ
ヤリヤーガス流中に乱流を誘起させることが有利である
。
スと酸素の均質混合を確実にするため、酸素の導入後キ
ヤリヤーガス流中に乱流を誘起させることが有利である
。
【００３５】被覆試薬を供給すべき速度は或る程度形成
されるべきアンダーコートの所望の厚さによって決り、
そして基体がアンダーコート形成室を通過する速度によ
って決る。好ましくはアンダーコートプリカーサー材料
としてのシランはアンダーコート形成室中に０．１％〜
１．５％の分圧で導入する。その範囲内の濃度が２０ｍ
／分以下で送行する基体上に約３０ｎｍ〜約２４０ｎｍ
のアンダーコートを形成するのに好適である。
されるべきアンダーコートの所望の厚さによって決り、
そして基体がアンダーコート形成室を通過する速度によ
って決る。好ましくはアンダーコートプリカーサー材料
としてのシランはアンダーコート形成室中に０．１％〜
１．５％の分圧で導入する。その範囲内の濃度が２０ｍ
／分以下で送行する基体上に約３０ｎｍ〜約２４０ｎｍ
のアンダーコートを形成するのに好適である。
【００３６】約１０ｍ／分より小さい速度で送行する被
覆ガラスの製造のためには、アンダーコートプリカーサ
ー材料としてのシランは０．１％〜０．４％の分圧でア
ンダーコート形成室中に導入するのが有利である。
覆ガラスの製造のためには、アンダーコートプリカーサ
ー材料としてのシランは０．１％〜０．４％の分圧でア
ンダーコート形成室中に導入するのが有利である。
【００３７】好ましくは、アンダーコートプリカーサー
材料がガラスに向って送られるときそれに熱エネルギー
の伝達を制限する工程をとる。これは周囲条件より低い
レベルで被覆試薬の温度を維持し、更に早すぎる反応の
傾向を減ずることを助ける。
材料がガラスに向って送られるときそれに熱エネルギー
の伝達を制限する工程をとる。これは周囲条件より低い
レベルで被覆試薬の温度を維持し、更に早すぎる反応の
傾向を減ずることを助ける。
【００３８】有利には、アンダーコートプリカーサー材
料は、ガラス状に形成されるべきアンダーコートの幅の
少なくとも主部分を横切って延びるか又は一緒に延びる
少なくとも一つのスロットを介してガラスに接触させる
ために供給する。これはガラス基体の幅一杯に均一な厚
さを有するアンダーコートの形成を容易にする。
料は、ガラス状に形成されるべきアンダーコートの幅の
少なくとも主部分を横切って延びるか又は一緒に延びる
少なくとも一つのスロットを介してガラスに接触させる
ために供給する。これはガラス基体の幅一杯に均一な厚
さを有するアンダーコートの形成を容易にする。
【００３９】有利にはアンダーコートプリカーサー材料
は前記アンダーコート形成室内でガラスに接触させる、
この室は基体通路と下に向って開いたフードによって規
定され、アンダーコート形成室は、その周囲の実質的に
全体の周りで吸引する。これはアンダーコート形成室か
ら周囲空間への未使用アンダーコートプリカーサー及び
被覆反応生成物の逃散を防止するのを助ける。
は前記アンダーコート形成室内でガラスに接触させる、
この室は基体通路と下に向って開いたフードによって規
定され、アンダーコート形成室は、その周囲の実質的に
全体の周りで吸引する。これはアンダーコート形成室か
ら周囲空間への未使用アンダーコートプリカーサー及び
被覆反応生成物の逃散を防止するのを助ける。
【００４０】好ましくはかかる吸引は、アンダーコート
形成室の実質的に全周をとりまく周囲雰囲気の内への流
れを誘起する。これは周囲雰囲気及び被覆室内の酸化条
件の間の空気シールを作り、これは室がフロート室内に
置かれているときアンダーコート形成室からの酸化性雰
囲気の逃散を防止するのに特に価値がある。
形成室の実質的に全周をとりまく周囲雰囲気の内への流
れを誘起する。これは周囲雰囲気及び被覆室内の酸化条
件の間の空気シールを作り、これは室がフロート室内に
置かれているときアンダーコート形成室からの酸化性雰
囲気の逃散を防止するのに特に価値がある。
【００４１】本発明を添付図面及び実施例によって更に
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００４２】図１はフロート室中に置いたアンダーコー
ト形成装置の横断面図である。
ト形成装置の横断面図である。
【００４３】図２は図１のアンダーコート形成装置の縦
断面図である。
断面図である。
【００４４】図３はアンダーコート形成装置の平面略図
である。
である。
【００４５】図４はアンダーコート形成ステーションに
供給する供給ラインにアンダーコート試薬の供給を示す
図である。
供給する供給ラインにアンダーコート試薬の供給を示す
図である。
【００４６】各図において、ガラスのリボン１は、フロ
ート室３内に含有された溶融金属浴２によって支持され
ているこれも１で示した通路に沿って進行する。アンダ
ーコート形成ステーションは一般的に４で示した壁及び
屋根構造物でとりまかれている。
ート室３内に含有された溶融金属浴２によって支持され
ているこれも１で示した通路に沿って進行する。アンダ
ーコート形成ステーションは一般的に４で示した壁及び
屋根構造物でとりまかれている。
【００４７】アンダーコート形成ステーション４は、リ
ボン通路１上に下方に向って開いたアンダーコート形成
室６を規定するフード５、アンダーコート形成室６にア
ンダーコート試薬を供給するための供給ライン７、及び
アンダーコート形成室６を周囲の吸気用チムニー８を有
する。
ボン通路１上に下方に向って開いたアンダーコート形成
室６を規定するフード５、アンダーコート形成室６にア
ンダーコート試薬を供給するための供給ライン７、及び
アンダーコート形成室６を周囲の吸気用チムニー８を有
する。
【００４８】供給ライン７は図示してない源から窒素の
如き実質的に不活性なキヤリヤーガスを供給し、シラン
の如きアンダーコートプリカーサー材料は第一ベンチユ
リ９でキヤリヤーガス流中に供給される。図示の供給ラ
イン７はアンダーコート形成室にシランを供給するため
特別に設計されている。アンダーコートプリカーサーが
分散されたキヤリヤーガス流は第一絞り１０に供給ライ
ン７に沿って流れ、第一絞り１０はキヤリヤーガス及び
連行されるアンダーコートプリカーサー材料の均質混合
を確実にするためキヤリヤーガス流に乱流を与えるため
に配置してある。更に下流で第二ベンチユリ１１が、例
えば空気の構成成分の如き酸素を導入するために設けら
れている。別の乱流誘起絞り１２はキヤリヤーガス流中
の連行アンダーコートプリカーサー材料と酸素の均質混
合を確実にする。アンダーコート試薬はフード５の幅の
主部分を横切って延びる出口スロット１４を有する流れ
制御ブロック１３に供給ライン７によって供給される。
如き実質的に不活性なキヤリヤーガスを供給し、シラン
の如きアンダーコートプリカーサー材料は第一ベンチユ
リ９でキヤリヤーガス流中に供給される。図示の供給ラ
イン７はアンダーコート形成室にシランを供給するため
特別に設計されている。アンダーコートプリカーサーが
分散されたキヤリヤーガス流は第一絞り１０に供給ライ
ン７に沿って流れ、第一絞り１０はキヤリヤーガス及び
連行されるアンダーコートプリカーサー材料の均質混合
を確実にするためキヤリヤーガス流に乱流を与えるため
に配置してある。更に下流で第二ベンチユリ１１が、例
えば空気の構成成分の如き酸素を導入するために設けら
れている。別の乱流誘起絞り１２はキヤリヤーガス流中
の連行アンダーコートプリカーサー材料と酸素の均質混
合を確実にする。アンダーコート試薬はフード５の幅の
主部分を横切って延びる出口スロット１４を有する流れ
制御ブロック１３に供給ライン７によって供給される。
【００４９】フロート室３の外の供給ライン７にアンダ
ーコートプリカーサー材料及び酸素を供給するのが好都
合である。フロート室３内の全ての部分で、供給ライン
７は、図１に示す如く冷却水入口１６及び出口１７を設
けた冷却ジャケット１５でとりまかれている。所望によ
って、冷却ジャケット１５は、図２及び図４に点線１８
で示す如く流れ制御ブロック１３内に延びていてもよい
、かくするとアンダーコート試薬は、アンダーコート形
成室６中でリボン１と接触させるため、スロット１４か
らそれらが出るまで過熱に対して保護される。
ーコートプリカーサー材料及び酸素を供給するのが好都
合である。フロート室３内の全ての部分で、供給ライン
７は、図１に示す如く冷却水入口１６及び出口１７を設
けた冷却ジャケット１５でとりまかれている。所望によ
って、冷却ジャケット１５は、図２及び図４に点線１８
で示す如く流れ制御ブロック１３内に延びていてもよい
、かくするとアンダーコート試薬は、アンダーコート形
成室６中でリボン１と接触させるため、スロット１４か
らそれらが出るまで過熱に対して保護される。
【００５０】図２に示す如く、フード５及び流れ制御ブ
ロック１３は支柱１９によりフロート室３の屋根から吊
されている。ねじ込み支柱１９を使用するのが好ましい
、かくするとフード５の基底の高さをリボン通路１から
例えば２ｃｍ以下の小さい間隙に調整できる。
ロック１３は支柱１９によりフロート室３の屋根から吊
されている。ねじ込み支柱１９を使用するのが好ましい
、かくするとフード５の基底の高さをリボン通路１から
例えば２ｃｍ以下の小さい間隙に調整できる。
【００５１】フード５、アンダーコート形成室６及び流
れ制御ブロック１３は周囲通路２０によりとりまかれ、
それを介してアンダーコート形成反応生成物及び未使用
アンダーコートプリカーサー材料が、所望によってフロ
ート室から内方に吸入された周囲雰囲気材料と共にチム
ニー８を通って上方に吸引できる。フード５及びアンダ
ーコート形成ステーション壁構造物４は、周囲通路２０
の基底で所望により周囲に延びるスカート２１を設けて
示してある。これらのスカートは例えばＲｅｆｒａｓｉ
ｌ（登録商標）から作られた可撓性耐火カーテンで適宜
構成されている。
れ制御ブロック１３は周囲通路２０によりとりまかれ、
それを介してアンダーコート形成反応生成物及び未使用
アンダーコートプリカーサー材料が、所望によってフロ
ート室から内方に吸入された周囲雰囲気材料と共にチム
ニー８を通って上方に吸引できる。フード５及びアンダ
ーコート形成ステーション壁構造物４は、周囲通路２０
の基底で所望により周囲に延びるスカート２１を設けて
示してある。これらのスカートは例えばＲｅｆｒａｓｉ
ｌ（登録商標）から作られた可撓性耐火カーテンで適宜
構成されている。
【００５２】ガラスリボンがフロート室３を出た後、そ
れはフロート室の出口端近くに位置したオーバーコート
形成ステーション（図示せず）へと通過する。オーバー
コート形成室自体は知られている種類のものであること
ができ、リボンがそれをシートに切断される前に通過す
る水平徐冷レアの上流端に又はその前に置かれる。特に
通路が長さ数ｍより大であるとき、オーバーコート形成
室への入口及びフロート室の出口端の間は閉じられた通
路であるのが望ましく、又その通路は非酸化性又は還元
性雰囲気で満たされていることが望ましい。これは新し
く形成されたアンダーコートと接触状態でそれに沿って
窒素を吹き込むことによって容易に達成でき、その通路
に沿ったフロート室雰囲気の漏洩で補給してもよい。
れはフロート室の出口端近くに位置したオーバーコート
形成ステーション（図示せず）へと通過する。オーバー
コート形成室自体は知られている種類のものであること
ができ、リボンがそれをシートに切断される前に通過す
る水平徐冷レアの上流端に又はその前に置かれる。特に
通路が長さ数ｍより大であるとき、オーバーコート形成
室への入口及びフロート室の出口端の間は閉じられた通
路であるのが望ましく、又その通路は非酸化性又は還元
性雰囲気で満たされていることが望ましい。これは新し
く形成されたアンダーコートと接触状態でそれに沿って
窒素を吹き込むことによって容易に達成でき、その通路
に沿ったフロート室雰囲気の漏洩で補給してもよい。
【００５３】実施例 １
特別の実施態様において、フロート室に沿って７ｍ／分
の速度で進行するフロートガラスを被覆するため、被覆
ステーションは、ガラスが約７００℃の温度であるフロ
ート室に沿った位置に置いた。供給ラインは窒素を供給
し、シランはその中に０．２％の分圧で導入し、酸素は
０．３６％（比０．５５）の分圧で導入した。約１．６
９の屈折率を有する酸化ケイ素ＳｉＯｘ（ｘは約１．８
に等しい）の被覆が得られた。形成された被覆は７５ｎ
ｍの厚さを有する。キヤリヤーガス中の被覆プリカーサ
ー材料は供給ライン７に沿って供給し、幅約４ｍｍのス
ロットを出た。その速度は、供給された材料がガラスと
フードの間に沿って流れ、フード５はガラス通路１の上
１５ｍｍにあり、リボン進行方向に平行な両方向で約２
〜３ｍ／秒の速度であった。フード５はその方向で約４
０ｃｍの長さを有していた。雰囲気材料は、約７〜８ｍ
／秒の速度で周囲通路２０中でガスの上昇流を発生する
ような速度でチムニー８を介して吸引した、これは被覆
室６の全周囲をとりまく通路２０の基底にフロート室か
らのガスの連続した内方への流れを生ぜしめ、被覆試薬
又はそれらの反応生成物のフロート室中への逃散を防い
だ。勿論かかる吸引は被覆反応生成物及び未使用被覆試
薬も引き出す。
の速度で進行するフロートガラスを被覆するため、被覆
ステーションは、ガラスが約７００℃の温度であるフロ
ート室に沿った位置に置いた。供給ラインは窒素を供給
し、シランはその中に０．２％の分圧で導入し、酸素は
０．３６％（比０．５５）の分圧で導入した。約１．６
９の屈折率を有する酸化ケイ素ＳｉＯｘ（ｘは約１．８
に等しい）の被覆が得られた。形成された被覆は７５ｎ
ｍの厚さを有する。キヤリヤーガス中の被覆プリカーサ
ー材料は供給ライン７に沿って供給し、幅約４ｍｍのス
ロットを出た。その速度は、供給された材料がガラスと
フードの間に沿って流れ、フード５はガラス通路１の上
１５ｍｍにあり、リボン進行方向に平行な両方向で約２
〜３ｍ／秒の速度であった。フード５はその方向で約４
０ｃｍの長さを有していた。雰囲気材料は、約７〜８ｍ
／秒の速度で周囲通路２０中でガスの上昇流を発生する
ような速度でチムニー８を介して吸引した、これは被覆
室６の全周囲をとりまく通路２０の基底にフロート室か
らのガスの連続した内方への流れを生ぜしめ、被覆試薬
又はそれらの反応生成物のフロート室中への逃散を防い
だ。勿論かかる吸引は被覆反応生成物及び未使用被覆試
薬も引き出す。
【００５４】フロート室からの出口に近く、そして水平
徐冷レアの上流端の前に置いた被覆ステーションで、そ
れ自体知られている方法で行った続く被覆工程で、水溶
液中のＳｎＣｌ２ の熱分解により２２５ｎｍの厚さに
ドープしたＳｎＯ２ の上被覆層を形成した。ＳｎＯ２
の厚さにおいて±４５ｎｍの公差及びアンダーコート
の厚さにおいて±４ｎｍの公差は許容でき、干渉効果に
よる望ましからぬ色変動を生ぜしめることはなかった。
徐冷レアの上流端の前に置いた被覆ステーションで、そ
れ自体知られている方法で行った続く被覆工程で、水溶
液中のＳｎＣｌ２ の熱分解により２２５ｎｍの厚さに
ドープしたＳｎＯ２ の上被覆層を形成した。ＳｎＯ２
の厚さにおいて±４５ｎｍの公差及びアンダーコート
の厚さにおいて±４ｎｍの公差は許容でき、干渉効果に
よる望ましからぬ色変動を生ぜしめることはなかった。
【００５５】アンダーコートの存在しない場合、かかる
酸化錫層は反射において緑味の主波長を示し、場所毎に
厚さによってそれは緑黄又は緑青色に見える。被覆の光
変性力の定量評価は良く知られているハンター座標によ
り与えることができる。アンダーコートが存在しないと
、かかる酸化錫被覆は−６〜−７のハンターａ座標を有
し、−７〜＋５のハンターｂ座標を有していた。しかし
ながら、１．６９〜１．７の屈折率を有する約７５ｎｍ
の酸化ケイ素アンダーコートを有する本実施例の２層被
覆の場合には、ハンターａ及びｂ座標は共に＋２〜−２
であった、従って非常に更に均一な中性製品を与えた。
酸化錫層は反射において緑味の主波長を示し、場所毎に
厚さによってそれは緑黄又は緑青色に見える。被覆の光
変性力の定量評価は良く知られているハンター座標によ
り与えることができる。アンダーコートが存在しないと
、かかる酸化錫被覆は−６〜−７のハンターａ座標を有
し、−７〜＋５のハンターｂ座標を有していた。しかし
ながら、１．６９〜１．７の屈折率を有する約７５ｎｍ
の酸化ケイ素アンダーコートを有する本実施例の２層被
覆の場合には、ハンターａ及びｂ座標は共に＋２〜−２
であった、従って非常に更に均一な中性製品を与えた。
【００５６】実施例 ２
長波長赤外放射線を遮蔽するため、厚さ約５００ｎｍの
ドープした酸化錫の層で被覆したガラスを作ることが要
求される。かかる被覆はそれ自体知られている方法で容
易に形成できる。厚さの変動は被覆パネルを横切る色相
において緑味（ハンターａ座標−１５）から赤味（ハン
ターａ座標＋７）まで変動を提供しうる、これは市場で
受入れられないと考えられる。従ってガラスに厚さ８０
ｎｍ及び屈折率１．７５±０．０１を有する不完全に酸
化された酸化ケイ素のアンダーコートを先ず設けた。こ
れは実施例１に記載した方法でアンダーコート形成室中
にシラン及び酸の流速を調整して容易に実施された。こ
のアンダーコートは干渉効果による色変動を軽減する効
果を有していた、従って±３０ｎｍ以下のオーバーコー
トにおける厚さ変動に対して、ハンターａ及びｂ座標は
共に＋２〜−２であった、従って非常により均一な中性
製品を与えた。これはアンダーコートの厚さにおける±
５ｎｍ以下の変動を残していた。
ドープした酸化錫の層で被覆したガラスを作ることが要
求される。かかる被覆はそれ自体知られている方法で容
易に形成できる。厚さの変動は被覆パネルを横切る色相
において緑味（ハンターａ座標−１５）から赤味（ハン
ターａ座標＋７）まで変動を提供しうる、これは市場で
受入れられないと考えられる。従ってガラスに厚さ８０
ｎｍ及び屈折率１．７５±０．０１を有する不完全に酸
化された酸化ケイ素のアンダーコートを先ず設けた。こ
れは実施例１に記載した方法でアンダーコート形成室中
にシラン及び酸の流速を調整して容易に実施された。こ
のアンダーコートは干渉効果による色変動を軽減する効
果を有していた、従って±３０ｎｍ以下のオーバーコー
トにおける厚さ変動に対して、ハンターａ及びｂ座標は
共に＋２〜−２であった、従って非常により均一な中性
製品を与えた。これはアンダーコートの厚さにおける±
５ｎｍ以下の変動を残していた。
【００５７】実施例 ３
オーバーコートプリカーサー材料として水性イソプロパ
ノールに溶解した酢酸亜鉛の熱分解によって、ドープし
た酸化亜鉛の低輻射率被覆を厚さ３１０ｎｍに形成した
。塩化インジウムを必要なドーピングイオンを与えるた
めオーバーコートプリカーサー材料に加えた。
ノールに溶解した酢酸亜鉛の熱分解によって、ドープし
た酸化亜鉛の低輻射率被覆を厚さ３１０ｎｍに形成した
。塩化インジウムを必要なドーピングイオンを与えるた
めオーバーコートプリカーサー材料に加えた。
【００５８】本発明に従い、ガラスにアンダーコートを
設けた、この実施例においては厚さ７３ｎｍ、屈折率１
．７９を有する不完全に酸化された酸化ケイ素のアンダ
ーコートを設けた、そしてこの酸化の不完全状態を保護
するためオーバーコートを付与した。これは実施例１に
記載した方法で、アンダーコート形成室中へのシラン及
び酸素の流速を調整することによって容易に行われた。 これも又オーバーコート層の厚さの変動による色の変動
を著しく軽減する効果を有していた。ハンターａ及びｂ
座標は共に＋２〜−２であった。
設けた、この実施例においては厚さ７３ｎｍ、屈折率１
．７９を有する不完全に酸化された酸化ケイ素のアンダ
ーコートを設けた、そしてこの酸化の不完全状態を保護
するためオーバーコートを付与した。これは実施例１に
記載した方法で、アンダーコート形成室中へのシラン及
び酸素の流速を調整することによって容易に行われた。 これも又オーバーコート層の厚さの変動による色の変動
を著しく軽減する効果を有していた。ハンターａ及びｂ
座標は共に＋２〜−２であった。
【００５９】±１０ｎｍ以下のオーバーコートの厚さに
おける変動及び±３ｎｍ以下のアンダーコートの厚さに
おける変動は、反射で見たとき被覆ガラスの色相の認め
うる変動を生ぜしめることなく、許容できた。
おける変動及び±３ｎｍ以下のアンダーコートの厚さに
おける変動は、反射で見たとき被覆ガラスの色相の認め
うる変動を生ぜしめることなく、許容できた。
【００６０】実施例 ４
これもオーバーコートプリカーサー材料として水性イソ
プロパノールに溶解した酢酸亜鉛の熱分解により、ドー
プした酸化亜鉛の低輻射率被覆を５０５ｎｍの厚さに形
成した。必要なドーピングイオンを与えるため、塩化イ
ンジウムをオーバーコートプリカーサー材料に加えた。
プロパノールに溶解した酢酸亜鉛の熱分解により、ドー
プした酸化亜鉛の低輻射率被覆を５０５ｎｍの厚さに形
成した。必要なドーピングイオンを与えるため、塩化イ
ンジウムをオーバーコートプリカーサー材料に加えた。
【００６１】本発明に従い、本実施例においては、ガラ
スに、厚さ７８ｎｍ及び屈折率１．８を有する不完全に
酸化された酸化ケイ素のアンダーコートを先ず設け、こ
の酸化の不完全状態を保護するためオーバーコートを付
与した。これは実施例１に記載した方法において、アン
ダーコート形成室中へのシラン及び酸素の流速を調整す
ることによって容易に行われた。これもオーバーコート
層の厚さにおける変動による色の変動を著しく軽減する
効果を有していた。ハンターａ及びｂ座標は共に＋２〜
−２であった。
スに、厚さ７８ｎｍ及び屈折率１．８を有する不完全に
酸化された酸化ケイ素のアンダーコートを先ず設け、こ
の酸化の不完全状態を保護するためオーバーコートを付
与した。これは実施例１に記載した方法において、アン
ダーコート形成室中へのシラン及び酸素の流速を調整す
ることによって容易に行われた。これもオーバーコート
層の厚さにおける変動による色の変動を著しく軽減する
効果を有していた。ハンターａ及びｂ座標は共に＋２〜
−２であった。
【００６２】±５ｎｍ以下のオーバーコートの厚さの変
動、及び±２ｎｍ以下のアンダーコートの厚さの変動は
許容でき、反射で見たときの被覆ガラスの色相の認めう
る変動は生じなかった。
動、及び±２ｎｍ以下のアンダーコートの厚さの変動は
許容でき、反射で見たときの被覆ガラスの色相の認めう
る変動は生じなかった。
【００６３】実施例 ５
それ自体知られている被覆法で、オーバーコートプリカ
ーサー材料としてジメチルホルムアミドに溶解した塩化
錫及び塩化インジウムの熱分解により、酸化錫インジウ
ムの低輻射率被覆を３００ｎｍの厚さに形成した。
ーサー材料としてジメチルホルムアミドに溶解した塩化
錫及び塩化インジウムの熱分解により、酸化錫インジウ
ムの低輻射率被覆を３００ｎｍの厚さに形成した。
【００６４】本発明に従い、本実施例において、７４ｎ
ｍの厚さ及び１．７７の屈折率を有する不完全に酸化さ
れた酸化ケイ素のアンダーコートを先ず設け、そしてこ
の酸化の不完全状態を保護するためオーバーコートを付
与した。これは実施例１に記載した方法でアンダーコー
ト形成室中へのシラン及び酸素の流速を調整することに
よって容易に行われた。これもオーバーコート層の厚さ
における変動による色変動を著しく軽減する効果を有し
ていた。ハンターａ及びｂ座標は共に＋２〜−２であっ
た。
ｍの厚さ及び１．７７の屈折率を有する不完全に酸化さ
れた酸化ケイ素のアンダーコートを先ず設け、そしてこ
の酸化の不完全状態を保護するためオーバーコートを付
与した。これは実施例１に記載した方法でアンダーコー
ト形成室中へのシラン及び酸素の流速を調整することに
よって容易に行われた。これもオーバーコート層の厚さ
における変動による色変動を著しく軽減する効果を有し
ていた。ハンターａ及びｂ座標は共に＋２〜−２であっ
た。
【００６５】±１０ｎｍ以下のオーバーコートの厚さに
おける変動及び±２ｎｍ以下のアンダーコートの厚さに
おける変動が許容でき、反射で見たとき被覆ガラスの色
相の認めうる変動を生ぜしめなかった。
おける変動及び±２ｎｍ以下のアンダーコートの厚さに
おける変動が許容でき、反射で見たとき被覆ガラスの色
相の認めうる変動を生ぜしめなかった。
【００６６】酸化錫インジウムの低輻射率被覆を５００
ｎｍの厚さに形成した。
ｎｍの厚さに形成した。
【００６７】本発明に従い、本実施例において、８５ｎ
ｍの厚さ及び１．８の屈折率を有する不完全に酸化され
た酸化ケイ素のアンダーコートを先ず設けた、そしてこ
の酸化の不完全状態を保護するためオーバーコートを付
与した。これは実施例１に記載した方法において、アン
ダーコート形成室中へのシラン及び酸素の流速を調整す
ることによって容易に行われた。これもオーバーコート
層の厚さにおける変動による色変動を著しく軽減する効
果を有していた。ハンターａ及びｂ座標は共に＋２〜−
２であった。
ｍの厚さ及び１．８の屈折率を有する不完全に酸化され
た酸化ケイ素のアンダーコートを先ず設けた、そしてこ
の酸化の不完全状態を保護するためオーバーコートを付
与した。これは実施例１に記載した方法において、アン
ダーコート形成室中へのシラン及び酸素の流速を調整す
ることによって容易に行われた。これもオーバーコート
層の厚さにおける変動による色変動を著しく軽減する効
果を有していた。ハンターａ及びｂ座標は共に＋２〜−
２であった。
【００６８】±５ｎｍ以下のオーバーコートの厚さにお
ける変動及び±１ｎｍ以下のアンダーコートの厚さにお
ける変動は許容でき、反射で見たとき被覆ガラスの色相
の認めうる変動は生じなかった。
ける変動及び±１ｎｍ以下のアンダーコートの厚さにお
ける変動は許容でき、反射で見たとき被覆ガラスの色相
の認めうる変動は生じなかった。
【００６９】実施例 ７
フロート室内のアンダーコート形成室中でガラスリボン
を、ガラス上に形成される亜鉛被覆の完全酸化のために
は不充分な量の酸素の存在下に金属亜鉛蒸気と接触させ
ることにより、不完全に酸化された亜鉛の半導体アンダ
ーコートを形成した。
を、ガラス上に形成される亜鉛被覆の完全酸化のために
は不充分な量の酸素の存在下に金属亜鉛蒸気と接触させ
ることにより、不完全に酸化された亜鉛の半導体アンダ
ーコートを形成した。
【００７０】次に半導体ＺｎＯｘアンダーコートを、そ
れが半導体として機能でき、同時に完成品中の電極とし
て作用できるように、不完全に酸化された状態でのＺｎ
Ｏｘ層を保護する作用をするドープした酸化錫から形成
した厚さ５００ｎｍの導電性被覆でオーバーコートした
。
れが半導体として機能でき、同時に完成品中の電極とし
て作用できるように、不完全に酸化された状態でのＺｎ
Ｏｘ層を保護する作用をするドープした酸化錫から形成
した厚さ５００ｎｍの導電性被覆でオーバーコートした
。
【００７１】実施例 ８
フロート室内のガラスリボンに先ず厚さ９０ｎｍの二酸
化ケイ素の下塗層を設けた。これはケイ素の完全酸化に
充分な酸素を使用して、実施例１に記載した方法を変え
て行った。これを行うため、シランは０．２５％の分圧
でシランを下塗層被覆ステーション中に導入し、酸素は
０．５％（比０．５）の分圧で導入した。
化ケイ素の下塗層を設けた。これはケイ素の完全酸化に
充分な酸素を使用して、実施例１に記載した方法を変え
て行った。これを行うため、シランは０．２５％の分圧
でシランを下塗層被覆ステーション中に導入し、酸素は
０．５％（比０．５）の分圧で導入した。
【００７２】この下塗層は、続いて付与されるバナジウ
ムの下級酸化物のアンダーコートのナトリウム被毒を防
ぐ作用をする。二酸化バナジウムのアンダーコートは、
下塗層被覆ステーションの下流で、これもフロート室内
に置いたアンダーコート形成ステーション中で、その下
塗層上に形成される下級酸化物アンダーコート中のバナ
ジウムの完全酸化には不充分な酸素の存在下に、蒸気相
で三塩化バナジウムとガラス上の下塗層を接触させるこ
とによって形成した。
ムの下級酸化物のアンダーコートのナトリウム被毒を防
ぐ作用をする。二酸化バナジウムのアンダーコートは、
下塗層被覆ステーションの下流で、これもフロート室内
に置いたアンダーコート形成ステーション中で、その下
塗層上に形成される下級酸化物アンダーコート中のバナ
ジウムの完全酸化には不充分な酸素の存在下に、蒸気相
で三塩化バナジウムとガラス上の下塗層を接触させるこ
とによって形成した。
【００７３】本発明に従い、二酸化バナジウムを、それ
がなお不完全酸化の状態にある間にオーバーコートで被
覆した。リボンの徐冷前にフロート室の外で、酸化錫の
厚さ５００ｎｍのオーバーコート層を付与した。
がなお不完全酸化の状態にある間にオーバーコートで被
覆した。リボンの徐冷前にフロート室の外で、酸化錫の
厚さ５００ｎｍのオーバーコート層を付与した。
【図１】フロート室内に置いたアンダーコート形成装置
の横断面図である。
の横断面図である。
【図２】図１のアンダーコート形成装置の縦断面図であ
る。
る。
【図３】アンダーコート形成装置の平面略図である。
【図４】アンダーコート形成ステーションに供給する供
給ラインへのアンダーコート試薬の供給を示す図である
。
給ラインへのアンダーコート試薬の供給を示す図である
。
１ ガラスリボン及び通路
２ 溶融金属浴
３ フロート室
４ アンダーコート形成ステーション５ フード
６ アンダーコート形成室
７ 供給ライン
８ チムニー
９ 第一ベンチユリ
１０ 第一絞り
１１ 第二ベンチユリ
１２ 絞り
１３ 流れ制御ブロック
１４ 出口スロット
１５ 冷却ジャケット
１６ 冷却水入口
１７ 冷却水出口
１９ 支柱
２０ 周囲通路
２１ スカート
Claims (22)
- 【請求項１】 熱ガラス基体を酸素の存在下に被覆プ
リカーサー材料と接触させることにより、送行する熱ガ
ラス基体上に熱分解的に形成された酸化物層を含有する
被覆を形成する方法において、前記被覆の酸化物下層（
アンダーコート）を、基体上にアンダーコート材料の完
全酸化のためには不充分な量の酸素の存在下に、アンダ
ーコートプリカーサー材料と基体をアンダーコート形成
室中で接触させることにより不完全に酸化された状態で
熱分解的に形成し、かかるアンダーコートを、それがま
だ不完全に酸化された状態にあり、かつ基体がまだ熱い
間に上被覆層でオーバーコートし、これによって不完全
に酸化された状態にあるかかるアンダーコートを保護す
ることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 前記アンダーコートプリカーサー材料
を新しく形成された平板ガラスによって構成された熱ガ
ラス基体の上面と接触させるように持って行くことを特
徴をする請求項１の方法。 - 【請求項３】 前記アンダーコート形成室が還元性雰
囲気でとりかこまれていることを特徴とする請求項１又
は２の方法。 - 【請求項４】 前記アンダーコートプリカーサー材料
を、フロートガラスを製造するフロート室内に位置した
前記アンダーコート形成室中で熱フロートガラス基体の
上面と接触させるように持って行くことを特徴とする請
求項２又は３の方法。 - 【請求項５】 フロート室内で被覆が形成されていな
いとき、ガラスがフロート室を出るときの温度より少な
くとも５０℃、好ましくは少なくとも１００℃高い温度
をガラスが有するようにフロート室に沿った位置でアン
ダーコートプリカーサー材料をガラスに接触させること
を特徴とする請求項４の方法。 - 【請求項６】 基体が少なくとも４００℃の温度でア
ンダーコート形成室に到達することを特徴とする請求項
１〜５の何れか１項の方法。 - 【請求項７】 アンダーコートプリカーサー材料を最
初にガラスが少なくとも６５０℃の温度を有するときガ
ラスに接触させることを特徴とする請求項６の方法。 - 【請求項８】 前記酸素が分子状酸素の形で存在する
ことを特徴とする請求項１〜７の何れか１項の方法。 - 【請求項９】 アンダーコート形成室に酸素を導入す
るため空気をアンダーコート形成室に供給することを特
徴とする請求項８の方法。 - 【請求項１０】 前記アンダーコートプリカーサー材
料を、ガラス上に酸化ケイ素アンダーコートを形成する
ためケイ素を含有するよう選択することを特徴とする請
求項１〜９の何れか１項の方法。 - 【請求項１１】 アンダーコートプリカーサー材料が
シランを含有することを特徴とする請求項１０の方法。 - 【請求項１２】 シラン含有アンダーコートプリカー
サー材料を、それをガラスに接触させる前に酸素と均質
に混合することを特徴とする請求項１１の方法。 - 【請求項１３】 アンダーコートプリカーサー材料と
してのシランを、実質的に不活性なキヤリヤーガス流中
の蒸気相でアンダーコート形成室に向って搬送し、酸素
を、シラン含有キヤリヤーガス流がアンダーコート形成
室中に入る前にシラン含有キヤリヤーガス流中に導入す
ることを特徴とする請求項１１又は１２の方法。 - 【請求項１４】 実質的に不活性なキヤリヤーガスと
して窒素を使用することを特徴とする請求項１３の方法
。 - 【請求項１５】 キヤリヤーガス及びシランの均質混
合を確実にするため、乱流をキヤリヤーガス流中に誘起
させることを特徴とする請求項１３又は１４の方法。 - 【請求項１６】 シラン含有キヤリヤーガス及び酸素
の均質混合を確実にするため、キヤリヤーガス流に酸素
の導入後キヤリヤーガス流中に乱流を誘起させることを
特徴とする請求項１３又は１４の方法。 - 【請求項１７】 アンダーコートプリカーサー材料と
してのシランを、０．１％〜１．５％の分圧でアンダー
コート形成室中に導入することを特徴とする請求項１〜
１６の何れか１項の方法。 - 【請求項１８】 アンダーコートプリカーサー材料と
してのシランを、０．１％〜０．４％の分圧でアンダー
コート形成室中に導入することを特徴とする請求項１７
の方法。 - 【請求項１９】 アンダーコートプリカーサー材料が
ガラスに向って送行するに従い、アンダーコートプリカ
ーサー材料への熱エネルギーの伝達を制限する工程をと
ることを特徴とする請求項１〜１８の何れか１項の方法
。 - 【請求項２０】 アンダーコートプリカーサー材料を
、ガラス上に形成されるべきアンダーコートの幅の少な
くとも主部分を横切って延びる又は共に延びる少なくと
も一つのスロットを介してガラスに接触させるため供給
することを特徴とする請求項１〜１９の何れか１項の方
法。 - 【請求項２１】 アンダーコートプリカーサー材料を
前記アンダーコート形成室内でガラスに接触させ、室は
基体通路及び下方に向って開いたフードによって規定し
、アンダーコート形成室を実質的にその周囲全体のまわ
りで吸気することを特徴とする請求項１〜２０の何れか
１項の方法。 - 【請求項２２】 かかる吸気が、アンダーコート形成
室の全周囲を実質的にとりまく周囲大気の内側へ向う流
れを誘起することを特徴とする請求項２１の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9019069 | 1990-08-31 | ||
| GB9019069A GB2247691B (en) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | Method of coating glass |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04270144A true JPH04270144A (ja) | 1992-09-25 |
| JP3214713B2 JP3214713B2 (ja) | 2001-10-02 |
Family
ID=10681474
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24262891A Expired - Lifetime JP3214713B2 (ja) | 1990-08-31 | 1991-08-27 | ガラスを被覆する方法 |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5203903A (ja) |
| JP (1) | JP3214713B2 (ja) |
| AT (1) | AT404935B (ja) |
| BE (1) | BE1005317A5 (ja) |
| CA (1) | CA2049441C (ja) |
| CH (1) | CH682745A5 (ja) |
| DE (1) | DE4128600A1 (ja) |
| ES (1) | ES2049135B1 (ja) |
| FR (1) | FR2666325B1 (ja) |
| GB (1) | GB2247691B (ja) |
| IT (1) | IT1249989B (ja) |
| LU (1) | LU87997A1 (ja) |
| NL (1) | NL194963C (ja) |
| NO (1) | NO303280B1 (ja) |
| SE (1) | SE501632C2 (ja) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2268509B (en) * | 1992-07-11 | 1996-01-31 | Pilkington Uk Ltd | Coatings on glass |
| US5580364A (en) * | 1992-07-11 | 1996-12-03 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method of producing a coated glass substrate exhibiting reflected color |
| DE4237921A1 (de) * | 1992-10-23 | 1994-04-28 | Flachglas Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Modifizieren der Oberflächenaktivität eines Silikatglassubstrates |
| GB9300400D0 (en) * | 1993-01-11 | 1993-03-03 | Glaverbel | A device and method for forming a coating by pyrolysis |
| GB9400323D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
| GB9400319D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
| GB9400320D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coating on glass |
| GB9408359D0 (en) * | 1994-04-27 | 1994-06-15 | Glaverbel | Glazing panel and process for forming the same |
| US5721054A (en) * | 1994-04-27 | 1998-02-24 | Glaverbel | Glazing panel and process for forming the same |
| US5729323A (en) * | 1994-07-29 | 1998-03-17 | Baush & Lomb Incorporated | Light-absorbing and anti-reflective coating for sunglasses |
| CA2159296C (en) * | 1994-10-14 | 2007-01-30 | Michel J. Soubeyrand | Glass coating method and glass coated thereby |
| US6231971B1 (en) | 1995-06-09 | 2001-05-15 | Glaverbel | Glazing panel having solar screening properties |
| CA2178032A1 (en) * | 1995-06-09 | 1996-12-10 | Robert Terneu | Glazing panel having solar screening properties |
| GB9806030D0 (en) * | 1998-03-20 | 1998-05-20 | Glaverbel | Solar control coated substrate with high reflectance |
| GB2355273A (en) * | 1999-10-12 | 2001-04-18 | Pilkington Plc | Coating glass |
| DE10016108C2 (de) * | 2000-03-31 | 2002-09-26 | Schott Glas | Heißformgebungsverfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Glaskörpers sowie dessen Verwendung |
| CN100340512C (zh) * | 2005-11-08 | 2007-10-03 | 浙江大学蓝星新材料技术有限公司 | 浮法玻璃在线镀膜装置 |
| FI20060288A0 (fi) * | 2006-03-27 | 2006-03-27 | Abr Innova Oy | Pinnoitusmenetelmä |
| WO2008044179A1 (en) * | 2006-10-12 | 2008-04-17 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Biosensors and preparation thereof |
| CN101618952B (zh) * | 2009-07-30 | 2011-08-17 | 杭州蓝星新材料技术有限公司 | 浮法在线生产透明导电膜玻璃的方法 |
| BE1019988A3 (fr) | 2011-05-24 | 2013-03-05 | Agc Glass Europe | Substrat verrier transparent portant un revetement de couches successives. |
| DE102011076830A1 (de) * | 2011-05-31 | 2012-12-06 | Innovent E.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Floatglasbandes |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1136218A (en) * | 1965-12-14 | 1968-12-11 | Standard Telephones Cables Ltd | Improvements in or relating to the manufacture of semiconductor optical devices |
| FR1596613A (ja) * | 1967-11-20 | 1970-06-22 | ||
| US4129434A (en) * | 1971-07-08 | 1978-12-12 | Glaverbell | Process for forming a metal oxide coating |
| GB1524326A (en) * | 1976-04-13 | 1978-09-13 | Bfg Glassgroup | Coating of glass |
| DE2646513C2 (de) * | 1976-10-15 | 1984-10-04 | Bfg Glassgroup, Paris | Verfahren zur Herstellung einer wärmereflektierenden Natron-Kalk-Silikatglasscheibe |
| US4100330A (en) * | 1977-03-28 | 1978-07-11 | Ppg Industries, Inc. | Method for coating glass with silicon and a metal oxide and resulting product |
| BE879189A (fr) * | 1978-10-19 | 1980-04-04 | Bfg Glassgroup | Procede de formation d'un revetement d'oxyde d'etain sur un support de verre chaud et produits ainsi obtenus |
| JPS5826052A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-16 | Asahi Glass Co Ltd | アルカリ拡散防止酸化ケイ素膜付ガラス体 |
| DE3300589A1 (de) * | 1983-01-11 | 1984-07-12 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz | Verfahren zur herstellung von indiumoxid-zinnoxid-schichten |
| GB8420534D0 (en) * | 1984-08-13 | 1984-09-19 | Pilkington Brothers Plc | Coated products |
| FR2581056B1 (fr) * | 1985-04-24 | 1987-06-05 | Saint Gobain Vitrage | Revetement du verre fabrique dans une installation de flottage par des composes pyrolisables en poudre |
| GB8630918D0 (en) * | 1986-12-24 | 1987-02-04 | Pilkington Brothers Plc | Coatings on glass |
| GB8814922D0 (en) * | 1988-06-23 | 1988-07-27 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
| GB8824104D0 (en) * | 1988-10-14 | 1988-11-23 | Pilkington Plc | Process for coating glass |
| GB8914047D0 (en) * | 1989-06-19 | 1989-08-09 | Glaverbel | Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate |
-
1990
- 1990-08-31 GB GB9019069A patent/GB2247691B/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-07-25 NO NO912905A patent/NO303280B1/no not_active IP Right Cessation
- 1991-08-13 ES ES09101876A patent/ES2049135B1/es not_active Expired - Fee Related
- 1991-08-19 US US07/746,728 patent/US5203903A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-08-19 IT ITTO910651A patent/IT1249989B/it active IP Right Grant
- 1991-08-19 CA CA002049441A patent/CA2049441C/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-08-21 FR FR9110545A patent/FR2666325B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1991-08-22 BE BE9100774A patent/BE1005317A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1991-08-26 AT AT0167891A patent/AT404935B/de not_active IP Right Cessation
- 1991-08-27 JP JP24262891A patent/JP3214713B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1991-08-27 NL NL9101446A patent/NL194963C/nl not_active IP Right Cessation
- 1991-08-28 LU LU87997A patent/LU87997A1/fr unknown
- 1991-08-28 DE DE4128600A patent/DE4128600A1/de not_active Ceased
- 1991-08-28 CH CH2520/91A patent/CH682745A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1991-08-30 SE SE9102490A patent/SE501632C2/sv not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL194963B (nl) | 2003-05-01 |
| LU87997A1 (fr) | 1992-03-03 |
| ES2049135A1 (es) | 1994-04-01 |
| NO912905D0 (no) | 1991-07-25 |
| ITTO910651A1 (it) | 1993-02-19 |
| SE9102490D0 (sv) | 1991-08-30 |
| JP3214713B2 (ja) | 2001-10-02 |
| NL9101446A (nl) | 1992-03-16 |
| IT1249989B (it) | 1995-03-30 |
| US5203903A (en) | 1993-04-20 |
| AT404935B (de) | 1999-03-25 |
| CA2049441A1 (en) | 1992-03-01 |
| SE9102490L (sv) | 1992-03-01 |
| GB2247691A (en) | 1992-03-11 |
| ITTO910651A0 (it) | 1991-08-19 |
| CH682745A5 (fr) | 1993-11-15 |
| NL194963C (nl) | 2003-09-02 |
| CA2049441C (en) | 2002-10-15 |
| FR2666325B1 (fr) | 1993-12-31 |
| SE501632C2 (sv) | 1995-04-03 |
| GB2247691B (en) | 1994-11-23 |
| NO912905L (no) | 1992-03-02 |
| FR2666325A1 (fr) | 1992-03-06 |
| NO303280B1 (no) | 1998-06-22 |
| BE1005317A5 (fr) | 1993-06-29 |
| ATA167891A (de) | 1998-08-15 |
| ES2049135B1 (es) | 1994-10-16 |
| DE4128600A1 (de) | 1992-03-05 |
| GB9019069D0 (en) | 1990-10-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04270144A (ja) | ガラスを被覆する方法 | |
| CA2019191C (en) | Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate | |
| US4847157A (en) | Glass coating method and resulting article | |
| US4661381A (en) | Continuous vapor deposition method for producing a coated glass article | |
| CA1337165C (en) | Chemical vapor deposition of tin oxide on float glass in the tin bath | |
| RU2194089C2 (ru) | Способ получения покрытия из оксида олова на стекле | |
| KR100493566B1 (ko) | 판 글래스상에 산화 티타늄 코팅을 증착시키는 방법과 그에 따라 코팅된 글래스 | |
| RU2302393C2 (ru) | Химическое осаждение из газовой фазы оксида металла, легированного сурьмой | |
| US5322540A (en) | Method of depositing pyrolyzed films having improved performance and glazing pane coated with the same | |
| US5395698A (en) | Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making | |
| JPS6210943B2 (ja) | ||
| JP2009531264A (ja) | 元の表面の組成を変えることによる機能性ガラス表面の形成方法 | |
| CA1138725A (en) | Glass coating | |
| US5221352A (en) | Apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate | |
| US4946712A (en) | Glass coating method and resulting article | |
| US4835040A (en) | Continuous vapor deposition method for producing a coated glass article | |
| JP4315363B2 (ja) | 薄膜形成方法 | |
| EP3417088B1 (en) | Chemical vapor deposition process for depositing a coating | |
| US20230202912A1 (en) | Method of making a reflective coated glass article | |
| WO2017137773A1 (en) | Chemical vapor deposition process for depositing a mixed metal oxide coating and the coated article formed thereby | |
| FI89585C (fi) | Kontinuerligt aongavlagringsfoerfarande foer framstaellning av en belagd glasprodukt | |
| JPS61194181A (ja) | 基体上に薄層を形成する方法 | |
| TH22464B (th) | วิธีสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์และไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบและแก้วที่เคลือบแล้ว | |
| TH34992A (th) | วิธีสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์และไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบและแก้วที่เคลือบแล้ว |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20010703 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070727 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080727 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080727 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090727 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090727 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100727 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110727 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110727 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120727 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120727 Year of fee payment: 11 |