JPH04246553A - イオンフロー記録用ヘッド基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、イオンフロー記録用
ヘッド基板の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】図３はイオンフローを用いて静電潜像を
形成する記録ヘッドの構成図であり、コロナ放電器５１
に対向して、イオンフロー記録用ヘッド５２が設けられ
ている。イオンフロー記録用ヘッド５２は、絶縁性基板
に、例えば３００ｄｐｉの高密度の貫通孔列５２ａが形
成され、貫通孔列５２ａの各位置の基板の上面及び下面
に共通電極５２ｂ及び個別電極５２ｃが形成され、共通
電極５２ｂ及び個別電極５２ｃの間には各貫通孔で独立
して所定の電圧を印加することができる構成となってい
る。この記録ヘッドはドラム５３上の誘電体層５３ａと
対向している。そしてコロナ放電器５１より発生したコ
ロナイオンを、電圧印加により電界が生じた貫通孔５２
ａより飛び出させ、誘電体層５３ａに付着させ、これに
より静電潜像が形成されるようになっている。

【０００３】そして静電潜像が形成された誘電体ドラム
５３は、現像後にその像が記録媒体へ転写され、誘電体
ドラム５３は初期化，クリーニングされて次の静電潜像
が形成される（図示省略）。

【０００４】ところで貫通孔に生じる電界は、Ｅ（電界
）＝Ｖ（電圧）／ｄ（電極間距離）により、電極間距離
ｄが小さいほど、大きくなるため、絶縁性基板は薄いほ
うが、低い駆動電圧Ｖで大きな電界Ｅを得ることができ
、より好ましい。

【０００５】一方絶縁性基板５２を薄くすると、絶縁性
基板に割れ等を生じて、その製造，取扱いが困難となる
という問題点があり、ある程度以上の板厚である必要が
ある。例えば絶縁性基板として感光性ガラスを用いる場
合には０．３ｍｍ以上の板厚で利用している。

【０００６】一方記録密度を高くするために、貫通孔の
孔径は０．１ｍｍ以下に形成するというように、基板板
厚より小さい径の貫通孔を形成する必要がある。基板に
貫通孔を形成する方法として感光性ガラスをエッチング
する方法がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】エッチングして基板に
貫通孔を形成する場合、エッチング液を感光性ガラスに
当て、エッチングされた感光性ガラスの部分を取り除き
、次々に新しいエッチング液を感光性ガラスに当てる必
要がある。

【０００８】ところが、基板板厚より小さい径の貫通孔
を形成する場合は、エッチングが進むにつれて、新しい
エッチング液を感光性ガラスの孔奥部に当てるのが難し
くなり、エッチング時間が長くなるおそれがあった。ま
た、エッチング液の当たり方によって感光性ガラスの場
所によるエッチング時間のばらつきが大きくなり、貫通
孔の径が不均一となる原因になっていた。

【０００９】そこで本発明の目的は、エッチング時間を
短くし、また貫通孔の径を均一にすることが可能なイオ
ンフロー記録用ヘッド基板の製造方法を提供することに
ある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のイオンフロー記録用ヘッド基板の製造方法
は、基板または光源は、基板に形成されるべき貫通孔部
分を貫通する回転中心軸を中心として回転可能であり、
光源の光軸と、回転中心軸とは所定角度傾いており、基
板または光源を回転中心軸を中心として回転し、光源か
らの平行光線を、フォトマスクを介して貫通孔部分の長
さ方向の端部位置または貫通孔部分の上方または下方に
焦点をおき、焦点に向けて照射し、これにより円錐台断
面形状部を露光して形成する。

【００１１】

【作用】光源の光軸と、回転中心軸とは所定角度傾いて
いるから、光源または基板を回転し、光源からの平行光
線を焦点に向けて照射し、これにより基板の円錐台断面
形状部を露光することができる。

【００１２】従って基板を熱現像（結晶化）するとこの
露光部（円錐台断面形状部）が結晶化する。

【００１３】露光部の径の大きな方からエッチングする
ことにより、露光部の径の大きな方からエッチングされ
た感光性ガラスの部分を効果的に取り除くことができ、
これにより次々に新しいエッチング液を感光性ガラスの
孔内に当てることができる。

【００１４】これによりエッチング時間が、すべての貫
通孔において均一に短かくなり、感光性ガラスの場所に
よるエッチング時間のばらつきが小さくなり、貫通孔の
径が均一となる。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図１に基づいて詳
細に説明する。

【００１６】図１において、絶縁性基板１として感光性
ガラス板を用いる。図１では説明を容易にするために１
つの貫通孔部分のみを示し、また基板１はその部分のみ
を取り出して示してある。光源は、絶縁性基板１の貫通
孔を形成するべき部分（貫通孔部分）１ａを貫通する絶
縁性基板１に垂直な回転中心軸２の周囲を、基板１の面
と平行に回転する回転円盤（図示省略）上に取り付けて
ある。回転中心軸２は貫通孔部分１ａの中心線と一致し
ている。光源からは平行光線が照射されるようになって
いる。光源の方向を向けるべき焦点を、貫通孔部分１ａ
の基板の下端１ｂに持ってくるものとする。このとき光
源の方向と回転中心軸２方向とは角度θをなす。光源と
してはハロゲンランプ，紫外線ランプ等が用いられる（
図示省略）。

【００１７】光源と基板１との間にはフォトマスク３が
回転円盤に固定して取り付けてあり（図示省略）、フォ
トマスク３は光源と共に回転し、光源からの光のうち、
一定の面積の光のみを基板に照射するようになっている
。フォトマスク３の面は基板１の面と平行になっており
、フォトマスク３に開けられている孔３ａは焦点位置に
楕円として光を照射し、その長径は焦点円の径と同一と
なっている。

【００１８】このように構成してあり、基板１を図１に
示す所定の位置に置いて、回転円盤を回転中心軸２を回
転中心として回転しながら、光源より光を照射すると、
回転中心軸２方向より角度θ傾いた方向より光が照射さ
れ、焦点位置１ｂを最も短径部としてその上に徐々に径
が大きくなった、円錐台断面形状の露光部１ｃが得られ
る。

【００１９】そして１つの貫通孔部の露光が終わると、
基板１を次の貫通孔形成位置に移動して、上述と同様に
して円錐台断面形状の露光部１ｃを形成するという工程
を繰り返し、所定の貫通孔列部の露光を行う。

【００２０】次に、基板１の露光部１ｃをエッチングし
貫通孔を形成する方法を図２に基づいて説明する。なお
図２は１つの貫通孔部のみを示してある。

【００２１】基板１の露光した貫通孔列を形成させる部
分を熱現像して、結晶化し、フッ酸等のエッチング液に
より矢印のように露光部の径の大きな方からエッチング
することにより、円錐台断面形状の貫通孔を形成する。

【００２２】本実施例において、各貫通孔形成部を露光
するときに、隣りの貫通孔形成位置に光源が対向するよ
うに基板を移動するとしたが、光源およびフォトマスク
側を移動するようにしてもよい。

【００２３】また、本実施例では焦点の位置を基板下面
の位置としたが、焦点の位置を基板下面より所定距離下
方の位置に変えることにより、さらに大きい円錐台断面
形状の露光部を得ることができる。

【００２４】また、焦点の位置を基板上面または基板上
面より所定距離上方の位置とし、回転円盤を回転しなが
ら、光源より光を照射することによっても、円錐台断面
形状の露光部が得られる。なお、この場合は露光部の下
方にいくほどその径が大きくなる。

【００２５】上述のように、焦点位置を基板上面の位置
とするときには光は基板上面の位置に集まるから、光の
うち一定の面積の光のみを基板に照射するためにはマス
クを基板の表面に密着して固定しておいてもよい。

【００２６】また本発明は、本実施例のように回転中心
軸が基板の貫通孔部分の中心線と一致する場合に限られ
ない。すなわち光源の光軸と、回転中心軸とが所定角度
傾いており、貫通孔部分の長さ方向の端部位置または上
記貫通孔部分の上方または下方に焦点をおいていれば、
回転中心軸は貫通孔部分を貫通していればよく、例えば
回転中心軸が上記貫通孔部分の中心線に対して傾いてい
てもよい。

【００２７】また、光源とフォトマスク３とを固定して
おき、基板１を回転中心軸２を回転中心として回転する
ことによっても、または光源，フォトマスク３と基板１
とをともに回転中心軸２を回転中心として回転すること
によっても、円錐台断面形状の露光部を得ることができ
る。

【００２８】

【発明の効果】本発明の製造方法により、基板に形成さ
れる貫通孔部分を、容易に貫通孔の長さ方向に円錐台断
面形状に露光できる。従って露光部の径の大きな方から
エッチングすることにより、露光部の径の大きな方から
エッチングされた感光性ガラスの部分を効果的に取り除
くことができ、これによりエッチングしやすく、エッチ
ング時間が、すべての貫通孔において均一に短かくなり
、感光性ガラスの場所によるエッチング時間のばらつき
が小さくなり、貫通孔の径が均一となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による露光状態を示す斜視図である。

【図２】露光した基板に形成される貫通孔を示す断面図
である。

【図３】イオンフローを用いて静電潜像を形成する記録
ヘッドの構成図である。

【符号の説明】

１　　　　基板 １ａ　　貫通孔部分 １ｂ　　焦点 ２　　　　回転中心軸 ３　　　　フォトマスク θ　　　　所定角度

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　基板または光源は、上記基板に形成さ
   れるべき貫通孔部分を貫通する回転中心軸を中心として
   回転可能であり、上記光源の光軸と、上記回転中心軸と
   は所定角度傾いており、上記基板または上記光源を上記
   回転中心軸を中心として回転し、上記光源からの平行光
   線を、フォトマスクを介して上記貫通孔部分の長さ方向
   の端部位置または上記貫通孔部分の上方または下方に焦
   点をおき、上記焦点に向けて照射し、これにより円錐台
   断面形状部を露光して形成することを特徴とするイオン
   フロー記録用ヘッド基板の製造方法。