TH22464B - วิธีสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์และไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบและแก้วที่เคลือบแล้ว - Google Patents
วิธีสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์และไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบและแก้วที่เคลือบแล้วInfo
- Publication number
- TH22464B TH22464B TH9701003275A TH9701003275A TH22464B TH 22464 B TH22464 B TH 22464B TH 9701003275 A TH9701003275 A TH 9701003275A TH 9701003275 A TH9701003275 A TH 9701003275A TH 22464 B TH22464 B TH 22464B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- titanium oxide
- tin
- plastering
- glass
- hot
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract 38
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 31
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract 29
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract 29
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract 28
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract 25
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 22
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract 19
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract 6
- 239000005329 float glass Substances 0.000 claims abstract 5
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 16
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 12
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 6
- -1 methyl tetrachloride Chemical compound 0.000 claims 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 4
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 3
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 2
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical class ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FWGQYSQEVZSZIH-UHFFFAOYSA-N C(=O)OC(C)C.C(C)(=O)OC(C)C Chemical compound C(=O)OC(C)C.C(C)(=O)OC(C)C FWGQYSQEVZSZIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 claims 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- MEUKEBNAABNAEX-UHFFFAOYSA-N hydroperoxymethane Chemical compound COO MEUKEBNAABNAEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 239000011505 plaster Substances 0.000 claims 1
- WMOVHXAZOJBABW-UHFFFAOYSA-N tert-butyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(C)(C)C WMOVHXAZOJBABW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 1
- FKKZHUMXIJMSGP-UHFFFAOYSA-N Cl.Cl.Cl.Cl.OC Chemical compound Cl.Cl.Cl.Cl.OC FKKZHUMXIJMSGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 abstract 2
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 abstract 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 2
- 150000004831 organic oxygen compounds Chemical class 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 กระบวนการฉาบเคลือบไอเคมีสำหรับการวางสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์ลงบน แก้วเรียบที่ร้อนโดยการใช้สารประกอบอินทรีย์ที่มีออกซิเจนและเมททอลเตตระคอลไรด์ที่ เกี่ยวข้อง สารประกอบออกซิเจนอินทรีย์ที่นิยมคือเอสเทอร์ที่มีกลุ่มอัลคิลซึ่งมีไฮโดรเจน เบต้าเพื่อที่จะได้อัตราการฉาบติดสูง เนื่องจากอัตราฉาบสูงที่สามารถได้รับ โดยทั่วไป อย่างน้อย 130 อังสตรอมต่อนาที กระบวนการจะเหมาะสมสำหรับฉาบสารเคลือบความหนา มากบนสายการผลิตที่เคลื่อนที่ของแก้วลอยระหว่างกระบวนการผลิตแก้ว กระบวนการฉาบเคลือบไอเคมีสำหรับการวางสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์ลงบน แก้วเรียบที่ร้อนโดยการใช้สารประกอบอินทรีย์ที่มีออกซิเจนและเมททอลเตตระคอลไรด์ที่ เกี่ยวข้อง สารประกอบออกซิเจนอินทรีย์ที่นิยมคือเอสเทอร์ที่มีกลุ่มอัลคิลซึ่งมีไฮโดรเจน เบต้าเพื่อที่จะได้อัตราการฉาบติดสูง เนื่องจากอัตราฉาบสูงที่สามารถได้รับ โดยทั่วไป อย่างน้อย 130 อังสตรอมต่อนาที กระบวนการจะเหมาะสมสำหรับฉาบสารเคลือบความหนา มากบนสายการผลิตที่เคลื่อนที่ของแก้วลอยระหว่างกระบวนการผลิตแก้ว
Claims (5)
1. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 19 หรือข้อที่ 20 ซึ่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์จะถูกส่ง ไปยังซับสเตทที่ตำแหน่งซึ่งอุณหภูมิซับสเตทอยู่ในช่วง 1100 - 1320 องศาฟาเรนไฮต์ 2
2. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์จะทำให้ไหลเหนือผิวแก้ว ที่จะถูกเคลือบภายใต้สภาวะการไหลลามินาร์ 2
3. ซับสเตทแก้วที่มีสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนนั้น ที่เตรียมโดยกระบวน การตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง 2
4. ซับสเตทแก้วที่มีสารเคลือบซิลิกอนและซิลิกาบนนั้นที่มีสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียม ออกไซด์บนสารเคลือบซิลิกาที่ได้กล่าวมาแล้ว, สารเคลือบออกไซด์ดังกล่าวที่เตรียมโดยกระบวนการ ตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง ข้อที่ 23 2
5. การใช้เอสเทอร์ที่เป็นแหล่งของออกซิเจนสำหรับการสร้างเมททอลออกไซด์ในกระบวน การสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์ หรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ซึ่งประกอบรวม ด้วยขั้นตอนของ a) การเตรียมของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่มีเมททอลเตตระคลอไรด์ที่สอดคล้องกันและ แหล่งของออกซิเจน b) การรักษาของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ดังกล่าว ที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิที่ซึ่งเมททอล คลอไรด์ทำปฏิกิริยา เพื่อสร้างเมททอลออกไซด์ในขณะที่ส่งของผสมไปยังช่องเปิดของ ห้องเคลือบบนแก้วร้อน c) การป้อนของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ไปในห้องเคลือบ โดยที่ของผสมถูกทำให้ร้อนเพื่อ ทำให้เกิดการสลายตัวของเมททอลออกไซด์ที่สอดคล้องกันบนผิวแก้วร้อน
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH34992A TH34992A (th) | 1999-09-21 |
| TH22464B true TH22464B (th) | 2007-09-03 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1094113C (zh) | 在平板玻璃上沉积氧化锡和二氧化钛涂层的方法及所获得的涂覆玻璃 | |
| KR950000690B1 (ko) | 플로우트 유리(float glass)상에 산화 금속 코우팅 부착을 위한 장치 및 방법 | |
| JP4290993B2 (ja) | アンチモン・ドープ金属酸化物の化学蒸着 | |
| DE69709525D1 (de) | Verfahren zur herstellung einer zinnoxidbeschichtung auf glas | |
| JPH04270144A (ja) | ガラスを被覆する方法 | |
| US5773086A (en) | Method of coating flat glass with indium oxide | |
| WO2005092809A1 (en) | Method for depositing gallium oxide coatings on flat glass | |
| JP6039402B2 (ja) | 酸化亜鉛被覆物品の作成方法 | |
| AU2006288933B2 (en) | Deposition process | |
| US20070264429A1 (en) | Method of depositing zinc oxide coatings on a substrate | |
| TH22464B (th) | วิธีสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์และไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบและแก้วที่เคลือบแล้ว | |
| EP2391743B1 (en) | Method of depositing an electrically conductive titanium oxide coating on a substrate | |
| TH34992A (th) | วิธีสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์และไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบและแก้วที่เคลือบแล้ว | |
| US20070264507A1 (en) | Method for depositing zinc oxide coatings on flat glass | |
| JP2025505728A (ja) | コーティングを形成する方法 | |
| JPH0230765A (ja) | 酸化錫被覆の形成方法 | |
| JP2025519102A (ja) | コーティングを形成する方法 | |
| RU2165903C1 (ru) | Способ нанесения оптического покрытия и устройство для его осуществления | |
| EP2744761A1 (en) | Tantalum oxide coatings | |
| JP2009517312A (ja) | 基板上への酸化ルテニウムコーティングの蒸着 | |
| EP3191423A1 (en) | Chemical vapour deposition process for depositing a titanium oxide coating | |
| JPS58125613A (ja) | 酸化錫膜の形成方法 | |
| JPH0723236B2 (ja) | 基体上に薄層を形成する方法 | |
| JPS58208155A (ja) | 光伝送用ガラスフアイバの製造方法 | |
| MXPA99001459A (es) | Metodo para depositar revestimientos de oxido de estaño y oxidos de titanio en vidrio plano y el vidrio con revestimiento resultante |