JPH04250641A - 金属被膜による半導体パッケージ - Google Patents

金属被膜による半導体パッケージ

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JPH04250641A
JPH04250641A JP3150065A JP15006591A JPH04250641A JP H04250641 A JPH04250641 A JP H04250641A JP 3150065 A JP3150065 A JP 3150065A JP 15006591 A JP15006591 A JP 15006591A JP H04250641 A JPH04250641 A JP H04250641A
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cavity
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般に半導体デハイス、
特に半導体チップまたはダイに関する。
【0002】
【従来の技術】今まで提供された一般タイプのプラスチ
ック・ピン・グリッド・アレイ(PPGA)パッケージ
はプリント回線板の構造に類似しているが、主な相違は
、パッケージが中央に各種のパッケージ層を支える一連
のシェルフを伴う空洞を有すると共にチップにワイヤ・
ボンディングをトレースする点である。低インダクタン
ス電力または下地のワイヤボンド・シェルフに対して、
ボンディング・シェルフの全層は、一般に特殊な電力に
当てられてきた。このタイプのパッケージの一例が図1
に示されている。
【0003】図1に例示されているパッケージは一連の
3段ボンディング・シェルフ、またはダイあるいはチッ
プ14を取り囲む参照数字11、12および13で示さ
れたタイヤを有する。3段シェルフの各々は、その表面
にチップからの1本以上のリード16が取り付けられた
金属層を有する。中間シェルフ12の金属層は、供給電
圧Vccを搬送し、また全シェルフはこの特殊電力に当
てられる。このシェルフには他のボンディング・パッド
およびリードはない。
【0004】ボンディング・シェルフの全層が単一下地
または電力供給電圧に当てられるための別法は、下地の
連続したワイヤボンディング・パッドを接続するかパッ
ケージの他の層にバイアスのアレイを用いて電圧を供給
することである。これは、電力または接地経路にインダ
クタンスを付加し、また同様なインダクタンスの付加に
よっても、連続したシェルフのボンディング・リードを
事実上長くさせる。この技術の一例は図2に示されてい
る。
【0005】図2に例示されているパッケージでは、供
給電圧Vccはボンディング・シェルフ18の下側部上
の金属層17により搬送され、さらにシェルフから一連
のバイアス19を経てこの層に接続される。シェルフの
他のボンディング・パッド接続されたリード21は、バ
イアスにわたって広がると共に一般に所望されるより事
実上多くのインダクタンスを有する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】今まで提供された他の
パッケージでは、ダイが置かれる開口部の縁における上
・下側部間に広がる1個以上の導通フィンガーまたはト
レースによってボンディング・シェルフの下側部の金属
層と共に接続される。従来技術の半導体パッケージに伴
う他の問題は、使用され得るボンディング・パッドまた
はリードがパッドの幅のような物理パラメータおよびそ
れらを一定の最小間隔に保たせることによって制限され
る。これは、相互にオフセットあるいはスタッガされる
隣接する行にあるパッドと共に、パッドの多重行の使用
を導入した。しかし、スタッガされたパッドを伴うボン
ディング・リードは相互に一段と接近し、またチップの
配列ミスは2つの行内のリードと共に交差させかつショ
ートさせ得る。
【0007】また、ボンディング・シェルフがダイより
一段と高い位置にあるならば、パッドの外側の行に接続
されたボンディング・リードは内側の行またはシェルフ
自体をたるませかつショートすることがある。この問題
は2つの行の間に絶縁体を備えることで若干の範囲で克
服することができるが、これは幾分厄介な手順を踏む。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は改良された半導
体パッケージおよび製法を提供し、チップまたはダイ用
の空洞が供給され、ボンディング・シェルフが空洞の外
周に広がり、また金属層はシェルフの下側部に沿って広
がり、シェルフの内周縁を被膜しかつチップからのリー
ドが接着される導通リングを形成するためにシェルフの
上部表面の内部縁に沿って広がる。追加のボンディング
・パッドはシェルフの上部表面に形成され、さらにチッ
プからの追加のリードはそのパッドに取り付けされる。 1つの実施例では、位置決めするフィンガーは空洞内に
チップを正確に配列する。
【0009】
【実施例】図3に例示される通り、パッケージは一般に
第1プレーナ・ボデーまたは上・下表面に金属層27、
28を伴う誘電材料層26を含む。このボデーは一般に
、ダイまたはチップとボデーの下側部の金属層27に形
成されたボンディング・パッドとの間に渡るリード31
と共に置かれた半導体ダイおよびチップ30を含む方形
の中央開口部を有する。
【0010】ヒートシンク32はチップと熱接触するボ
デー26の下側部に接着されると共に開口部29内に空
洞の床を形成する。ヒートシンクは、銅、タングステン
、モリブデン、セラミック、タングステン−銅合金、ま
たはモリブデン−銅合金のような熱伝導材料で組み立て
られ、またエポキシまたはハンダのように適した接着剤
33によりボデー26に接着される。
【0011】第2ボデーまたは誘電材料層36は第1ボ
デー上にその上・下表面に金属層37、38と共に置か
れる。ボデー36は一般に開口部29より横方向に大き
な方形の中央開口部39を有し、ボデー36の下部表面
の金属層38は参照数字40で示す通り、ボデーの内周
縁を被覆し、またダイまたはチップからのリード42を
接着する導通リング41を形成するためにボデーの上部
表面の内部縁に沿って広がる。追加のボンディング・パ
ッドと導通トレース43はボデー36の上部表面にある
導通リングの外側の金属層37に形成され、またダイま
たはチップからのリード44はそれらのパッドおよびト
レースに接着される。ダイまたはチップからの追加のリ
ード46はパッド43の外側の金属層37に接着される
【0012】第3ボデーまたは誘電材料層47はその上
・下表面の金属層48、49と共に、第2ボデーの上に
置かれる。ボデー47は一般に開口部39より横方向に
大きな方形の中央開口部51を有し、かつダイまたはチ
ップが置かれた空洞を閉じるためにリッド52はボデー
の上側部に置かれる。ボデー26、36、および47は
電気絶縁性接着剤の層53、54で共に接着される。
【0013】ボデー26、36とその上部表面の金属層
27、37はダイまたはチップからのリードを取り付け
るためにボンディング・シェルフあるいはタイヤを形成
し、また被膜用金属40と導通リング41はボデー36
の下側部の金属層38に接続する手段を提供する。例示
された実施例では、供給電圧Vccは層38に印加され
、さらにこの電圧は導通リングを経て接続される。他の
供給電圧は例示した他の金属層により運ぶことができ、
さらに2つのシェルフのボンディング・パッドを経てそ
れらの層と接続される。
【0014】パッケージの異なる層は参照数字56−5
8で示されるバイアスにより接続される。望まれるなら
ば、シェルフにある開口部の周囲を被膜する金属は追加
の金属層をも被覆することができる。破線59で示す1
つ以上の追加層はボデー36に埋め込むことができ、ま
たシェルフの周囲を被膜する金属に対して接続したり、
電気絶縁することができる。
【0015】図4−5の実施例は一般に図3の実施例と
類似しており、かつ同様な参照数字が2つの実施例内に
相当する素子を示している。しかし、図4−5の実施例
では、ボデー26にある中央開口部29はダイを置いた
り位置決めするように供給するフィンガーと共にスカラ
ップされた輪郭によって形成され、またフィンガーの間
の区域62は取り除かれる。63で示すフィンガーの下
側部は、ダイが定位置に圧着されるときにダイとヒート
シンクとの間から押し出される接着剤64を受けるため
に切り落とされ、またダイが取り付けられるときに取り
除かれた区域ではクリーニングおよび接着剤64の可視
検査を要さない。ボデー26は、マッチングや他の適し
た方法で切り落とされるフィンガーの下側部を伴う単一
層またはボデーとして、あるいはフィンガーおよびフィ
ンガーのしたの取り除かれた区域に対して所望の輪郭を
有する2つの層としてのいずれかを形成することができ
る。ダイの正しい配列を確認する手引書通りに図版の基
準点または標識点を用いて、図版を完成してからフィン
ガーを縦に切り取ることもできる。
【0016】定置されるフィンガーは特にダイを正確に
配列する重要性を持つスタッガされたボンディング・パ
ッドと共にパッケージを組み立てる際に役立つ。ヒート
シンクにダイを接着する接着剤が硬化するまでフィンガ
ーはダイを正しい位置に保ちかつヒートシンクに向けて
圧縮される際にダイの横方向への移動を防止する。図3
の構造と図1および図2の構造を比較すると、本発明の
利点は容易に明らかとなる。金属被膜により、図1の3
段階構造の代わりに2段のボンディング・シェルフだけ
が必要とされるので、ボンディング・シェルフの1段を
取り除くことによりパッケージ50%程度薄くすること
ができる。さらに、金属被膜はシェルフ上の全金属層を
単一電圧レベルまたは下地の導電体だけに注がれる必要
を取り除くと共に、あらかじめ電力および最終電圧に対
してパッドを割り当てる必要を取り除く。図3のパッケ
ージは、図2の構造のようにバイアスがシェルフの下側
の金属との接続に使用されるときに要求される高インダ
クタンスを伴うボンディング・リードを延長する必要も
回避できる。リードをさらに延長する必要を取り除くこ
とで、本発明は従来技術で生じることがある、たるみお
よびショートの問題を回避する。結局、連続被覆された
シェルフは電源および最終電圧に連続接続させると共に
従来技術のパッケージに比べてダイの配置ミスをあまり
厳正しない。
【0017】新規かつ改良された半導体パッケージおよ
び製法が提供されたことは上記明細書から明白である。 いま1つの好適な実施例を詳細に説明したが、当業者に
とって明らかなように、別記特許請求の範囲で限定され
た本発明の範囲から逸脱せずにある種の変更や変形をす
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術の手段によって構築された半導体パッ
ケージの部分的な断面図である。
【図2】従来技術の手段によって構築された半導体パッ
ケージの部分的な断面図である。
【図3】本発明を取り入れた半導体デバイス用パッケー
ジの1実施例の部分的な断面図である。
【図4】本発明による半導体デバイス用パッケージの他
の実施例の部分的な上部平面図である。
【図5】図4のライン5−5で切った部分的な断面図で
ある。
【符号の説明】
11  ボンディング・シェルフまたはタイヤ12  
ボンディング・シェルフまたはタイヤ13  ボンディ
ング・シェルフまたはタイヤ14  ダイまたはチップ 16  リード 17  金属層 18  ボンディング・シェルフ 19  バイアス 21  リード 26  第1プレーナ・ボデーおよび誘電材料層27 
 金属層 28  金属層 29  中央開口部 30  ダイまたはチップ 31  リード 32  ヒートシンク 33  接着剤 36  第2ボデーおよび誘電材料層 37  金属層 38  金属層 39  開口部 40  ボデーの内周縁 41  導通リング 42  リード 43  トレースまたはパッド 44  リード 46  リード 47  第3ボデーおよび誘電材料層 48  金属層 49  金属層 51  中央開口部 52  リッド 53  接着剤層 54  接着剤層 56  金属層 57  金属層 58  金属層 59  (追加の)層 61  フィンガー 62  区域 63  フィンガーの切り落とされる部分64  接着

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  半導体チップ用パッケージにおいて、
    内部にチップを置くのに適する空洞と、空洞の周囲に広
    がりかつ空洞に面する内周縁を有するボンディング・シ
    ェルフと、金属層から成り、金属層はシェルフの下部側
    に広がり、シェルフの内周縁を被膜し、またチップから
    のリードを接着する導通リングを形成するシェルフの上
    部表面の内部縁に沿って連続して広がることを特徴とす
    る半導体チップ用パッケージ。
  2. 【請求項2】  半導体パッケージにおいて、チップと
    、そのチップを囲みかつ上部表面上に導電性ボンディン
    グ・パッドを有する下部ボンディング・シェルフと、チ
    ップとボンディング・パッドとの間に広がるボンディン
    グ・ワイヤと、上方かつ一般に共中心形に位置決めされ
    ると共にチップに面する内周縁を有する下部ボンディン
    グ・シェルフと、上部シェルフの下側部に沿って広がり
    、上部シェルフの内周縁を囲んで被膜しかつ導通リング
    を形成する上部シェルフの下部表面の内部縁に沿って連
    続して広がる金属層と、上部シェルフ上の複数のボンデ
    ィング・パッドと、上部シェルフの導通リングおよびボ
    ンディング・パッドによってチップを相互接続する複数
    のボンディング・ワイヤと、から成ることを特徴とする
    半導体パッケージ。
  3. 【請求項3】  半導体パッケージにおいて、一般にそ
    の上・下部表面の導電性金属による中央開口部を有する
    誘電材料の第1プレーナ・ボデーと、第1ボデーの下に
    位置決めされかつヒートシンクと熱移転の関係に半導体
    チップを受ける空洞の床を形成するために開口部を越え
    て広がるヒートシンクと、一般に第1のボデーの上に位
    置決めされると共に第1ボデーの開口部より一段と大き
    な側面の中央開口部を定める内周縁を有する誘電材料の
    第2プレーナと、第2ボデーの下側部に沿って広がり、
    第2ボデーの開口部の内周縁を被膜しかつチップに接続
    する導通リングを形成する第2ボデーの上部表面の内部
    縁に沿って連続して広がる金属層と、チップに接続され
    たボンディング・ワイヤを受けるために導通リングの外
    に隔置された第2ボデーの上部表面上の複数のボンディ
    ング・パッドから成ることを特徴とする半導体パッケー
    ジ。
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