JPH04247041A - ベンゼンおよびシクロヘキサンとの混合物からシクロヘキセンを分離する方法 - Google Patents
ベンゼンおよびシクロヘキサンとの混合物からシクロヘキセンを分離する方法Info
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- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 188
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 156
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 51
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N cyclohexanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1 NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 claims description 16
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 claims description 15
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 8
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 83
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 50
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 16
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 14
- OCDXZFSOHJRGIL-UHFFFAOYSA-N cyclohexyloxycyclohexane Chemical compound C1CCCCC1OC1CCCCC1 OCDXZFSOHJRGIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 13
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 13
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 9
- -1 cycloaliphatic Chemical group 0.000 description 9
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 9
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- GCFAUZGWPDYAJN-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC(=O)OC1CCCCC1 GCFAUZGWPDYAJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 1-[6-[4-(5-chloro-6-methyl-1H-indazol-4-yl)-5-methyl-3-(1-methylindazol-5-yl)pyrazol-1-yl]-2-azaspiro[3.3]heptan-2-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound ClC=1C(=C2C=NNC2=CC=1C)C=1C(=NN(C=1C)C1CC2(CN(C2)C(C=C)=O)C1)C=1C=C2C=NN(C2=CC=1)C AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 7
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 7
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 6
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 6
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 6
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 6
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 241001135931 Anolis Species 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 4
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VUXKVKAHWOVIDN-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl formate Chemical compound O=COC1CCCCC1 VUXKVKAHWOVIDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 3
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018404 Al2 O3 Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 2
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N aluminium(i) oxide Chemical compound [Al]O[Al] BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000012013 faujasite Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(II) nitrate Inorganic materials [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003918 potentiometric titration Methods 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N (n-propan-2-yloxycarbonylanilino) acetate Chemical compound CC(C)OC(=O)N(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFPMZBBHBZQTOV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trinitro-2-(2,4,6-trinitrophenyl)-4-[2,4,6-trinitro-3-(2,4,6-trinitrophenyl)phenyl]benzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC([N+](=O)[O-])=CC([N+]([O-])=O)=C1C1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C(C=2C(=C(C=3C(=CC(=CC=3[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O)C(=CC=2[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O)=C1[N+]([O-])=O IFPMZBBHBZQTOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAHPVQDVMLWUAG-UHFFFAOYSA-N 1-phenylhexan-1-one Chemical compound CCCCCC(=O)C1=CC=CC=C1 MAHPVQDVMLWUAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 2-phenylacetic acid Chemical compound O[14C](=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-N Arsenic acid Chemical compound O[As](O)(O)=O DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLCHTSSXNSNXSW-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl pentanoate Chemical compound CCCCC(=O)OC1CCCCC1 YLCHTSSXNSNXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAMMVUWCKMOLSG-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC1CCCCC1 MAMMVUWCKMOLSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910020881 PMo12O40 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- KNOOFBJGRXGWDD-UHFFFAOYSA-N [Pb].C1CCCCC1 Chemical compound [Pb].C1CCCCC1 KNOOFBJGRXGWDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910021502 aluminium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940000488 arsenic acid Drugs 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- UNYSKUBLZGJSLV-UHFFFAOYSA-L calcium;1,3,5,2,4,6$l^{2}-trioxadisilaluminane 2,4-dioxide;dihydroxide;hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[OH-].[OH-].[Ca+2].O=[Si]1O[Al]O[Si](=O)O1.O=[Si]1O[Al]O[Si](=O)O1 UNYSKUBLZGJSLV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N cerium nitrate Inorganic materials [Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052676 chabazite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 238000004939 coking Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- VZFUCHSFHOYXIS-UHFFFAOYSA-N cycloheptane carboxylic acid Natural products OC(=O)C1CCCCCC1 VZFUCHSFHOYXIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- DTNOERNOMHQUCN-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC1CCCCC1 DTNOERNOMHQUCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZVSYHUREAVHQG-UHFFFAOYSA-N diberyllium;silicate Chemical compound [Be+2].[Be+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] QZVSYHUREAVHQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQUIAMCJEJUUJC-UHFFFAOYSA-N dibismuth;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Bi+3].[Bi+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O DQUIAMCJEJUUJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000000895 extractive distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001679 gibbsite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052680 mordenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(II) nitrate Inorganic materials [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- FXADMRZICBQPQY-UHFFFAOYSA-N orthotelluric acid Chemical compound O[Te](O)(O)(O)(O)O FXADMRZICBQPQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005453 pelletization Methods 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- QYHFIVBSNOWOCQ-UHFFFAOYSA-N selenic acid Chemical compound O[Se](O)(=O)=O QYHFIVBSNOWOCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 1
- XKGLSKVNOSHTAD-UHFFFAOYSA-N valerophenone Chemical compound CCCCC(=O)C1=CC=CC=C1 XKGLSKVNOSHTAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/04—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides onto unsaturated carbon-to-carbon bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C7/00—Purification; Separation; Use of additives
- C07C7/148—Purification; Separation; Use of additives by treatment giving rise to a chemical modification of at least one compound
- C07C7/17—Purification; Separation; Use of additives by treatment giving rise to a chemical modification of at least one compound with acids or sulfur oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【技術分野】本発明はベンゼンおよびシクロヘキサンと
シクロヘキセンとの混合物からシクロヘキセンを分離す
る方法、ことにシクロヘキサノールおよびシクロヘキシ
ルカルボキシレートに転化することによる分離方法に関
するものである。
シクロヘキセンとの混合物からシクロヘキセンを分離す
る方法、ことにシクロヘキサノールおよびシクロヘキシ
ルカルボキシレートに転化することによる分離方法に関
するものである。
【0002】
【従来技術】ヨーロッパ特許出願公開341163号お
よび日本国特許出願1254634号より、ZSM−5
ゼオライトあるいは強酸性イオン交換体の存在下に、シ
クロヘキセンをカルボン酸および水と反応させることに
より、シクロヘキサノールとシクロヘキシルエステルの
混合物および水が得られることは公知である。しかしな
がら、これには副生成物の生成、すなわち水の存在もし
くは不存在下、シクロヘキセンとカルボン酸との反応の
選択性に関する情報が記載されていない。
よび日本国特許出願1254634号より、ZSM−5
ゼオライトあるいは強酸性イオン交換体の存在下に、シ
クロヘキセンをカルボン酸および水と反応させることに
より、シクロヘキサノールとシクロヘキシルエステルの
混合物および水が得られることは公知である。しかしな
がら、これには副生成物の生成、すなわち水の存在もし
くは不存在下、シクロヘキセンとカルボン酸との反応の
選択性に関する情報が記載されていない。
【0003】シクロヘキセンはベンゼンあるいはシクロ
ヘキサンから出発して製造され得る。しかしながら、ベ
ンゼンの例えばルテニウム触媒上の部分的水素添加(西
独特許出願公開2221137号)およびシクロヘキサ
ンの接触脱水素は、純粋なシクロヘキセンをもたらさず
、シクロヘキセン、ベンゼンおよびシクロヘキサンの種
々の組成の混合物が得られる。このような混合物から、
例えば抽出蒸留あるいは共沸蒸留により、シクロヘキセ
ンを分離するには著しく、高額のコストを必要とする。
ヘキサンから出発して製造され得る。しかしながら、ベ
ンゼンの例えばルテニウム触媒上の部分的水素添加(西
独特許出願公開2221137号)およびシクロヘキサ
ンの接触脱水素は、純粋なシクロヘキセンをもたらさず
、シクロヘキセン、ベンゼンおよびシクロヘキサンの種
々の組成の混合物が得られる。このような混合物から、
例えば抽出蒸留あるいは共沸蒸留により、シクロヘキセ
ンを分離するには著しく、高額のコストを必要とする。
【0004】強酸性触媒、例えばゼオライトの存在下に
シクロヘキセンを水と反応させてシクロヘキサノールを
生成させる場合、その収率は15%を上廻らない(ヨー
ロッパ特許341163号明細書対比例a参照)。従っ
てこの方法は、ベンゼンおよびシクロヘキサンとの混合
物からシクロヘキセンを分離するには極めて不適当であ
る。
シクロヘキセンを水と反応させてシクロヘキサノールを
生成させる場合、その収率は15%を上廻らない(ヨー
ロッパ特許341163号明細書対比例a参照)。従っ
てこの方法は、ベンゼンおよびシクロヘキサンとの混合
物からシクロヘキセンを分離するには極めて不適当であ
る。
【0005】そこで本発明の目的とするところは、ベン
ゼンおよびシクロヘキサンとの混合物からシクロヘキセ
ンを分離することと、シクロヘキサノールおよびシクロ
ヘキシルカルボキシレートを製造することとを組合わせ
たさらに効率的な方法を開発することである。さらに他
の目的はシクロヘキセン分離の極めて高い選択性および
副生成物形成の抑止を達成することである。
ゼンおよびシクロヘキサンとの混合物からシクロヘキセ
ンを分離することと、シクロヘキサノールおよびシクロ
ヘキシルカルボキシレートを製造することとを組合わせ
たさらに効率的な方法を開発することである。さらに他
の目的はシクロヘキセン分離の極めて高い選択性および
副生成物形成の抑止を達成することである。
【0006】
【発明の要約】しかるに上述した目的は、強酸性固体触
媒の存在下、液相において、シクロヘキセン、ベンゼン
およびシクロヘキサンの混合物を、高温でカルボン酸お
よび水と反応させて、シクロヘキサノールおよびシクロ
ヘキシルカルボキシレートへの転化により、ベンゼンお
よびシクロヘキサンとの混合物からシクロヘキセンを分
離する方法によって達成されることが、本発明者らによ
り見出された。
媒の存在下、液相において、シクロヘキセン、ベンゼン
およびシクロヘキサンの混合物を、高温でカルボン酸お
よび水と反応させて、シクロヘキサノールおよびシクロ
ヘキシルカルボキシレートへの転化により、ベンゼンお
よびシクロヘキサンとの混合物からシクロヘキセンを分
離する方法によって達成されることが、本発明者らによ
り見出された。
【0007】
【発明の構成】本発明方法において使用されるシクロヘ
キセン、ベンゼンおよびシクロヘキサンの混合物は、ベ
ンゼンの部分的水素添加あるいはシクロヘキサンの脱水
素によりもたらされる。適当な方法、例えば蒸留により
予備処理してもよいが、この混合物の組成は、例えばシ
クロヘキセンが0.1から80重量%、ベンゼンが0.
1から90重量%、シクロヘキサンが5から90重量%
である。好ましい混合物は3から50重量%のシクロヘ
キセン、10から80重量%のベンゼンおよび5から5
0重量%のシクロヘキサンを含有する。
キセン、ベンゼンおよびシクロヘキサンの混合物は、ベ
ンゼンの部分的水素添加あるいはシクロヘキサンの脱水
素によりもたらされる。適当な方法、例えば蒸留により
予備処理してもよいが、この混合物の組成は、例えばシ
クロヘキセンが0.1から80重量%、ベンゼンが0.
1から90重量%、シクロヘキサンが5から90重量%
である。好ましい混合物は3から50重量%のシクロヘ
キセン、10から80重量%のベンゼンおよび5から5
0重量%のシクロヘキサンを含有する。
【0008】使用され得るカルボン酸は、脂肪族、脂環
式、芳香族、芳香脂肪族カルボン酸であって、1個ある
いは複数個のカルボキシル基を持っていることができる
。脂肪族カルボン酸としては、1個から18個の炭素原
子を有するもの、例えば蟻酸、醋酸、プロピオン酸、n
−酪酸、イソ酪酸、オキサル酸、グルタル酸、アジピン
酸が挙げられる。脂肪族カルボン酸は、ハロゲン原子、
例えば塩素あるいは弗素を持っていてもよい。その例と
しては、モノクロロ醋酸、トリクロロ醋酸およびトリフ
ルオロ醋酸が挙げられる。脂環式カルボン酸の例として
は、シクロヘキサンカルボン酸および1,4−シクロヘ
キサンジカルボン酸が、芳香族および芳香脂肪族カルボ
ン酸の例としてはフェニル醋酸、安息香酸、テレフタル
酸が挙げられる。炭素原子1から8個を有する脂肪酸が
好ましい。ことに好ましいカルボン酸は蟻酸、醋酸およ
びプロピオン酸である。
式、芳香族、芳香脂肪族カルボン酸であって、1個ある
いは複数個のカルボキシル基を持っていることができる
。脂肪族カルボン酸としては、1個から18個の炭素原
子を有するもの、例えば蟻酸、醋酸、プロピオン酸、n
−酪酸、イソ酪酸、オキサル酸、グルタル酸、アジピン
酸が挙げられる。脂肪族カルボン酸は、ハロゲン原子、
例えば塩素あるいは弗素を持っていてもよい。その例と
しては、モノクロロ醋酸、トリクロロ醋酸およびトリフ
ルオロ醋酸が挙げられる。脂環式カルボン酸の例として
は、シクロヘキサンカルボン酸および1,4−シクロヘ
キサンジカルボン酸が、芳香族および芳香脂肪族カルボ
ン酸の例としてはフェニル醋酸、安息香酸、テレフタル
酸が挙げられる。炭素原子1から8個を有する脂肪酸が
好ましい。ことに好ましいカルボン酸は蟻酸、醋酸およ
びプロピオン酸である。
【0009】シクロヘキセンのカルボン酸に対するモル
割合は1:0.5から1:30、ことに1:3から1:
16が好ましく、シクロヘキセンの水に対するモル割合
は1:0.1から1:15、ことに1:2から1:6が
好ましい。
割合は1:0.5から1:30、ことに1:3から1:
16が好ましく、シクロヘキセンの水に対するモル割合
は1:0.1から1:15、ことに1:2から1:6が
好ましい。
【0010】適当な強酸性固体触媒は、例えばヘテロ多
重酸、強酸性イオン交換体はシリケート、天然もしくは
合成ゼオライトであって、ことにゼオライトおよびヘテ
ロ多重酸が好ましい。
重酸、強酸性イオン交換体はシリケート、天然もしくは
合成ゼオライトであって、ことにゼオライトおよびヘテ
ロ多重酸が好ましい。
【0011】本発明に使用されるヘテロ多重酸は、無機
多重酸であって、イソ多重酸と異なり少くとも2個の相
違する中心原子を有する。その例としてはドデカタング
スト燐酸H3 PW12O40、ドデカモリブド燐酸H
3 PMo12O40、ヘキサモリブドヘキサタングス
ト燐酸H3 PMo6 W6 O40、オクタデカモリ
ブドジ燐酸H6 P2Mo18O62、ウンデカモリブ
ドバナジン酸燐酸H3 PVMo11O40、ノナモリ
ブド燐酸H3 PMo9 O31、ドデカモリブド珪酸
H4 SiMo12O40、ドデカタングスト硼酸H5
BW12O40が挙げられる。原則的にヨーロッパ特
許出願公開158229号公報に述べられている複数触
媒あるいは触媒混合物を使用することができる。
多重酸であって、イソ多重酸と異なり少くとも2個の相
違する中心原子を有する。その例としてはドデカタング
スト燐酸H3 PW12O40、ドデカモリブド燐酸H
3 PMo12O40、ヘキサモリブドヘキサタングス
ト燐酸H3 PMo6 W6 O40、オクタデカモリ
ブドジ燐酸H6 P2Mo18O62、ウンデカモリブ
ドバナジン酸燐酸H3 PVMo11O40、ノナモリ
ブド燐酸H3 PMo9 O31、ドデカモリブド珪酸
H4 SiMo12O40、ドデカタングスト硼酸H5
BW12O40が挙げられる。原則的にヨーロッパ特
許出願公開158229号公報に述べられている複数触
媒あるいは触媒混合物を使用することができる。
【0012】好ましいヘテロ多重酸は、モリブデンある
いはタングステンと燐酸、テルル酸、セレン酸、砒素酸
、珪酸との多重酸であって、ことに燐酸の多重酸が好ま
しい。
いはタングステンと燐酸、テルル酸、セレン酸、砒素酸
、珪酸との多重酸であって、ことに燐酸の多重酸が好ま
しい。
【0013】好ましい強酸性イオン交換体は、例えばス
ルホン酸基を有する架橋ポリスチレンである。
ルホン酸基を有する架橋ポリスチレンである。
【0014】例えばモルデナイト沸石系のゼオライト、
エリオナイトないしチャバザイト系の細孔ゼオライトあ
るいはホージャサイト系のゼオライト、例えばY−、X
−もしくはL−ゼオライトを使用することができる。こ
のゼオライト群にはホージャサイト型の超安定ゼオライ
ト、例えば脱アルミニウムゼオライトも包含される。
エリオナイトないしチャバザイト系の細孔ゼオライトあ
るいはホージャサイト系のゼオライト、例えばY−、X
−もしくはL−ゼオライトを使用することができる。こ
のゼオライト群にはホージャサイト型の超安定ゼオライ
ト、例えば脱アルミニウムゼオライトも包含される。
【0015】ことにペンタジル構造のゼオライト、例え
ばZSM−5、ZSM−11およびZSM−10ゼオラ
イトを使用するのが有利であり、これらの共通形成ブロ
ックはSiO2 正四面体から成る5員環である。これ
らは高SiO2 /Al2 O3 割合で、A型ゼオラ
イトとXあるいはY型ゼオライトの中間の孔隙寸法を有
することが特徴である。
ばZSM−5、ZSM−11およびZSM−10ゼオラ
イトを使用するのが有利であり、これらの共通形成ブロ
ックはSiO2 正四面体から成る5員環である。これ
らは高SiO2 /Al2 O3 割合で、A型ゼオラ
イトとXあるいはY型ゼオライトの中間の孔隙寸法を有
することが特徴である。
【0016】適当なゼオライトは、異なる化学的組成、
例えば珪酸アルミニウム、珪酸硼素、珪酸鉄、珪酸ベリ
リウム、珪酸ガリウム、珪酸クロム、珪酸砒素、珪酸ア
ンチモン、珪酸ビスマスのゼオライトあるいはその混合
物、ならびにゲルマニウム酸アルミニウム、ゲルマニウ
ム酸硼素、ゲルマニウム酸ガリウム、ゲルマニウム酸鉄
のゼオライトあるいはその混合物を有することができる
。本発明方法においてことに好ましいのは、珪酸アルミ
ニウム、珪酸硼素、珪酸鉄のペンタシル型ゼオライトで
ある。
例えば珪酸アルミニウム、珪酸硼素、珪酸鉄、珪酸ベリ
リウム、珪酸ガリウム、珪酸クロム、珪酸砒素、珪酸ア
ンチモン、珪酸ビスマスのゼオライトあるいはその混合
物、ならびにゲルマニウム酸アルミニウム、ゲルマニウ
ム酸硼素、ゲルマニウム酸ガリウム、ゲルマニウム酸鉄
のゼオライトあるいはその混合物を有することができる
。本発明方法においてことに好ましいのは、珪酸アルミ
ニウム、珪酸硼素、珪酸鉄のペンタシル型ゼオライトで
ある。
【0017】珪酸アルミニウムゼオライトは、例えばア
ルミニウム化合物、ことにAl(OH)3 あるいはA
l2(SO4 )3 および珪素分、ことに二酸化珪素
微細粉から、アミン水溶液、ことに1,6−ヘキサンジ
アミンあるいは1,3−プロパンジアミンあるいはトリ
エチレンテトラミン溶液中において、アルカリ金属ある
いはアルカリ土類金属を添加し、あるいは添加すること
なく、自生圧力下、100から200℃の温度で製造さ
れる。これはアイソタクチックゼオライトをも含む。得
られる珪酸アルミニウムゼオライトは、出発材料の選択
量に応じて、100から40000のSiO2 /Al
2 O3 割合を有する。この珪酸アルミニウムゼオラ
イトは、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル
のようなエーテル媒体中で、あるいはメタノール、1,
4−ブタンジオールのようなアルコール媒体中で、ある
いは水中で合成することもできる。
ルミニウム化合物、ことにAl(OH)3 あるいはA
l2(SO4 )3 および珪素分、ことに二酸化珪素
微細粉から、アミン水溶液、ことに1,6−ヘキサンジ
アミンあるいは1,3−プロパンジアミンあるいはトリ
エチレンテトラミン溶液中において、アルカリ金属ある
いはアルカリ土類金属を添加し、あるいは添加すること
なく、自生圧力下、100から200℃の温度で製造さ
れる。これはアイソタクチックゼオライトをも含む。得
られる珪酸アルミニウムゼオライトは、出発材料の選択
量に応じて、100から40000のSiO2 /Al
2 O3 割合を有する。この珪酸アルミニウムゼオラ
イトは、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル
のようなエーテル媒体中で、あるいはメタノール、1,
4−ブタンジオールのようなアルコール媒体中で、ある
いは水中で合成することもできる。
【0018】珪酸硼素ゼオライトは、例えば自生圧力下
、90から200℃の温度で、硼素化合物、例えばH3
BO3 を、二酸化珪素微細粉のような珪素化合物と
、アミン水溶液、ことに1,6−ジアミノヘキサン、1
,3−ジアミノプロパンあるいはトリエチレンテトラミ
ン溶液中で、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を
添加しあるいは添加することなく、反応させることによ
り得られる。これもイソタクチックゼオライトを包含し
得る。このような珪酸硼素ゼオライトは、またアミン水
溶液ではなく、エーテル、例えばジエチレングリコール
ジメチルエーテル、アルコール、例えば1,6−ヘキサ
ンジオール溶液中で反応させることにより製造され得る
。
、90から200℃の温度で、硼素化合物、例えばH3
BO3 を、二酸化珪素微細粉のような珪素化合物と
、アミン水溶液、ことに1,6−ジアミノヘキサン、1
,3−ジアミノプロパンあるいはトリエチレンテトラミ
ン溶液中で、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属を
添加しあるいは添加することなく、反応させることによ
り得られる。これもイソタクチックゼオライトを包含し
得る。このような珪酸硼素ゼオライトは、またアミン水
溶液ではなく、エーテル、例えばジエチレングリコール
ジメチルエーテル、アルコール、例えば1,6−ヘキサ
ンジオール溶液中で反応させることにより製造され得る
。
【0019】珪酸鉄ゼオライトは、例えばFe2 (
SO4 )3 のような鉄化合物および二酸化珪素微細
粉のような珪素化合物から、アミン水溶液、ことに1,
6−ジアミノヘキサン溶液中においてアルカリ金属もし
くはアルカリ土類金属を添加しあるいは添加することな
く、自生圧力下、100から220℃の温度で製造され
得る。
SO4 )3 のような鉄化合物および二酸化珪素微細
粉のような珪素化合物から、アミン水溶液、ことに1,
6−ジアミノヘキサン溶液中においてアルカリ金属もし
くはアルカリ土類金属を添加しあるいは添加することな
く、自生圧力下、100から220℃の温度で製造され
得る。
【0020】このようにして珪酸アルミニウム、珪酸硼
素、珪酸鉄ゼオライトは、製造され、単離され、100
−160℃、ことに110℃で乾燥され、450−55
0℃、ことに500℃でか焼された後、90:10から
40:60重量%の割合で結合剤と共に紐状あるいはタ
ブレット状に形成される。このための結合剤は、種々の
酸化アルミニウム、ことにベーマイト、25:75から
95:5、ことに75:25のSiO2 /Al2 O
3 割合の無定形アルミノ珪酸塩、SiO2 微細粉お
よびAl2 O3 、TiO2 、ZrO2 微細粉お
よび粘土の混合物である。成形後の押出成形物ないしペ
レットは、100℃で16時間乾燥し、500℃で同じ
く16時間か焼される。
素、珪酸鉄ゼオライトは、製造され、単離され、100
−160℃、ことに110℃で乾燥され、450−55
0℃、ことに500℃でか焼された後、90:10から
40:60重量%の割合で結合剤と共に紐状あるいはタ
ブレット状に形成される。このための結合剤は、種々の
酸化アルミニウム、ことにベーマイト、25:75から
95:5、ことに75:25のSiO2 /Al2 O
3 割合の無定形アルミノ珪酸塩、SiO2 微細粉お
よびAl2 O3 、TiO2 、ZrO2 微細粉お
よび粘土の混合物である。成形後の押出成形物ないしペ
レットは、100℃で16時間乾燥し、500℃で同じ
く16時間か焼される。
【0021】好ましい触媒は、また単離された珪酸アル
ミニウムあるいは珪酸珪素のゼオライトを形成後、乾燥
し、か焼し、その直後に成形することによって得られる
。合成された珪酸アルミニウムおよび珪酸硼素は、結合
剤なしに紐状あるいはタブレット状の純粋化合物形態で
使用されることができ、この場合に使用される押出し助
剤ないしペレット化助剤は、例えばエチレンセルロース
、ステアリン酸、硝酸、アンモニア、アミン、珪酸エス
テル、黒鉛あるいはこれらの混合物である。
ミニウムあるいは珪酸珪素のゼオライトを形成後、乾燥
し、か焼し、その直後に成形することによって得られる
。合成された珪酸アルミニウムおよび珪酸硼素は、結合
剤なしに紐状あるいはタブレット状の純粋化合物形態で
使用されることができ、この場合に使用される押出し助
剤ないしペレット化助剤は、例えばエチレンセルロース
、ステアリン酸、硝酸、アンモニア、アミン、珪酸エス
テル、黒鉛あるいはこれらの混合物である。
【0022】製造された許りのゼオライトが触媒活性の
酸性Hタイプでなく、例えばNaタイプの場合には、こ
れは例えばアンモニアイオンによりイオン交換し、次い
でか焼し或は酸で処理することによりHタイプとする。
酸性Hタイプでなく、例えばNaタイプの場合には、こ
れは例えばアンモニアイオンによりイオン交換し、次い
でか焼し或は酸で処理することによりHタイプとする。
【0023】本発明の目的のために使用している間にこ
のゼオライト触媒がコーキングにより非活性化された場
合には、堆積コークスを空気あるいは空気/窒素混合物
で400から500℃、ことに500℃の温度で燃焼し
て再生させることが推奨される。これによりゼオライト
は当初の活性を回復する。部分的再コーキングにより所
望反応生成物用として触媒選択性を適合させることがで
きる。
のゼオライト触媒がコーキングにより非活性化された場
合には、堆積コークスを空気あるいは空気/窒素混合物
で400から500℃、ことに500℃の温度で燃焼し
て再生させることが推奨される。これによりゼオライト
は当初の活性を回復する。部分的再コーキングにより所
望反応生成物用として触媒選択性を適合させることがで
きる。
【0024】最大限の高転化性および長い触媒寿命をも
たらすために、ゼオライトを変性させるのが好ましい。 この触媒変性のための好ましい方法は、例えば成形もし
くは未成形ゼオライトを金属塩ドーピングでイオン交換
ないし浸漬処理することである。このための金属は、例
えばLi、CsおよびKのようなアルカリ金属、Mg、
CaおよびSrのようなアルカリ土類金属、Al、Ga
、Ge、Sn、PbおよびBiのような3、4および5
主族金属、Ti、Zr、V、Nb、Cr、Mo、W、M
n、Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Sr、Ni
、PdおよびPtのような4から8亜族遷移金属、Cu
、AgおよびZnのような1および2亜族遷移金属、L
a、Ce、Pr、Nd、Fr、YbおよびUのような希
土類金属である。このような変性剤の使用量は一般的に
0.001から20重量%、ことに0.01から5重量
%である。
たらすために、ゼオライトを変性させるのが好ましい。 この触媒変性のための好ましい方法は、例えば成形もし
くは未成形ゼオライトを金属塩ドーピングでイオン交換
ないし浸漬処理することである。このための金属は、例
えばLi、CsおよびKのようなアルカリ金属、Mg、
CaおよびSrのようなアルカリ土類金属、Al、Ga
、Ge、Sn、PbおよびBiのような3、4および5
主族金属、Ti、Zr、V、Nb、Cr、Mo、W、M
n、Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Sr、Ni
、PdおよびPtのような4から8亜族遷移金属、Cu
、AgおよびZnのような1および2亜族遷移金属、L
a、Ce、Pr、Nd、Fr、YbおよびUのような希
土類金属である。このような変性剤の使用量は一般的に
0.001から20重量%、ことに0.01から5重量
%である。
【0025】上述したドーピングは、例えば成形ゼオラ
イトをライザーパイプに入れ、これに上述した金属のハ
ロゲン化物あるいは亜硝酸塩の水溶液ないしアンモニア
溶液を20−100℃で流入することにより行なわれる
。イオン交換は例えばゼオライトの水素、アンモニウム
あるいはアルカリ金属形態で行なわれ得る。ゼオライト
に金属を導入する他の方法は、例えばゼオライトを上述
した金属のハロゲン化物、亜硝酸塩あるいは酸化物の水
溶液、アルコール溶液あるいはアンモニウム溶液で含浸
させることである。イオン交換、含浸のいずれの場合に
も、その後に少くとも1回の乾燥処理あるいは追加的か
焼が行なわれる。
イトをライザーパイプに入れ、これに上述した金属のハ
ロゲン化物あるいは亜硝酸塩の水溶液ないしアンモニア
溶液を20−100℃で流入することにより行なわれる
。イオン交換は例えばゼオライトの水素、アンモニウム
あるいはアルカリ金属形態で行なわれ得る。ゼオライト
に金属を導入する他の方法は、例えばゼオライトを上述
した金属のハロゲン化物、亜硝酸塩あるいは酸化物の水
溶液、アルコール溶液あるいはアンモニウム溶液で含浸
させることである。イオン交換、含浸のいずれの場合に
も、その後に少くとも1回の乾燥処理あるいは追加的か
焼が行なわれる。
【0026】可能な実施態様としては、例えばCu(N
O3 )2 ×3H2 OあるいはNi(NO3 )2
×6H2 OあるいはCe(NO3 )3 ×6H2
OあるいはLa(NO3 )2 ×6H2 Oあるい
はCs2 CO3 を水に溶解させ、この溶液で成形あ
るいは非成形ゼオライトを若干時間、例えば30分間含
浸させる。表面溶液は回転エバポレータで水分が除かれ
、次いで含浸ゼオライトは約150℃で乾燥され、約5
00℃でか焼される。この含浸は所望量の金属が滲透す
るまで反覆される。
O3 )2 ×3H2 OあるいはNi(NO3 )2
×6H2 OあるいはCe(NO3 )3 ×6H2
OあるいはLa(NO3 )2 ×6H2 Oあるい
はCs2 CO3 を水に溶解させ、この溶液で成形あ
るいは非成形ゼオライトを若干時間、例えば30分間含
浸させる。表面溶液は回転エバポレータで水分が除かれ
、次いで含浸ゼオライトは約150℃で乾燥され、約5
00℃でか焼される。この含浸は所望量の金属が滲透す
るまで反覆される。
【0027】また例えばNi(CO3 )2 水溶液あ
るいはPd(NO3 )2 アンモニア溶液を調製し、
40−100℃で約24時間撹拌しながら純粋のゼオラ
イト粉体をこれに懸濁させる。濾過、約150℃におけ
る乾燥、約500℃におけるか焼に続いて、単離された
ゼオライト材料を、結合剤を添加しあるいは添加するこ
となく処理して、紐状体、ペレットあるいは可流動性体
とする。
るいはPd(NO3 )2 アンモニア溶液を調製し、
40−100℃で約24時間撹拌しながら純粋のゼオラ
イト粉体をこれに懸濁させる。濾過、約150℃におけ
る乾燥、約500℃におけるか焼に続いて、単離された
ゼオライト材料を、結合剤を添加しあるいは添加するこ
となく処理して、紐状体、ペレットあるいは可流動性体
とする。
【0028】H形態、アンモニウム形態あるいはアルカ
リ金属形態のゼオライトによるイオン交換は、ゼオライ
トを紐状体あるいはペレットの形態でカラムに導入し、
30から80℃のやや高温で10−20時間、例えばN
i(NO3)2 水溶液あるいはPd(NO3 )2
アンモニア溶液を上記カラム中に循還させることにより
行なわれ得る。その後、水で洗浄し、約150℃で乾燥
し、約550℃でか焼する。若干の金属ドーピングゼオ
ライト、例えばPd、Cu、Niドーピングゼオライト
の場合には、水素による後処理をするのが好ましい。
リ金属形態のゼオライトによるイオン交換は、ゼオライ
トを紐状体あるいはペレットの形態でカラムに導入し、
30から80℃のやや高温で10−20時間、例えばN
i(NO3)2 水溶液あるいはPd(NO3 )2
アンモニア溶液を上記カラム中に循還させることにより
行なわれ得る。その後、水で洗浄し、約150℃で乾燥
し、約550℃でか焼する。若干の金属ドーピングゼオ
ライト、例えばPd、Cu、Niドーピングゼオライト
の場合には、水素による後処理をするのが好ましい。
【0029】さらに他の変性処理法は、成形あるいは非
成形状態のゼオライトを、酸、例えば塩酸、弗化水素酸
あるいは燐酸および/あるいは水蒸気で処理することで
ある。例えばゼオライトを粉末形態で、80℃において
1時間1N燐酸で処理する。次いでこれを水で洗浄し、
110℃で16時間乾燥し、500℃で20時間か焼す
る。あるいはゼオライトを、結合剤と共に成形する前あ
るいは後に、例えば60−80℃で3−25重量%、こ
とに12−20重量%の塩酸水溶液で1−3時間処理す
る。このように処理したゼオライトを水で洗浄し、40
0−500℃で乾燥し、か焼する。
成形状態のゼオライトを、酸、例えば塩酸、弗化水素酸
あるいは燐酸および/あるいは水蒸気で処理することで
ある。例えばゼオライトを粉末形態で、80℃において
1時間1N燐酸で処理する。次いでこれを水で洗浄し、
110℃で16時間乾燥し、500℃で20時間か焼す
る。あるいはゼオライトを、結合剤と共に成形する前あ
るいは後に、例えば60−80℃で3−25重量%、こ
とに12−20重量%の塩酸水溶液で1−3時間処理す
る。このように処理したゼオライトを水で洗浄し、40
0−500℃で乾燥し、か焼する。
【0030】酸による処理の特殊な形態として、未成形
ゼオライト材料を、加熱下に一般に0.001−2N、
ことに0.05−0.5Nの弗化水素酸により、例えば
0.5−5時間、ことに1−3時間還流させて処理する
。ゼオライト材料を例えば濾過、水洗により単離後、1
00−160℃で、一般的に100から160℃で乾燥
し、450−600℃でか焼するのが好ましい。他の好
ましい酸処理法では、ゼオライト材料を結合剤と共に成
形し、次いで加熱下、ことに50−90℃、好ましくは
60−80℃で0.5から5時間、12−20重量%濃
度の塩酸で処理する。次いでゼオライトを洗浄し、例え
ば100−160℃で乾燥し、450−600℃でか焼
する。HF処理後、HCl処理を行なうのが好ましい。
ゼオライト材料を、加熱下に一般に0.001−2N、
ことに0.05−0.5Nの弗化水素酸により、例えば
0.5−5時間、ことに1−3時間還流させて処理する
。ゼオライト材料を例えば濾過、水洗により単離後、1
00−160℃で、一般的に100から160℃で乾燥
し、450−600℃でか焼するのが好ましい。他の好
ましい酸処理法では、ゼオライト材料を結合剤と共に成
形し、次いで加熱下、ことに50−90℃、好ましくは
60−80℃で0.5から5時間、12−20重量%濃
度の塩酸で処理する。次いでゼオライトを洗浄し、例え
ば100−160℃で乾燥し、450−600℃でか焼
する。HF処理後、HCl処理を行なうのが好ましい。
【0031】触媒量はベンゼン/シクロヘキセン/シク
ロヘキサン混合物中のシクロヘキセンに対して、10か
ら2000重量%、ことに30から600重量%である
のが好ましい。本発明反応は20から180℃、ことに
70から140℃の温度で行なわれる。反応はまた液相
で大気圧下もしくは加圧下に行なわれる。圧力は反応混
合物を液状に維持し得る程度に充分高いものでなければ
ならない。滞留時間は約15分から6時間、ことに1か
ら3時間である。
ロヘキサン混合物中のシクロヘキセンに対して、10か
ら2000重量%、ことに30から600重量%である
のが好ましい。本発明反応は20から180℃、ことに
70から140℃の温度で行なわれる。反応はまた液相
で大気圧下もしくは加圧下に行なわれる。圧力は反応混
合物を液状に維持し得る程度に充分高いものでなければ
ならない。滞留時間は約15分から6時間、ことに1か
ら3時間である。
【0032】反応はバッチ式あるいは連続的に行なわれ
得るが、イオン交換樹脂ないしゼオライトの場合でも、
触媒は浮懸状態あるいは固定床状態で使用され得る。ヘ
テロ多重酸は、使用されるカルボン酸の性質および使用
される水の量割合に応じて全部あるいは一部が溶解され
る。水は反応の前あるいは後で添加され、相分離は大気
圧下あるいは加圧下に0℃から180℃、ことに20℃
から140℃で行なわれる。
得るが、イオン交換樹脂ないしゼオライトの場合でも、
触媒は浮懸状態あるいは固定床状態で使用され得る。ヘ
テロ多重酸は、使用されるカルボン酸の性質および使用
される水の量割合に応じて全部あるいは一部が溶解され
る。水は反応の前あるいは後で添加され、相分離は大気
圧下あるいは加圧下に0℃から180℃、ことに20℃
から140℃で行なわれる。
【0033】連続的方法において、カルボン酸、水、シ
クロヘキセン、ベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキ
シルエステルおよびシクロヘキサノールを含有する水性
相は、合成段階に返還される。この場合、有機溶媒、こ
とにベンゼン、シクロヘキセンおよび/あるいはシクロ
ヘキサンで水性相中のシクロヘキシルエステルおよびシ
クロヘキサノールを抽出してその含有割合をさらに低下
させて置くのが好ましい。
クロヘキセン、ベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキ
シルエステルおよびシクロヘキサノールを含有する水性
相は、合成段階に返還される。この場合、有機溶媒、こ
とにベンゼン、シクロヘキセンおよび/あるいはシクロ
ヘキサンで水性相中のシクロヘキシルエステルおよびシ
クロヘキサノールを抽出してその含有割合をさらに低下
させて置くのが好ましい。
【0034】ベンゼン、未転化シクロヘキセンおよびシ
クロヘキサンの混合物は、蒸留で有機相から分離される
。これは第2反応段階でさらにカルボン酸と反応させて
、シクロヘキセンの量割合をさらに低下させるのが好ま
しい。ベンゼンおよびシクロヘキサンとの混合物中にお
けるシクロヘキセンの量割合が低くても、シクロヘキセ
ンの水化に較べて、著しく高いシクロヘキセン転化をも
たらすことに留意され度い。シクロヘキセンの必要消耗
度に応じて3度目の、あるいは必要により4度目の反応
を追加的に行なう。
クロヘキサンの混合物は、蒸留で有機相から分離される
。これは第2反応段階でさらにカルボン酸と反応させて
、シクロヘキセンの量割合をさらに低下させるのが好ま
しい。ベンゼンおよびシクロヘキサンとの混合物中にお
けるシクロヘキセンの量割合が低くても、シクロヘキセ
ンの水化に較べて、著しく高いシクロヘキセン転化をも
たらすことに留意され度い。シクロヘキセンの必要消耗
度に応じて3度目の、あるいは必要により4度目の反応
を追加的に行なう。
【0035】ベンゼン、シクロヘキセンおよびシクロヘ
キサンの分離後、優勢量のシクロヘキサノールとシクロ
ヘキシルエステルの混合物は、常法により、例えば加水
分解あるいはエステル交換により、純粋のシクロヘキサ
ノールに転化される。ことに好ましい処理においては、
(a)ベンゼンおよびシクロヘキサンとの混合物中にお
けるシクロヘキセンを強酸性固体触媒の存在下、液相に
おいてカルボン酸と反応させ、この反応の前あるいは後
に、反応後における水性相と有機相の分離がもたらされ
るのに少くとも充分な量の水を添加し、(b)工程(a
)において得られた液状反応混合物を、固体触媒の分離
後、水性相と液相に分離し、(c)この水性相を、ベン
ゼン、シクロヘキセンおよび/あるいはシクロヘキサン
の混合物で事前に抽出し、あるいは抽出することなく、
工程(a)に返還し、(d)有機相に含有されているシ
クロヘキシカルボキシレートを加水分解してシクロヘキ
サノールを得る。
キサンの分離後、優勢量のシクロヘキサノールとシクロ
ヘキシルエステルの混合物は、常法により、例えば加水
分解あるいはエステル交換により、純粋のシクロヘキサ
ノールに転化される。ことに好ましい処理においては、
(a)ベンゼンおよびシクロヘキサンとの混合物中にお
けるシクロヘキセンを強酸性固体触媒の存在下、液相に
おいてカルボン酸と反応させ、この反応の前あるいは後
に、反応後における水性相と有機相の分離がもたらされ
るのに少くとも充分な量の水を添加し、(b)工程(a
)において得られた液状反応混合物を、固体触媒の分離
後、水性相と液相に分離し、(c)この水性相を、ベン
ゼン、シクロヘキセンおよび/あるいはシクロヘキサン
の混合物で事前に抽出し、あるいは抽出することなく、
工程(a)に返還し、(d)有機相に含有されているシ
クロヘキシカルボキシレートを加水分解してシクロヘキ
サノールを得る。
【0036】ベンゼンおよびシクロヘキサンとの混合物
からのシクロヘキセンの分離が高度の選択性をもって行
なわれることは全く予想され得なかったところである。
からのシクロヘキセンの分離が高度の選択性をもって行
なわれることは全く予想され得なかったところである。
【0037】何となれば、ゼオライトあるいはヘテロ多
重酸の存在下において、ベンゼンはシクロヘキセンと反
応してシクロヘキシルベンゼンをもたらすことが公知で
あったからである(ヨーロッパ特許出願公開33873
4号、日本国特許出願昭59−137426号、Dok
l.Akad.Nauk SSSR 237(19
77)164−7(1)、米国特許4122125号、
4206082号、4217248号参照)。これから
、カルボン酸をシクロヘキセンに添加すべき上述反応条
件では、選択性を軽減する優勢量のシクロヘキシルベン
ゼンを生成する筈だと予想されたからである。
重酸の存在下において、ベンゼンはシクロヘキセンと反
応してシクロヘキシルベンゼンをもたらすことが公知で
あったからである(ヨーロッパ特許出願公開33873
4号、日本国特許出願昭59−137426号、Dok
l.Akad.Nauk SSSR 237(19
77)164−7(1)、米国特許4122125号、
4206082号、4217248号参照)。これから
、カルボン酸をシクロヘキセンに添加すべき上述反応条
件では、選択性を軽減する優勢量のシクロヘキシルベン
ゼンを生成する筈だと予想されたからである。
【0038】さらにヨーロッパ特許162475号明細
書19および20頁から、カルボン酸とゼオライトの組
合わせは、ゼオライト単独の場合よりもさらに効率的に
シクロヘキセンの水化反応を促進することが公知であっ
た。従って、諸文献(例えば西独特許441072号明
細書実施例5、ヨーロッパ特許162475号明細書8
頁、15−17行、日本国特許出願公告昭61−249
945号公報)に記載されている同様の反応、すなわち
酸触媒下にシクロヘキセンにシクロヘキサノールを添加
すればジシクロヘキシルエーテルの生成が優勢になる筈
だと予想された筈である。若干のカルボン酸については
、水の存在下にシクロヘキセンに添加されると、反応混
合物中におけるよりも大量のシクロヘキサノールの存在
下に、シクロヘキセンの水化が進行するので、上述の予
想はさらに助長される。
書19および20頁から、カルボン酸とゼオライトの組
合わせは、ゼオライト単独の場合よりもさらに効率的に
シクロヘキセンの水化反応を促進することが公知であっ
た。従って、諸文献(例えば西独特許441072号明
細書実施例5、ヨーロッパ特許162475号明細書8
頁、15−17行、日本国特許出願公告昭61−249
945号公報)に記載されている同様の反応、すなわち
酸触媒下にシクロヘキセンにシクロヘキサノールを添加
すればジシクロヘキシルエーテルの生成が優勢になる筈
だと予想された筈である。若干のカルボン酸については
、水の存在下にシクロヘキセンに添加されると、反応混
合物中におけるよりも大量のシクロヘキサノールの存在
下に、シクロヘキセンの水化が進行するので、上述の予
想はさらに助長される。
【0039】またカルボン酸は、ゼオライトの存在下に
ベンゼンをアシル化し得る(J.Org.Chem.5
1(1986)、2128−30頁)。従ってアシルベ
ンゼンンが副生成物として生成するものと予想された筈
である。
ベンゼンをアシル化し得る(J.Org.Chem.5
1(1986)、2128−30頁)。従ってアシルベ
ンゼンンが副生成物として生成するものと予想された筈
である。
【0040】以下の実施例により、本発明をさらに具体
的に説明し、これを実証する。
的に説明し、これを実証する。
【0041】
【実施例1a】32重量%のシクロヘキセン、60重量
%のベンゼンおよび8重量5のシクロヘキサンから成る
混合物2.56gを、0.85gの水、2.82gの醋
酸および0.5gの脆いゼオライト(H−ZSM11)
と共に、10ミリリットル容積のオートクレーブ中にお
いて撹拌し、アルゴンを導入した。次いで温度を120
℃に上げると、2.8バールの自生圧がもたらされた。 2時間後、反応混合物を室温まで放冷し、2液相を12
gのアセトンと共に混合均質化した。ゼオライトを濾別
し、反応混合物をガスクロマトグラフィー(毛細管カラ
ム、内標準)で分析したところ、シクロヘキシルアセテ
ート41.9重量%およびシクロヘキサノール22重量
%(当初ヘキセン量に対し)が認められた。ジシクロヘ
キシルエーテル、シクロヘキシルベンゼンおよびアセチ
ルベンゼンの量は、すべてGC検知限度以下であり、ま
た他の副生成物も認められなかった。
%のベンゼンおよび8重量5のシクロヘキサンから成る
混合物2.56gを、0.85gの水、2.82gの醋
酸および0.5gの脆いゼオライト(H−ZSM11)
と共に、10ミリリットル容積のオートクレーブ中にお
いて撹拌し、アルゴンを導入した。次いで温度を120
℃に上げると、2.8バールの自生圧がもたらされた。 2時間後、反応混合物を室温まで放冷し、2液相を12
gのアセトンと共に混合均質化した。ゼオライトを濾別
し、反応混合物をガスクロマトグラフィー(毛細管カラ
ム、内標準)で分析したところ、シクロヘキシルアセテ
ート41.9重量%およびシクロヘキサノール22重量
%(当初ヘキセン量に対し)が認められた。ジシクロヘ
キシルエーテル、シクロヘキシルベンゼンおよびアセチ
ルベンゼンの量は、すべてGC検知限度以下であり、ま
た他の副生成物も認められなかった。
【0042】
【実施例1b】10重量%のシクロヘキセン、77重量
%のベンゼンおよび13重量%のシクロヘキサンから成
る混合物2.56gを、0.85gの水、0.86gの
醋酸および0.5gの脆いゼオライト(H−ZSM11
)と混合撹拌し、上記実施例1aと同様に反応し、分析
したところ、反応混合物は32.9重量%のシクロヘキ
シルエステルおよび13.6重量%のシクロヘキサノー
ルを含有することが認められた(出発時シクロヘキセン
量に対し)。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシ
ルベンゼンおよびアセチルベンゼンの量は、すべてGC
検知限度以下であった。
%のベンゼンおよび13重量%のシクロヘキサンから成
る混合物2.56gを、0.85gの水、0.86gの
醋酸および0.5gの脆いゼオライト(H−ZSM11
)と混合撹拌し、上記実施例1aと同様に反応し、分析
したところ、反応混合物は32.9重量%のシクロヘキ
シルエステルおよび13.6重量%のシクロヘキサノー
ルを含有することが認められた(出発時シクロヘキセン
量に対し)。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシ
ルベンゼンおよびアセチルベンゼンの量は、すべてGC
検知限度以下であった。
【0043】
【実施例1c】3重量%のシクロヘキセン、83重量%
のベンゼンおよび13重量%のシクロヘキサンから成る
混合物を、0.85gの水、0.86gの醋酸および0
.5gの脆いゼオライト(H−ZSM)と共に撹拌し、
実施例1aにおけると同様に反応させ、分析したところ
、反応器からの排出物は、39.2重量%のシクロヘキ
シルエステルおよび8.7重量%のシクロヘキサノール
(出発時シクロヘキセン量に対し)を含有することが認
められた。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシル
ベンゼンおよびアセチルベンゼンの量は、いずれもGC
検知限度以下であった。
のベンゼンおよび13重量%のシクロヘキサンから成る
混合物を、0.85gの水、0.86gの醋酸および0
.5gの脆いゼオライト(H−ZSM)と共に撹拌し、
実施例1aにおけると同様に反応させ、分析したところ
、反応器からの排出物は、39.2重量%のシクロヘキ
シルエステルおよび8.7重量%のシクロヘキサノール
(出発時シクロヘキセン量に対し)を含有することが認
められた。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシル
ベンゼンおよびアセチルベンゼンの量は、いずれもGC
検知限度以下であった。
【0044】
【実施例2】10重量%のシクロヘキセン、77重量%
のベンゼンおよび13重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56gを0.85gの水、2.82gの醋酸
および0.5gの脆いゼオライト(H−ZSM)と共に
撹拌し、実施例1aと同様に反応させ、分析したところ
反応器からの排出物は45.6重量%のシクロヘキシル
エステルおよび21.5重量%のシクロヘキサノール(
出発時のシクロヘキセン量に対し)を含有することが認
められた。
のベンゼンおよび13重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56gを0.85gの水、2.82gの醋酸
および0.5gの脆いゼオライト(H−ZSM)と共に
撹拌し、実施例1aと同様に反応させ、分析したところ
反応器からの排出物は45.6重量%のシクロヘキシル
エステルおよび21.5重量%のシクロヘキサノール(
出発時のシクロヘキセン量に対し)を含有することが認
められた。
【0045】
【実施例3】実施例1cにおけると同じベンゼン、シク
ロヘキセンおよびシクロヘキサン混合物を、0.26g
の水、0.84gの醋酸および0.5gの脆いゼオライ
ト(H−ZSM11)と共に撹拌し、実施例1aにおけ
ると同様に反応させ、分析したところ、容器からの排出
物は、36.1重量%のシクロヘキシルエステルおよび
12.5重量%のシクロヘキサノール(出発時シクロヘ
キセン量に対し)を含有することが認められた。
ロヘキセンおよびシクロヘキサン混合物を、0.26g
の水、0.84gの醋酸および0.5gの脆いゼオライ
ト(H−ZSM11)と共に撹拌し、実施例1aにおけ
ると同様に反応させ、分析したところ、容器からの排出
物は、36.1重量%のシクロヘキシルエステルおよび
12.5重量%のシクロヘキサノール(出発時シクロヘ
キセン量に対し)を含有することが認められた。
【0046】
【実施例4】32重量%のシクロヘキセン、60重量%
のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る混
合物5.12gを、0.36gの水、0.92gの蟻酸
および1gの脆いゼオライト(H−ZSM11)と共に
、実施例1aと同様に撹拌し、110℃に加熱し、同実
施例におけるように処理し、分析したところ、反応器か
らの排出物は81.4重量%のシクロヘキシルホルメー
トおよび2.9重量%のシクロヘキサノール(出発時の
シクロヘキセン量に対し)を含有していることが確認さ
れた。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシルベン
ゼンおよびベンズアルデヒドの量は、いずれもGC検知
限度以下であり、その他の副生成物の生成は認められな
かった。
のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る混
合物5.12gを、0.36gの水、0.92gの蟻酸
および1gの脆いゼオライト(H−ZSM11)と共に
、実施例1aと同様に撹拌し、110℃に加熱し、同実
施例におけるように処理し、分析したところ、反応器か
らの排出物は81.4重量%のシクロヘキシルホルメー
トおよび2.9重量%のシクロヘキサノール(出発時の
シクロヘキセン量に対し)を含有していることが確認さ
れた。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシルベン
ゼンおよびベンズアルデヒドの量は、いずれもGC検知
限度以下であり、その他の副生成物の生成は認められな
かった。
【0047】
【実施例5】32重量%のシクロヘキセン、60重量%
のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る混
合物2.56gを、0.85gの水、3.48gのプロ
ピオン酸および0.5gの脆いゼオライト(H−ZSM
11)と共に、実施例1aにおけるように処理し、反応
させた。反応器からの排出物は、32.8重量%のシク
ロヘキシルプロピオネートおよび12.9重量%のシク
ロヘキサノート(出発時のシクロヘキセン量に対し)を
含有することが認められた。
のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る混
合物2.56gを、0.85gの水、3.48gのプロ
ピオン酸および0.5gの脆いゼオライト(H−ZSM
11)と共に、実施例1aにおけるように処理し、反応
させた。反応器からの排出物は、32.8重量%のシク
ロヘキシルプロピオネートおよび12.9重量%のシク
ロヘキサノート(出発時のシクロヘキセン量に対し)を
含有することが認められた。
【0048】
【実施例6】32重量%のシクロヘキセン、60重量%
のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る混
合物5.1g、醋酸5.60gおよび脆いゼオライト(
H−ZSM11)1gに対して、シクロヘキセン/モル
当たり(a)1.0モル、(b)1.1モル、(c)1
.7モル、(d)2.0モルおよび(e)2.3モルの
水を添加し、アルゴンを導入し、120℃に2時間加熱
した。室温に放冷後、有機相、水性相およびゼオライト
相に分離した。シクロヘキサノールおよびエステルの収
率をガスクロマトグラフィーにより測定し、醋酸値を電
位差滴定法により測定した。結果を下表1に示す(シク
ロヘキサノールをアノールと略称する)。
のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る混
合物5.1g、醋酸5.60gおよび脆いゼオライト(
H−ZSM11)1gに対して、シクロヘキセン/モル
当たり(a)1.0モル、(b)1.1モル、(c)1
.7モル、(d)2.0モルおよび(e)2.3モルの
水を添加し、アルゴンを導入し、120℃に2時間加熱
した。室温に放冷後、有機相、水性相およびゼオライト
相に分離した。シクロヘキサノールおよびエステルの収
率をガスクロマトグラフィーにより測定し、醋酸値を電
位差滴定法により測定した。結果を下表1に示す(シク
ロヘキサノールをアノールと略称する)。
【0049】
【実施例7】32重量%のシクロヘキセン、60重量%
のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る混
合物5.1g、蟻酸4.3gおよび脆いゼオライト(H
−ZSM11)に、シクロヘキセン/モル当たり(a)
0.7モル、(b)1.1モル、(c)1.6モルおよ
び(d)2.2モルを添加し、110℃に2時間加熱し
た。室温に放冷後、有機相、水性相およびゼオライト相
に分離し、シクロヘキサノール(アノールと略称)およ
びエステルの収率をガスクロマトグラフィーにより、蟻
酸値を電位差滴定法により測定した。その結果を同じく
下表1に示す。
のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る混
合物5.1g、蟻酸4.3gおよび脆いゼオライト(H
−ZSM11)に、シクロヘキセン/モル当たり(a)
0.7モル、(b)1.1モル、(c)1.6モルおよ
び(d)2.2モルを添加し、110℃に2時間加熱し
た。室温に放冷後、有機相、水性相およびゼオライト相
に分離し、シクロヘキサノール(アノールと略称)およ
びエステルの収率をガスクロマトグラフィーにより、蟻
酸値を電位差滴定法により測定した。その結果を同じく
下表1に示す。
【0050】
【表1】
実施例 有機相
水性相 ゼオライト
相 エステル アノール
酸 エステル アノール 酸
エステル アノール 酸
(モル%)* (モル%)*
(モル%)*
6a 39.8
8.5 59 2.6 1.0
3 5.0 2.2
37 6b 38.0 8.3 5
1 2.8 1.2 16
4.8 2.4 33 6c
33.2 8.8 34 2.9
2.5 33 3.2
2.5 31 6d 29.6 7
.7 26 2.4 2.6
43 2.3 2.3 31
6e 30.5 8.3 23
2.4 2.9 45
1.5 2.6 31 7a 6
7.6 3.8 20 1.8
0.2 21 6.2 0
.8 54 7b 58.4 4.5
15 1.8 0.5
29 8.3 1.2 51
7c 58.6 5.4 7
1.6 0.9 36 3
.6 1.1 48 7d 51.
8 5.6 7 1.8
1.0 48 2.8 1.3
44 *出発時のシクロヘキセン量に対して
水性相 ゼオライト
相 エステル アノール
酸 エステル アノール 酸
エステル アノール 酸
(モル%)* (モル%)*
(モル%)*
6a 39.8
8.5 59 2.6 1.0
3 5.0 2.2
37 6b 38.0 8.3 5
1 2.8 1.2 16
4.8 2.4 33 6c
33.2 8.8 34 2.9
2.5 33 3.2
2.5 31 6d 29.6 7
.7 26 2.4 2.6
43 2.3 2.3 31
6e 30.5 8.3 23
2.4 2.9 45
1.5 2.6 31 7a 6
7.6 3.8 20 1.8
0.2 21 6.2 0
.8 54 7b 58.4 4.5
15 1.8 0.5
29 8.3 1.2 51
7c 58.6 5.4 7
1.6 0.9 36 3
.6 1.1 48 7d 51.
8 5.6 7 1.8
1.0 48 2.8 1.3
44 *出発時のシクロヘキセン量に対して
【0051】
【実施例8】32重量%のシクロヘキセン、60重量%
のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る混
合物5.1g、醋酸5.60gおよび脆いゼオライト(
H−ZSM11)に、シクロヘキセン1モル当たり2.
3モルの水を加え、アルゴンを導入し、120℃に2時
間加熱した。室温まで放冷後、有機相を他相から分離し
、水性相/ゼオライト相を、5.5gのベンゼン/シク
ロヘキセン/シクロヘキサン混合物で2回抽出し、得ら
れた各有機相中のシクロヘキサノールおよびエステル量
をガスクロマトグラフィーで測定した。その結果を下表
2に示す。
のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る混
合物5.1g、醋酸5.60gおよび脆いゼオライト(
H−ZSM11)に、シクロヘキセン1モル当たり2.
3モルの水を加え、アルゴンを導入し、120℃に2時
間加熱した。室温まで放冷後、有機相を他相から分離し
、水性相/ゼオライト相を、5.5gのベンゼン/シク
ロヘキセン/シクロヘキサン混合物で2回抽出し、得ら
れた各有機相中のシクロヘキサノールおよびエステル量
をガスクロマトグラフィーで測定した。その結果を下表
2に示す。
【0052】
【表2】水性相中のシクロヘキシルエステルおよびシク
ロヘキサノールの消耗量(出発時のシクロヘキセン量に
対するモル%) 反応後有機相 第1回抽出後有
機相 第2回抽出後有機相 エステル
アノール エステル アノール エ
ステル アノール
31.3 8.6 4.
2 3.6 0.4 1.
5
ロヘキサノールの消耗量(出発時のシクロヘキセン量に
対するモル%) 反応後有機相 第1回抽出後有
機相 第2回抽出後有機相 エステル
アノール エステル アノール エ
ステル アノール
31.3 8.6 4.
2 3.6 0.4 1.
5
【0053】
【実施例9】32重量%のシクロヘキセン、60重量%
のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る混
合物2.56g、吉草酸4.8gおよびスルホン酸基含
有架橋ポリスチレンを主体とするイオン交換樹脂50g
を10ミリリットル容積のオートクレーブに装填し、ア
ルゴンを導入した。次いで温度を120℃に上げ、2時
間後に内容物を室温まで放冷した。その液相を12gの
アセトンで希釈し、イオン交換樹脂の分離後、ガスクロ
マトグラフィー(毛細管カラム、内標準)で分析したと
ころ、55.5重量%のシクロヘキシルバレレート(出
発時のシクロヘキセン量に対して)を含有することが認
められた。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシル
ベンゼンおよびn−ブチルフェニルケトンの量は、すべ
てGC検知限度以下で、他の副生成物は認められなかっ
た。
のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る混
合物2.56g、吉草酸4.8gおよびスルホン酸基含
有架橋ポリスチレンを主体とするイオン交換樹脂50g
を10ミリリットル容積のオートクレーブに装填し、ア
ルゴンを導入した。次いで温度を120℃に上げ、2時
間後に内容物を室温まで放冷した。その液相を12gの
アセトンで希釈し、イオン交換樹脂の分離後、ガスクロ
マトグラフィー(毛細管カラム、内標準)で分析したと
ころ、55.5重量%のシクロヘキシルバレレート(出
発時のシクロヘキセン量に対して)を含有することが認
められた。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシル
ベンゼンおよびn−ブチルフェニルケトンの量は、すべ
てGC検知限度以下で、他の副生成物は認められなかっ
た。
【0054】
【実施例10】32重量%のシクロヘキセン、60重量
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56g、醋酸2.82g、水0.14gおよ
びスルホン酸基含有架橋ポリスチレンを主体とするイオ
ン交換樹脂64.1gを、容積10ミリリットルのオー
トクレーブ中で撹拌し、アルゴンを導入した。次いで温
度を120℃に上げ、2時間後に内容物を室温まで放冷
した。液相を12gのアセトンで希釈し、イオン交換樹
脂を分離してから、ガスクロマトグラフィー(毛細管カ
ラム、内標準)で分析したところ、35.6重量%のシ
クロヘキシルアセテートおよび3.6重量%のシクロヘ
キサノール(出発時のシクロヘキセンに対し)を含有す
ることが認められた。ジシクロヘキシルエーテル、シク
ロヘキシルベンゼンおよびアセチルベンゼンの量は、す
べてGC検知限度以下であった。
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56g、醋酸2.82g、水0.14gおよ
びスルホン酸基含有架橋ポリスチレンを主体とするイオ
ン交換樹脂64.1gを、容積10ミリリットルのオー
トクレーブ中で撹拌し、アルゴンを導入した。次いで温
度を120℃に上げ、2時間後に内容物を室温まで放冷
した。液相を12gのアセトンで希釈し、イオン交換樹
脂を分離してから、ガスクロマトグラフィー(毛細管カ
ラム、内標準)で分析したところ、35.6重量%のシ
クロヘキシルアセテートおよび3.6重量%のシクロヘ
キサノール(出発時のシクロヘキセンに対し)を含有す
ることが認められた。ジシクロヘキシルエーテル、シク
ロヘキシルベンゼンおよびアセチルベンゼンの量は、す
べてGC検知限度以下であった。
【0055】
【実施例11】32重量%のシクロヘキセン、60重量
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56g、n−ヘキサン酸5.4gおよびスル
ホン酸基含有架橋ポリスチレンを主体とするイオン交換
樹脂50gを、10ミリリットル容積のオートクレーブ
中で撹拌し、アルゴンを導入した。次いで温度を120
℃に上げ、2時間後に内容物を室温まで放冷し、液相を
12gのアセトンで希釈した。イオン交換樹脂分離後、
ガスクロマトグラフィー(毛細管カラム、内標準)で分
析したところ、58.2重量%のシクロヘキシルヘキサ
ノエートおよび1.5重量%のシクロヘキサノール(出
発時のシクロヘキサン量に対し)を含有していることが
認められた。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシ
ベンゼンおよびn−ペンチルフェニルケトンの量は、す
べてGC検知限度以下であった。
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56g、n−ヘキサン酸5.4gおよびスル
ホン酸基含有架橋ポリスチレンを主体とするイオン交換
樹脂50gを、10ミリリットル容積のオートクレーブ
中で撹拌し、アルゴンを導入した。次いで温度を120
℃に上げ、2時間後に内容物を室温まで放冷し、液相を
12gのアセトンで希釈した。イオン交換樹脂分離後、
ガスクロマトグラフィー(毛細管カラム、内標準)で分
析したところ、58.2重量%のシクロヘキシルヘキサ
ノエートおよび1.5重量%のシクロヘキサノール(出
発時のシクロヘキサン量に対し)を含有していることが
認められた。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシ
ベンゼンおよびn−ペンチルフェニルケトンの量は、す
べてGC検知限度以下であった。
【0056】
【実施例12】32重量%のシクロヘキセン、60重量
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56g、蟻酸2.16gおよび脆いゼオライ
ト(H−ZSM11)0.5を、10ミリリットル容積
のオートクレーブ中で撹拌し、アルゴンを導入した。次
いで温度を80℃に上げ、2時間後に内容物を室温まで
放冷し、液相を12gのアセトンで希釈した。ゼオライ
ト分離後、ガスクロマトグラフィー(毛細管カラム、内
標準)で分析したところ、90.4重量%のシクロヘキ
シルホルメートおよび1.3重量%のシクロヘキサノー
ル(出発時のシクロヘキセン量に対し)を含有するのが
認められた。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシ
ルベンゼンおよびベンズアルデヒドの量は、すべてGC
検知限度以下であった。
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56g、蟻酸2.16gおよび脆いゼオライ
ト(H−ZSM11)0.5を、10ミリリットル容積
のオートクレーブ中で撹拌し、アルゴンを導入した。次
いで温度を80℃に上げ、2時間後に内容物を室温まで
放冷し、液相を12gのアセトンで希釈した。ゼオライ
ト分離後、ガスクロマトグラフィー(毛細管カラム、内
標準)で分析したところ、90.4重量%のシクロヘキ
シルホルメートおよび1.3重量%のシクロヘキサノー
ル(出発時のシクロヘキセン量に対し)を含有するのが
認められた。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシ
ルベンゼンおよびベンズアルデヒドの量は、すべてGC
検知限度以下であった。
【0057】
【実施例13】40重量%のシクロヘキセン、20重量
%のベンゼンおよび40重量%のシクロヘキサンから成
る混合物2.05g、蟻酸2.16g、水0.18gお
よび脆いゼオライト(H−ZSM11)0.5gを、1
0ミリリットル容積のオートクレーブ中で撹拌し、アル
ゴンを導入した。次いで温度を100℃に上げ、2時間
後に内容物を室温まで放冷し、液相をアセトン12gで
希釈した。ゼオライトの分離後、ガスクロマトグラフィ
ー(毛細管カラム、内標準)で分析したところ、78.
1重量%のシクロヘキシルホルメートおよび4.9重量
%のシクロヘキサノール(出発時のシクロヘキセン量に
対し)を含有することが認められた。ジシクロヘキシル
エーテル、シクロヘキシルベンゼンおよびベンズアルデ
ヒドの量は、すべてGC検知限度以下であった。
%のベンゼンおよび40重量%のシクロヘキサンから成
る混合物2.05g、蟻酸2.16g、水0.18gお
よび脆いゼオライト(H−ZSM11)0.5gを、1
0ミリリットル容積のオートクレーブ中で撹拌し、アル
ゴンを導入した。次いで温度を100℃に上げ、2時間
後に内容物を室温まで放冷し、液相をアセトン12gで
希釈した。ゼオライトの分離後、ガスクロマトグラフィ
ー(毛細管カラム、内標準)で分析したところ、78.
1重量%のシクロヘキシルホルメートおよび4.9重量
%のシクロヘキサノール(出発時のシクロヘキセン量に
対し)を含有することが認められた。ジシクロヘキシル
エーテル、シクロヘキシルベンゼンおよびベンズアルデ
ヒドの量は、すべてGC検知限度以下であった。
【0058】
【実施例14】32重量%のシクロヘキセン、60重量
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56g、醋酸2.82g、水0.85gおよ
び脆いゼオライト(H−ZSM5)0.5gを、10ミ
リリットル容積のオートクレーブ中で撹拌し、アルゴン
を導入した。次いで温度を120℃まで上げ、2時間後
に内容物を室温まで放冷した。液相をアセトン12gで
希釈した。ゼオライトを濾別後、クロマトグラフィー(
毛細管カラム、内標準)で分析したところ、これは43
.9重量%のシクロヘキシルアセテートおよび21.9
重量%のシクロヘキサノール(出発時のシクロヘキセン
量に対し)を含有することが認められた。ジシクロヘキ
シルエーテル、シクロヘキシルベンゼンおよびアセチル
ベンゼンの量は、いずれもGC検知限度以下であった。
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56g、醋酸2.82g、水0.85gおよ
び脆いゼオライト(H−ZSM5)0.5gを、10ミ
リリットル容積のオートクレーブ中で撹拌し、アルゴン
を導入した。次いで温度を120℃まで上げ、2時間後
に内容物を室温まで放冷した。液相をアセトン12gで
希釈した。ゼオライトを濾別後、クロマトグラフィー(
毛細管カラム、内標準)で分析したところ、これは43
.9重量%のシクロヘキシルアセテートおよび21.9
重量%のシクロヘキサノール(出発時のシクロヘキセン
量に対し)を含有することが認められた。ジシクロヘキ
シルエーテル、シクロヘキシルベンゼンおよびアセチル
ベンゼンの量は、いずれもGC検知限度以下であった。
【0059】
【実施例15】32重量%のシクロヘキセン、60重量
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56g、醋酸2.82g、水0.85gおよ
び脆いゼオライト(H−ZSM10)0.5gを、10
ミリリットル容積のオートクレーブ中において撹拌し、
アルゴンを導入した。次いで温度を120℃まで上げ、
2時間後に内容物を室温まで放冷し、液相をアセトン1
2gで希釈した。ゼオライト濾別後、ガスクロマトグラ
フィー(毛細管カラム、内標準)で分析したところ、こ
れは21.3重量%のシクロヘキシルアセテートおよび
12.2重量%のシクロヘキサノール(出発時のシクロ
ヘキセン量に対し)を含有することが認められた。ジシ
クロヘキシルエーテル、シクロヘキシルベンゼンおよび
アセチルベンゼンの量は、すべてGC検知限度以下であ
った。
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56g、醋酸2.82g、水0.85gおよ
び脆いゼオライト(H−ZSM10)0.5gを、10
ミリリットル容積のオートクレーブ中において撹拌し、
アルゴンを導入した。次いで温度を120℃まで上げ、
2時間後に内容物を室温まで放冷し、液相をアセトン1
2gで希釈した。ゼオライト濾別後、ガスクロマトグラ
フィー(毛細管カラム、内標準)で分析したところ、こ
れは21.3重量%のシクロヘキシルアセテートおよび
12.2重量%のシクロヘキサノール(出発時のシクロ
ヘキセン量に対し)を含有することが認められた。ジシ
クロヘキシルエーテル、シクロヘキシルベンゼンおよび
アセチルベンゼンの量は、すべてGC検知限度以下であ
った。
【0060】
【実施例16】32重量%のシクロヘキセン、60重量
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56g、醋酸2.82g、水0.85gおよ
び脆いゼオライト(GA−ZSM11)0.5gを、1
0ミリリットル容積のオートクレーブ中で撹拌し、アル
ゴンを導入した。次いで温度を120℃まで上げ、2時
間後に内容物を室温まで放冷し、液相を12gのアセト
ンで希釈した。ゼオライトの濾別後、ガスクロマトグラ
フィー(毛細管カラム、内標準)で分析したところ、3
3.9重量%のシクロヘキシルアセテートおよび11.
8重量%のシクロヘキサノール(出発時のシクロヘキセ
ンに対し)を含有することが認められた。ジシクロヘキ
シルエーテル、シクロヘキシルベンゼンおよびアセチル
ベンゼンは、すべてGCの検知限度以下であった。
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物2.56g、醋酸2.82g、水0.85gおよ
び脆いゼオライト(GA−ZSM11)0.5gを、1
0ミリリットル容積のオートクレーブ中で撹拌し、アル
ゴンを導入した。次いで温度を120℃まで上げ、2時
間後に内容物を室温まで放冷し、液相を12gのアセト
ンで希釈した。ゼオライトの濾別後、ガスクロマトグラ
フィー(毛細管カラム、内標準)で分析したところ、3
3.9重量%のシクロヘキシルアセテートおよび11.
8重量%のシクロヘキサノール(出発時のシクロヘキセ
ンに対し)を含有することが認められた。ジシクロヘキ
シルエーテル、シクロヘキシルベンゼンおよびアセチル
ベンゼンは、すべてGCの検知限度以下であった。
【0061】
【実施例17】32重量%のシクロヘキセン、60重量
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物5.0g、醋酸5.5gおよびタングステネート
燐酸(H3 PW12O40)1.0gを、シクロヘキ
セン1モルに対し(a)1.5モルおよび(b)3.0
モルの水と混合し、10ミリリットル容積のオートクレ
ーブ中で撹拌し、アルゴンを導入した。次いで温度を1
20℃まで上げ、2時間後に内容物を室温まで放冷した
。有機相および水性相を分離し、それぞれをガスクロマ
トグラフィー(毛細管カラム、内標準)で分析した。両
相を12gのアセトンを添加して均質化し、シクロヘキ
シルアセテートおよびシクロヘキサノールの合計収率を
測定したところ、(a)の場合にはそれぞれ72重量%
および1重量%、(b)の場合にはそれぞれ37重量%
および2重量%であった(出発時のシクロヘキセン量に
対して)。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシル
ベンゼンおよびアセチルベンゼンの量は、すべてGC検
知限度以下であった。他の副生成物の生成も認められな
かった。
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物5.0g、醋酸5.5gおよびタングステネート
燐酸(H3 PW12O40)1.0gを、シクロヘキ
セン1モルに対し(a)1.5モルおよび(b)3.0
モルの水と混合し、10ミリリットル容積のオートクレ
ーブ中で撹拌し、アルゴンを導入した。次いで温度を1
20℃まで上げ、2時間後に内容物を室温まで放冷した
。有機相および水性相を分離し、それぞれをガスクロマ
トグラフィー(毛細管カラム、内標準)で分析した。両
相を12gのアセトンを添加して均質化し、シクロヘキ
シルアセテートおよびシクロヘキサノールの合計収率を
測定したところ、(a)の場合にはそれぞれ72重量%
および1重量%、(b)の場合にはそれぞれ37重量%
および2重量%であった(出発時のシクロヘキセン量に
対して)。ジシクロヘキシルエーテル、シクロヘキシル
ベンゼンおよびアセチルベンゼンの量は、すべてGC検
知限度以下であった。他の副生成物の生成も認められな
かった。
【0062】
実施例 有機相
水性相エステル
シクロヘキサノール エステル
シクロヘキサノール(モル%)*
(モル)*
a
41.5 0
29.3 1.0b 30
.10.9 7.6 1.0 *出発時のシクロヘキセン1モルに対するモル%
水性相エステル
シクロヘキサノール エステル
シクロヘキサノール(モル%)*
(モル)*
a
41.5 0
29.3 1.0b 30
.10.9 7.6 1.0 *出発時のシクロヘキセン1モルに対するモル%
【00
63】
63】
【実施例18】32重量%のシクロヘキセン、60重量
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物5.0gを、タングステンテネート燐酸(H3
PW12O40)1.0gおよびシクロヘキセン1モル
当たり(a)1モル、(b)5モルおよび(c)10モ
ルの醋酸と10ミリリットリ容積のアルゴン封入オート
クレーブ中で混合撹拌し、温度を120℃まで上げ、2
時間後に内容物を室温まで放冷した。シクロヘキシルア
セテートの収率を、ガスクロマトグラフィー(毛細管カ
ラム、内標準)で分析したところ、(a)の場合47重
量%、(b)の場合75重量%、(c)の場合85重量
%であることが認められた(出発時のシクロヘキセンに
対して)。
%のベンゼンおよび8重量%のシクロヘキサンから成る
混合物5.0gを、タングステンテネート燐酸(H3
PW12O40)1.0gおよびシクロヘキセン1モル
当たり(a)1モル、(b)5モルおよび(c)10モ
ルの醋酸と10ミリリットリ容積のアルゴン封入オート
クレーブ中で混合撹拌し、温度を120℃まで上げ、2
時間後に内容物を室温まで放冷した。シクロヘキシルア
セテートの収率を、ガスクロマトグラフィー(毛細管カ
ラム、内標準)で分析したところ、(a)の場合47重
量%、(b)の場合75重量%、(c)の場合85重量
%であることが認められた(出発時のシクロヘキセンに
対して)。
Claims (2)
- 【請求項1】 シクロヘキサノールおよびシクロヘキ
シルカルボキシレートに転化することによる、ベンゼン
およびシクロヘキサンとの混合物からシクロヘキセンを
分離する方法であって、シクロヘキセン、ベンゼンおよ
びシクロヘキサンの混合物を、強酸性固体触媒の存在下
、液相において、20から180℃で、炭素原子1から
8個の脂肪酸および水と反応させることを特徴とする方
法。 - 【請求項2】 請求項1による方法であって、(a)
ベンゼンおよびシクロヘキサンとの混合物中におけるシ
クロヘキセンを強酸性固体触媒の存在下、液相において
カルボン酸と反応させ、この反応の前あるいは後に、反
応後における水性相と有機相の分離がもたらされるのに
少くとも充分な量の水を添加し、(b)工程(a)にお
いて得られた液状反応混合物を、固体触媒の分離後、水
性相と有機相に分離し、(c)この水性相を、ベンゼン
、シクロヘキセンおよび/あるいはシクロヘキサンの混
合物で事前に抽出し、あるいは抽出することなく、工程
(a)に返還し、(d)有機相に含有されているシクロ
ヘキシルカルボキシレートを加水分解してシクロヘキサ
ノールを得ることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4029485.4 | 1990-09-18 | ||
DE4029485A DE4029485A1 (de) | 1990-09-18 | 1990-09-18 | Verfahren zur abtrennung von cyclohexen aus gemischen mit benzol und cyclohexan |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04247041A true JPH04247041A (ja) | 1992-09-03 |
JP3001689B2 JP3001689B2 (ja) | 2000-01-24 |
Family
ID=6414431
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3224514A Expired - Lifetime JP3001689B2 (ja) | 1990-09-18 | 1991-09-05 | ベンゼンおよびシクロヘキサンとの混合物からシクロヘキセンを分離する方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0476400B1 (ja) |
JP (1) | JP3001689B2 (ja) |
DE (2) | DE4029485A1 (ja) |
ES (1) | ES2111548T3 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4142944A1 (de) * | 1991-12-24 | 1993-07-01 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von cycloalkanolen |
EP0562139B1 (en) * | 1992-03-25 | 1995-12-13 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Process for preparation of lower fatty acid ester |
US5321155A (en) * | 1993-04-15 | 1994-06-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the production of cyclohexyladipates and adipic acid |
US5374767A (en) * | 1993-04-15 | 1994-12-20 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the production of cyclohexyladipates and adipic acid |
DE19637429A1 (de) * | 1996-09-13 | 1998-03-19 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Cyclopentanolen |
CN103214347A (zh) * | 2013-04-18 | 2013-07-24 | 湖南长岭石化科技开发有限公司 | 一种由苯生产环己醇的方法 |
WO2023090490A1 (ko) * | 2021-11-16 | 2023-05-25 | (주)웨니 | 이온성 액체를 이용한 노말-헥산과 1-헥센의 분리방법 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59193836A (ja) * | 1983-04-15 | 1984-11-02 | Asahi Chem Ind Co Ltd | アルコ−ル類の製造法 |
DE3583818D1 (de) * | 1984-05-25 | 1991-09-26 | Asahi Chemical Ind | Verfahren zur herstellung eines cyclischen alkohols. |
NL8801036A (nl) * | 1988-04-21 | 1989-11-16 | Stamicarbon | Werkwijze voor de bereiding van cyclohexanol en/of cyclohexanon. |
FR2630732B1 (fr) * | 1988-05-02 | 1990-07-20 | Rhone Poulenc Chimie | Procede de preparation du cyclohexanol |
-
1990
- 1990-09-18 DE DE4029485A patent/DE4029485A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-08-31 ES ES91114688T patent/ES2111548T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-08-31 EP EP91114688A patent/EP0476400B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-08-31 DE DE59108925T patent/DE59108925D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-09-05 JP JP3224514A patent/JP3001689B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2111548T3 (es) | 1998-03-16 |
EP0476400B1 (de) | 1998-01-21 |
DE59108925D1 (de) | 1998-02-26 |
EP0476400A1 (de) | 1992-03-25 |
JP3001689B2 (ja) | 2000-01-24 |
DE4029485A1 (de) | 1992-03-19 |
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---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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