TH34992A - Method for plastering tin oxide and titanium oxide coatings on smooth and coated glass. - Google Patents

Method for plastering tin oxide and titanium oxide coatings on smooth and coated glass.

Info

Publication number
TH34992A
TH34992A TH9701003275A TH9701003275A TH34992A TH 34992 A TH34992 A TH 34992A TH 9701003275 A TH9701003275 A TH 9701003275A TH 9701003275 A TH9701003275 A TH 9701003275A TH 34992 A TH34992 A TH 34992A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
coating
titanium oxide
tin
glass
substrate
Prior art date
Application number
TH9701003275A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH22464B (en
Inventor
เจมส์ เฮิร์สท์ นายไซมอน
วิลเลียม ชีล นายเดวิด
เจ แม็คเคอร์ดี้ นายริชาร์ด
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
พิลคิงตัน พีแอลซี
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา, พิลคิงตัน พีแอลซี filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH34992A publication Critical patent/TH34992A/en
Publication of TH22464B publication Critical patent/TH22464B/en

Links

Abstract

DC60 กระบวนการฉาบเคลือบไอเคมีสำหรับการวางสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์ลงบน แก้วเรียบที่ร้อนโดยการใช้สารประกอบอินทรีย์ที่มีออกซิเจนและเมททอลเตตระคอลไรด์ที่ เกี่ยวข้อง สารประกอบออกซิเจนอินทรีย์ที่นิยมคือเอสเทอร์ที่มีกลุ่มอัลคิลซึ่งมีไฮโดรเจน เบต้าเพื่อที่จะได้อัตราการฉาบติดสูง เนื่องจากอัตราฉาบสูงที่สามารถได้รับ โดยทั่วไป อย่างน้อย 130 อังสตรอมต่อนาที กระบวนการจะเหมาะสมสำหรับฉาบสารเคลือบความหนา มากบนสายการผลิตที่เคลื่อนที่ของแก้วลอยระหว่างกระบวนการผลิตแก้ว กระบวนการฉาบเคลือบไอเคมีสำหรับการวางสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์ลงบน แก้วเรียบที่ร้อนโดยการใช้สารประกอบอินทรีย์ที่มีออกซิเจนและเมททอลเตตระคอลไรด์ที่ เกี่ยวข้อง สารประกอบออกซิเจนอินทรีย์ที่นิยมคือเอสเทอร์ที่มีกลุ่มอัลคิลซึ่งมีไฮโดรเจน เบต้าเพื่อที่จะได้อัตราการฉาบติดสูง เนื่องจากอัตราฉาบสูงที่สามารถได้รับ โดยทั่วไป อย่างน้อย 130 อังสตรอมต่อนาที กระบวนการจะเหมาะสมสำหรับฉาบสารเคลือบความหนา มากบนสายการผลิตที่เคลื่อนที่ของแก้วลอยระหว่างกระบวนการผลิตแก้วDC60 is a chemical vapor deposition process for laying tin or titanium oxide coatings onto heated flat glass using organic compounds containing oxygen and associated metal tetrachlorides. Popular organic oxygen compounds are esters with alkyl groups containing beta hydrogen to achieve high coating rates. Because of the high coating rates that can be achieved, typically at least 130 angstroms per minute, the process is suitable for applying large coating thicknesses on moving float glass production lines during the glassmaking process.

Claims (25)

1. กระบวนการสำหรับฉาบ (depositing) สารเคลือบดีบุกออกไซด์หรือไทเทนียมออกไซด์ บนแก้วเรียบร้อนประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ a) การเตรียมของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่มีเมททอลเตตระคลอไรด์ที่สอดคล้องกัน และ สารประกอบอินทรีย์ที่มีออกซิเจนเป็นแหล่งของออกซิเจนสำหรับการสร้างโลหะ ออกไซด์ b) การรักษาของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ดังกล่าวที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิซึ่งเมททอล คอลไรด์ทำปฏิกิริยาเพื่อสร้างเป็นโลหะออกไซด์ในขณะที่ส่งของผสมไปยังช่องเปิด ห้องเคลือบบนแก้วร้อน c) การป้อนของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์สู่ห้องเคลือบโดยที่ของผสมจะถูกให้ความร้อน เพื่อทำให้เกิดการฉาบของโลหะออกไซด์ที่สอดคล้องกัน ซึ่งรวมกับออกซิเจน จากสารประกอบอินทรีย์บนผิวแก้วร้อน1. The process for depositing tin oxide or titanium oxide coatings onto heated glass consists of the following steps: a) Preparation of a gas precursor mixture containing the corresponding metal tetrachloride and an oxygen-containing organic compound as the oxygen source for metal oxide formation; b) Maintaining this gas precursor mixture at a temperature below the temperature at which the metal tetrachloride reacts to form metal oxides while feeding the mixture into the coating chamber opening on the heated glass; c) Feeding the gas precursor mixture into the coating chamber where it is heated to create a coating of the corresponding metal oxide, combined with oxygen from the organic compound, on the heated glass surface. 2. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์หรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้ว เรียบร้อนตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ซึ่งสารประกอบอินทรีย์ซึ่งมีออกซิเจนที่ได้กล่าวมาแล้ว คือ เอสเทอร์ ที่มีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม และซึ่งเอสเทอร์มีความเข้มข้นโดยปริมาตร 0.5 ถึง 5 เท่า ของความ เข้มข้นโดยปริมาตรของเมททอลเตตระคลอไรด์2. The process for coating glass with tin oxide or titanium oxide is compliant with claim 1, whereby the aforementioned oxygen-containing organic compounds are esters with 2 to 10 carbon atoms and where the ester concentration by volume is 0.5 to 5 times that of metal tetrachloride. 3. กระบวนการสำหรับฉาบเคลือบดีบุกออกไซด์หรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้ว เรียบร้อนตามข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ซึ่งเอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้ว คือ เอสเทอร์ที่มีกลุ่มอัลคิลซึ่งมี ไฮโดรเจนเบต้า3. The process for coating tin oxide or titanium oxide onto glass is compliant with claim 2, whereby the aforementioned esters are esters containing an alkyl group with beta hydrogen. 4. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งเอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้วจะถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบ ด้วย เอธิลฟอร์เมท เอธิอะซิเตท เอธิลโพรพิโนเอท ไอโซโพรพิลฟอร์เมท ไอโซโพรพิลอะซิเตท เอ็น-บิวทิลอะซิเตท และที-บิวทิลอะซิเตท4. A process for coating tin or titanium oxide onto smooth glass, pursuant to one of the preceding claims, whereby the aforementioned esters shall be selected from a group comprising ethyl formate, ethyl acetate, ethyl propinoate, isopropyl formate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, and t-butyl acetate. 5. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งซับสเตท คือ ริบบิ้นแก้วลอยที่มีอุณหภูมิในช่วง 1100 - 1320 องศาฟาเรนไฮต์/590 - 715 องศาเซลเซียส5. A process for coating tin or titanium oxide onto hot smooth glass, as per one of the prior claims, where the substrate is a float glass ribbon at a temperature of 1100 - 1320 °F/590 - 715 °C. 6. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์ตามข้อถือสิทธิก่อน หน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งเมททอลเตตระคลอไรด์ในของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์มีความเข้มข้น 0.1 - 5.0 เปอร์เซ็นต์โดยปริมาตร6. A process for coating with tin or titanium oxide as per one of the prior claims, in which metal tetrachloride in the precursor gas mixture has a concentration of 0.1 - 5.0 percent by volume. 7. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งสารประกอบอินทรีย์ที่มีออกซิเจนในของผสมแก๊ส พรีเคอร์เซอร์มีความเข้มข้น 1 ถึง 5 เท่าของความเข้มข้นของเมททอลเตตระคลอไรด์7. A process for coating tin or titanium oxide onto smooth glass, pursuant to one of the prior claims, where the oxygen-containing organic compound in the gas mixture precursor has a concentration 1 to 5 times the concentration of metal tetrachloride. 8. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งเอสเทอร์ดังกล่าว คือ เอธิลอะซิเตท และแก้วเรียบร้อน ดังกล่าว คือ ริบบิ้นแก้วลอย8. A process for coating tin or titanium oxide onto hot glass, as per any one of claims 2 through 7, where the ester is ethyl acetate and the hot glass is a glass ribbon. 9. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งซับสเตทแก้วเรียบร้อนมีสารเคลือบซิลิกาบนนั้น และ สารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์ดังกล่าวจะถูกฉาบบนสารเคลือบซิลิกา9. A process for the application of tin or titanium oxide coatings to a smooth glass substrate, pursuant to one of the prior claims, where the smooth glass substrate has a silica coating on it, and such tin or titanium oxide coating is applied to the silica coating. 10. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งซับสเตทแก้วเรียบร้อนมีสารเคลือบซิลิกาอยู่บน สารเคลือบซิลิกอน และสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์ดังกล่าวจะถูกฉาบบนสารเคลือบ ซิลิกา10. A process for coating tin or titanium oxide onto hot-pressed glass, pursuant to one of the preceding claims, whereby the hot-pressed glass substrate has a silica coating on top of the silica coating, and such tin or titanium oxide coating is applied on top of the silica coating. 11. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบไทเทเนียมออกไซด์บนซับสเตทบนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งสารเคลือบไทเทเนียมออกไซด์ดังกล่าวมีดัชนีหักเห มากกว่า 2.411. A process for coating titanium oxide onto a substrate on a smooth glass surface, according to one of the prior claims, where such titanium oxide coating has a refractive index greater than 2.4. 12. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์มีปริมาณ คาร์บอนส่วนที่เหลือน้อยกว่า 4 เปอร์เซ็นต์โดยอะตอม12. A process for coating hot-pressed glass with tin or titanium oxide coatings, pursuant to one of the prior claims, where the tin or titanium oxide coating contains less than 4 percent residual carbon by atom. 13. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ดังกล่าวรวมถึงฮีเลียมที่เป็น แก๊สตัวพา13. A process for coating tin or titanium oxide onto hot smooth glass, as per one of the prior claims, where the precursor gas mixture includes helium as the carrier gas. 14. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ถึง 13 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งเอสเทอร์มีกลุ่มอัลคิลที่มีคาร์บอนอะตอม 2 - 10 อะตอม14. A process for coating tin or titanium oxide onto hot smooth glass, pursuant to any one of claims 2 through 13, in which the ester contains an alkyl group with 2–10 carbon atoms. 15. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งฟิล์มดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์จะถูกฉาบที่อัตรา อย่างน้อย 130 อังสตรอมต่อวินาที15. A process for coating tin or titanium oxide onto hot smooth glass, pursuant to one of the prior claims, whereby the tin or titanium oxide film is coated at a rate of at least 130 angstroms per second. 16. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนซับสเตทที่อัตรา การฉาบสูงเป็นกระบวนการตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ a) การเตรียมของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่มีดีบุกหรือไทเทเนียมเตตระคลอไรด์ และ เอสเทอร์ เอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้วที่มีกลุ่มอัลคิลซึ่งมีไฮโดรเจนเบต้า b) การส่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิการสลายตัวโดยความร้อน ของเอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้ว ไปยังตำแหน่งใกล้กับซับสเตทที่จะเคลือบซับสเตทที่ได้ กล่าวมาแล้วที่อุณหภูมิมากกว่าอุณหภูมิการสลายตัวโดยความร้อนของเอสเทอร์ที่ได้ กล่าวมาแล้ว และ c) การป้อนของผสมแก็สพรีเคอร์เซอร์สู่ช่องว่างไอที่อยู่เหนือซับสเตทที่ได้กล่าวมาแล้ว ซึ่งเอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้วจะสลายตัวโดยความร้อน และเริ่มปฏิกิริยากับเมททอล เตตระคลอไรด์ดังกล่าวเพื่อสร้างเป็นสารเคลือบเมททอลออกไซด์บนซับสเตทที่ได้กล่าว มาแล้ว16. A process for coating tin or titanium oxide onto a substrate at a high coating rate is a process under one of the prior claims, comprising the following steps: a) preparation of a precursor gas mixture containing tin or titanium tetrachloride and aforementioned esters containing alkyl groups with beta hydrogen; b) delivery of the precursor gas mixture at a temperature below the thermal decomposition temperature of the aforementioned esters to a location near the substrate to be coated at a temperature above the thermal decomposition temperature of the aforementioned esters; and c) feeding the precursor gas mixture into the vapor void above the substrate, where the aforementioned esters are thermally decomposed and initiate a reaction with the aforementioned metal tetrachloride to form a metal oxide coating on the substrate. 17. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 17 ซึ่งซับสเตทคือริบบิ้นแก้วลอย17. The process under Claim 17, whose substate is the floating glass ribbon. 18. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 16 หรือข้อที่ 17 ซึ่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์จะถูก ส่งไปยังซับสเตทที่ตำแหน่งซึ่งอุณหภูมิซับสเตทอยู่ในช่วง 1100 - 1320 องศาฟาเรนไฮต์18. The process pursuant to claim 16 or 17, whereby the precursor gas mixture is delivered to the substrate at a location where the substrate temperature is in the range of 1100 - 1320 degrees Fahrenheit. 19. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบไทเทเนียมออกไซด์บนซับสเตทที่อัตราการฉาบสูง ประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ a) การเตรียมของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่มีไทเทเนียมเตตระคลอไรด์และเอสเทอร์ เอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้วที่มีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม และที่มีกลุ่มอัลคิล ซึ่งมีไฮโดรเจนเบต้า b) การส่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิการสลายตัวโดยความร้อน ของเอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้วไปยังตำแหน่งใกล้กับซับสเตทที่จะเคลือบซับสเตทที่ได้ กล่าวมาแล้ว ที่อุณหภูมิมากกว่าอุณหภูมิการสลายตัวโดยความร้อนของเอสเทอร์ที่ได้ กล่าวมาแล้ว และ c) การป้อนของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์สู่ช่องว่างไอที่อยู่เหนือซับสเตทที่ได้กล่าวมาแล้ว ซึ่งเอสเทอร์ที่ได้กล่าวมาแล้วจะสลายตัวโดยความร้อน และโดยวิธีนั้นเริ่มปฏิกิริยากับ ไทเทเนียมเตตระคลอไรด์เพื่อสร้างเป็นสารเคลือบไทเทเนียมออกไซด์บนซับสเตทที่ได้ กล่าวมาแล้ว19. The process for high-rate titanium oxide coating on substrates consists of the following steps: a) preparation of a gas precursor mixture containing titanium tetrachloride and esters; the aforementioned esters contain 2 to 10 carbon atoms and alkyl groups with beta hydrogen; b) delivery of the gas precursor mixture at a temperature below the thermal decomposition temperature of the aforementioned esters to a location near the substrate to be coated at a temperature above the thermal decomposition temperature of the aforementioned esters; and c) feeding the gas precursor mixture into the vapor void above the substrate, where the aforementioned esters thermally decompose and thus initiate a reaction with titanium tetrachloride to form a titanium oxide coating on the substrate. 20. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 19 ซึ่งซับสเตทคือริบบิ้นแก้วลอย20. The process pursuant to Claim 19, whose substate is the floating glass ribbon. 21. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 19 หรือข้อที่ 20 ซึ่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์จะถูกส่ง ไปยังซับสเตทที่ตำแหน่งซึ่งอุณหภูมิซับสเตทอยู่ในช่วง 1100 - 1320 องศาฟาเรนไฮต์21. The process pursuant to claim 19 or 20, whereby the precursor gas mixture is delivered to the substrate at a location where the substrate temperature is in the range of 1100 - 1320 degrees Fahrenheit. 22. กระบวนการสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์จะทำให้ไหลเหนือผิวแก้ว ที่จะถูกเคลือบภายใต้สภาวะการไหลลามินาร์22. A process for coating a tin or titanium oxide coating onto a smooth, hot glass surface, according to one of the prior claims, in which a mixture of precursor gases is caused to flow over the glass surface to be coated under laminar flow conditions. 23. ซับสเตทแก้วที่มีสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียมออกไซด์บนนั้น ที่เตรียมโดยกระบวน การตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง23. A glass substrate coated with tin or titanium oxide, prepared by any of the processes specified in the prior claims. 24. ซับสเตทแก้วที่มีสารเคลือบซิลิกอนและซิลิกาบนนั้นที่มีสารเคลือบดีบุกหรือไทเทเนียม ออกไซด์บนสารเคลือบซิลิกาที่ได้กล่าวมาแล้ว, สารเคลือบออกไซด์ดังกล่าวที่เตรียมโดยกระบวนการ ตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง ข้อที่ 2324. Glass substrates with a silicon and silica coating on them, with a tin or titanium oxide coating on the aforementioned silica coating, such oxide coatings prepared by any of the processes under claims 1 through 23. 25. การใช้เอสเทอร์ที่เป็นแหล่งของออกซิเจนสำหรับการสร้างเมททอลออกไซด์ในกระบวน การสำหรับฉาบสารเคลือบดีบุกออกไซด์ หรือไทเทเนียมออกไซด์บนแก้วเรียบร้อน ซึ่งประกอบรวม ด้วยขั้นตอนของ a) การเตรียมของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ที่มีเมททอลเตตระคลอไรด์ที่สอดคล้องกันและ แหล่งของออกซิเจน b) การรักษาของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ดังกล่าว ที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิที่ซึ่งเมททอล คลอไรด์ทำปฏิกิริยา เพื่อสร้างเมททอลออกไซด์ในขณะที่ส่งของผสมไปยังช่องเปิดของ ห้องเคลือบบนแก้วร้อน c) การป้อนของผสมแก๊สพรีเคอร์เซอร์ไปในห้องเคลือบ โดยที่ของผสมถูกทำให้ร้อนเพื่อ ทำให้เกิดการสลายตัวของเมททอลออกไซด์ที่สอดคล้องกันบนผิวแก้วร้อน25. The use of an oxygen-sourced ester for the formation of metal oxides in the process of coating tin oxide or titanium oxide onto hot glass surfaces, which consists of the following steps: a) Preparation of a precursor gas mixture containing the corresponding metal tetrachloride and an oxygen source; b) Maintaining the precursor gas mixture at a temperature below the temperature at which the metal chloride reacts to form metal oxides while the mixture is fed into the opening of the coating chamber on the hot glass; c) Feeding the precursor gas mixture into the coating chamber, where the mixture is heated to induce the decomposition of the corresponding metal oxides on the hot glass surface.
TH9701003275A 1997-08-13 Method for plastering tin oxide and titanium oxide coatings on smooth and coated glass. TH22464B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH34992A true TH34992A (en) 1999-09-21
TH22464B TH22464B (en) 2007-09-03

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4224137B2 (en) Method for depositing tin oxide and titanium oxide coatings on flat glass and coated glass obtained by this method
KR20030092075A (en) Chemical Vapor Deposition of Antimony-Doped Metal Oxide
US8734903B2 (en) Process for forming a silica coating on a glass substrate
EP1725504B1 (en) Method for depositing gallium oxide coatings on flat glass
JP6039402B2 (en) Method for making zinc oxide coated article
AU2006288933B2 (en) Deposition process
JP2009536144A (en) Method for depositing a zinc oxide coating on a substrate
TH22464B (en) Method for plastering tin oxide and titanium oxide coatings on smooth and coated glass.
US7670647B2 (en) Method for depositing zinc oxide coatings on flat glass
JP4824011B2 (en) Method for producing aluminum oxide coating
US20090214858A1 (en) Magnesium oxide coated glass article and a method for depositing magnesium oxide coatings on flat glass
US20110086235A1 (en) Methods of nucleation control in film deposition
JP2025505728A (en) Method for forming a coating
JP2025519102A (en) Method for forming a coating
EP3417088A1 (en) Chemical vapor deposition process for depositing a coating and the coating formed thereby
WO2021214464A1 (en) Method of making a coated glass article
WO2026047348A1 (en) Process for depositing a coating
EP3191423A1 (en) Chemical vapour deposition process for depositing a titanium oxide coating
EP2744761A1 (en) Tantalum oxide coatings
JPS58115025A (en) Method of forming tin oxide film
EP3676416A1 (en) Chemical vapor deposition process for forming a silicon oxide coating
WO2017137773A1 (en) Chemical vapor deposition process for depositing a mixed metal oxide coating and the coated article formed thereby
TW223618B (en) Method for coating glass substrates
MXPA99001459A (en) Method of depositing tin oxide and titanium oxide coatings on flat glass and the resulting coated glass
MXPA98002841A (en) Coating of glass