TH34992A - วิธีสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์และไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบและแก้วที่เคลือบแล้ว - Google Patents

วิธีสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์และไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบและแก้วที่เคลือบแล้ว

Info

Publication number
TH34992A
TH34992A TH9701003275A TH9701003275A TH34992A TH 34992 A TH34992 A TH 34992A TH 9701003275 A TH9701003275 A TH 9701003275A TH 9701003275 A TH9701003275 A TH 9701003275A TH 34992 A TH34992 A TH 34992A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
coating
titanium oxide
tin
glass
substrate
Prior art date
Application number
TH9701003275A
Other languages
English (en)
Other versions
TH22464B (th
Inventor
เจมส์ เฮิร์สท์ นายไซมอน
วิลเลียม ชีล นายเดวิด
เจ แม็คเคอร์ดี้ นายริชาร์ด
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
พิลคิงตัน พีแอลซี
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา, พิลคิงตัน พีแอลซี filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH34992A publication Critical patent/TH34992A/th
Publication of TH22464B publication Critical patent/TH22464B/th

Links

Abstract

DC60 กระบวนการฉาบเคลือบไอเคมีสำหรับการวางสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์ลงบน แก้วเรียบที่ร้อนโดยการใช้สารประกอบอินทรีย์ที่มีออกซิเจนและเมททอลเตตระคอลไรด์ที่ เกี่ยวข้อง สารประกอบออกซิเจนอินทรีย์ที่นิยมคือเอสเทอร์ที่มีกลุ่มอัลคิลซึ่งมีไฮโดรเจน เบต้าเพื่อที่จะได้อัตราการฉาบติดสูง เนื่องจากอัตราฉาบสูงที่สามารถได้รับ โดยทั่วไป อย่างน้อย 130 อังสตรอมต่อนาที กระบวนการจะเหมาะสมสำหรับฉาบสารเคลือบความหนา มากบนสายการผลิตที่เคลื่อนที่ของแก้วลอยระหว่างกระบวนการผลิตแก้ว กระบวนการฉาบเคลือบไอเคมีสำหรับการวางสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์ลงบน แก้วเรียบที่ร้อนโดยการใช้สารประกอบอินทรีย์ที่มีออกซิเจนและเมททอลเตตระคอลไรด์ที่ เกี่ยวข้อง สารประกอบออกซิเจนอินทรีย์ที่นิยมคือเอสเทอร์ที่มีกลุ่มอัลคิลซึ่งมีไฮโดรเจน เบต้าเพื่อที่จะได้อัตราการฉาบติดสูง เนื่องจากอัตราฉาบสูงที่สามารถได้รับ โดยทั่วไป อย่างน้อย 130 อังสตรอมต่อนาที กระบวนการจะเหมาะสมสำหรับฉาบสารเคลือบความหนา มากบนสายการผลิตที่เคลื่อนที่ของแก้วลอยระหว่างกระบวนการผลิตแก้ว

Claims (25)

1. กระบวนการสำหรับฉาบ (depositing) สารเคลือบดีบุกออกไซด์หรือไทเทนียมออกไซด์ บนแก้วเรียบร้อนประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ a) การเตรียมของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่มีเมททอลเตตระคลอไรด์ที่สอดคล้องกัน และ สารประกอบอินทรีย์ที่มีออกซิเจนเป็นแหล่งของออกซิเจนสำหรับการสร้างโลหะ ออกไซด์ b) การรักษาของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ดังกล่าวที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิซึ่งเมททอล คอลไรด์ทำปฏิกิริยาเพื่อสร้างเป็นโลหะออกไซด์ในขณะที่ส่งของผสมไปยังช่องเปิด ห้องเคลือบบนแก้วร้อน c) การป้อนของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์สู่ห้องเคลือบโดยที่ของผสมจะถูกให้ความร้อน เพื่อทำให้เกิดการฉาบของโลหะออกไซด์ที่สอดคล้องกัน ซึ่งรวมกับออกซิเจน จากสารประกอบอินทรีย์บนผิวแก้วร้อน
2. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์หรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้ว เรียบร้อนตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ซึ่งสารประกอบอินทรีย์ซึ่งมีออกซิเจนที่ได้กล่าวมาแล้ว คือ เอสเทอร์ ที่มีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม และซึ่งเอสเทอร์มีความเข้มข้นโดยปริมาตร 0.5 ถึง 5 เท่า ของความ เข้มข้นโดยปริมาตรของเมททอลเตตระคลอไรด์
3. กระบวนการสำหรับฉาบเคลือบดีบุกออกไซด์หรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้ว เรียบร้อนตามข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ซึ่งเอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้ว คือ เอสเทอร์ที่มีกลุ่มอัลคิลซึ่งมี ไฮโดรเจนเบต้า
4. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งเอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้วจะถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบ ด้วย เอธิลฟอร์เมท เอธิอะซิเตท เอธิลโพรพิโนเอท ไอโซโพรพิลฟอร์เมท ไอโซโพรพิลอะซิเตท เอ็น-บิวทิลอะซิเตท และที-บิวทิลอะซิเตท
5. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งซับสเตท คือ ริบบิ้นแก้วลอยที่มีอุณหภูมิในช่วง 1100 - 1320 องศาฟาเรนไฮต์/590 - 715 องศาเซลเซียส
6. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์ตามข้อถือสิทธิก่อน หน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งเมททอลเตตระคลอไรด์ในของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์มีความเข้มข้น 0.1 - 5.0 เปอร์เซ็นต์โดยปริมาตร
7. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งสารประกอบอินทรีย์ที่มีออกซิเจนในของผสมแก๊ส พรีเคอร์เซอร์มีความเข้มข้น 1 ถึง 5 เท่าของความเข้มข้นของเมททอลเตตระคลอไรด์
8. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งเอสเทอร์ดังกล่าว คือ เอธิลอะซิเตท และแก้วเรียบร้อน ดังกล่าว คือ ริบบิ้นแก้วลอย
9. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งซับสเตทแก้วเรียบร้อนมีสารเคลือบซิลิกาบนนั้น และ สารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์ดังกล่าวจะถูกฉาบบนสารเคลือบซิลิกา
10. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งซับสเตทแก้วเรียบร้อนมีสารเคลือบซิลิกาอยู่บน สารเคลือบซิลิกอน และสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์ดังกล่าวจะถูกฉาบบนสารเคลือบ ซิลิกา
11. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบไทเทเนียมออกไซด์บนซับสเตทบนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งสารเคลือบไทเทเนียมออกไซด์ดังกล่าวมีดัชนีหักเห มากกว่า 2.4
12. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์มีปริมาณ คาร์บอนส่วนที่เหลือน้อยกว่า 4 เปอร์เซ็นต์โดยอะตอม
13. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ดังกล่าวรวมถึงฮีเลียมที่เป็น แก๊สตัวพา
14. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ถึง 13 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งเอสเทอร์มีกลุ่มอัลคิลที่มีคาร์บอนอะตอม 2 - 10 อะตอม
15. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งฟิล์มดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์จะถูกฉาบที่อัตรา อย่างน้อย 130 อังสตรอมต่อวินาที
16. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนซับสเตทที่อัตรา การฉาบสูงเป็นกระบวนการตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ a) การเตรียมของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่มีดีบุกหรือไทเทเนียมเตตระคลอไรด์ และ เอสเทอร์ เอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้วที่มีกลุ่มอัลคิลซึ่งมีไฮโดรเจนเบต้า b) การส่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิการสลายตัวโดยความร้อน ของเอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้ว ไปยังตำแหน่งใกล้กับซับสเตทที่จะเคลือบซับสเตทที่ได้ กล่าวมาแล้วที่อุณหภูมิมากกว่าอุณหภูมิการสลายตัวโดยความร้อนของเอสเทอร์ที่ได้ กล่าวมาแล้ว และ c) การป้อนของผสมแก็สพรีเคอร์เซอร์สู่ช่องว่างไอที่อยู่เหนือซับสเตทที่ได้กล่าวมาแล้ว ซึ่งเอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้วจะสลายตัวโดยความร้อน และเริ่มปฏิกิริยากับเมททอล เตตระคลอไรด์ดังกล่าวเพื่อสร้างเป็นสารเคลือบเมททอลออกไซด์บนซับสเตทที่ได้กล่าว มาแล้ว
17. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 17 ซึ่งซับสเตทคือริบบิ้นแก้วลอย
18. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 16 หรือข้อที่ 17 ซึ่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์จะถูก ส่งไปยังซับสเตทที่ตำแหน่งซึ่งอุณหภูมิซับสเตทอยู่ในช่วง 1100 - 1320 องศาฟาเรนไฮต์
19. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบไทเทเนียมออกไซด์บนซับสเตทที่อัตราการฉาบสูง ประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ a) การเตรียมของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่มีไทเทเนียมเตตระคลอไรด์และเอสเทอร์ เอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้วที่มีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม และที่มีกลุ่มอัลคิล ซึ่งมีไฮโดรเจนเบต้า b) การส่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิการสลายตัวโดยความร้อน ของเอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้วไปยังตำแหน่งใกล้กับซับสเตทที่จะเคลือบซับสเตทที่ได้ กล่าวมาแล้ว ที่อุณหภูมิมากกว่าอุณหภูมิการสลายตัวโดยความร้อนของเอสเทอร์ที่ได้ กล่าวมาแล้ว และ c) การป้อนของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์สู่ช่องว่างไอที่อยู่เหนือซับสเตทที่ได้กล่าวมาแล้ว ซึ่งเอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้วจะสลายตัวโดยความร้อน และโดยวิธีนั้นเริ่มปฏิกิริยากับ ไทเทเนียมเตตระคลอไรด์เพื่อสร้างเป็นสารเคลือบไทเทเนียมออกไซด์บนซับสเตทที่ได้ กล่าวมาแล้ว
20. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 19 ซึ่งซับสเตทคือริบบิ้นแก้วลอย
21. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 19 หรือข้อที่ 20 ซึ่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์จะถูกส่ง ไปยังซับสเตทที่ตำแหน่งซึ่งอุณหภูมิซับสเตทอยู่ในช่วง 1100 - 1320 องศาฟาเรนไฮต์
22. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์จะทำให้ไหลเหนือผิวแก้ว ที่จะถูกเคลือบภายใต้สภาวะการไหลลามินาร์
23. ซับสเตทแก้วที่มีสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนนั้น ที่เตรียมโดยกระบวน การตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง
24. ซับสเตทแก้วที่มีสารเคลือบซิลิกอนและซิลิกาบนนั้นที่มีสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียม ออกไซด์บนสารเคลือบซิลิกาที่ได้กล่าวมาแล้ว, สารเคลือบออกไซด์ดังกล่าวที่เตรียมโดยกระบวนการ ตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง ข้อที่ 23
25. การใช้เอสเทอร์ที่เป็นแหล่งของออกซิเจนสำหรับการสร้างเมททอลออกไซด์ในกระบวน การสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์ หรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ซึ่งประกอบรวม ด้วยขั้นตอนของ a) การเตรียมของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่มีเมททอลเตตระคลอไรด์ที่สอดคล้องกันและ แหล่งของออกซิเจน b) การรักษาของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ดังกล่าว ที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิที่ซึ่งเมททอล คลอไรด์ทำปฏิกิริยา เพื่อสร้างเมททอลออกไซด์ในขณะที่ส่งของผสมไปยังช่องเปิดของ ห้องเคลือบบนแก้วร้อน c) การป้อนของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ไปในห้องเคลือบ โดยที่ของผสมถูกทำให้ร้อนเพื่อ ทำให้เกิดการสลายตัวของเมททอลออกไซด์ที่สอดคล้องกันบนผิวแก้วร้อน
TH9701003275A 1997-08-13 วิธีสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์และไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบและแก้วที่เคลือบแล้ว TH22464B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH34992A true TH34992A (th) 1999-09-21
TH22464B TH22464B (th) 2007-09-03

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4224137B2 (ja) 平坦なガラス上に酸化スズコーティングおよび酸化チタンコーティングを堆積する方法およびこの方法により得られた被覆されたガラス
KR20030092075A (ko) 안티몬 도핑된 금속 산화물의 화학 증착 방법
US8734903B2 (en) Process for forming a silica coating on a glass substrate
EP1725504B1 (en) Method for depositing gallium oxide coatings on flat glass
JP6039402B2 (ja) 酸化亜鉛被覆物品の作成方法
AU2006288933B2 (en) Deposition process
JP2009536144A (ja) 基板上に酸化亜鉛コーティングを堆積させる方法
TH22464B (th) วิธีสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์และไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบและแก้วที่เคลือบแล้ว
US7670647B2 (en) Method for depositing zinc oxide coatings on flat glass
JP4824011B2 (ja) 酸化アルミニウム被膜の製造方法
US20090214858A1 (en) Magnesium oxide coated glass article and a method for depositing magnesium oxide coatings on flat glass
US20110086235A1 (en) Methods of nucleation control in film deposition
JP2025505728A (ja) コーティングを形成する方法
JP2025519102A (ja) コーティングを形成する方法
EP3417088A1 (en) Chemical vapor deposition process for depositing a coating and the coating formed thereby
WO2021214464A1 (en) Method of making a coated glass article
WO2026047348A1 (en) Process for depositing a coating
EP3191423A1 (en) Chemical vapour deposition process for depositing a titanium oxide coating
EP2744761A1 (en) Tantalum oxide coatings
JPS58115025A (ja) 酸化錫膜の形成方法
EP3676416A1 (en) Chemical vapor deposition process for forming a silicon oxide coating
WO2017137773A1 (en) Chemical vapor deposition process for depositing a mixed metal oxide coating and the coated article formed thereby
TW223618B (en) Method for coating glass substrates
MXPA99001459A (es) Metodo para depositar revestimientos de oxido de estaño y oxidos de titanio en vidrio plano y el vidrio con revestimiento resultante
MXPA98002841A (en) Coating of glass