JPH04245466A - 半導体搭載用リード付き基板の製造法 - Google Patents

半導体搭載用リード付き基板の製造法

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JPH04245466A
JPH04245466A JP1019691A JP1019691A JPH04245466A JP H04245466 A JPH04245466 A JP H04245466A JP 1019691 A JP1019691 A JP 1019691A JP 1019691 A JP1019691 A JP 1019691A JP H04245466 A JPH04245466 A JP H04245466A
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JP
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lead
lead frame
etching
wiring
leads
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JP1019691A
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Hajime Nakayama
肇 中山
Naoki Fukutomi
直樹 福富
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Resonac Corp
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Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体搭載用リード付
き基板の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】実装される半導体の面積比率を飛躍的に
向上させるものとして、マザー・ボードと別の小型基板
(ドーター・ボード)に複数の裸のLSIチップを直接
実装したマルチチップ・モデュールが提案されている(
NIKKEI MICRODEVICES 1989年
12月号、32〜60頁)。
【0003】このマルチチップ・モデュールで、半導体
が搭載される基板はリード付き基板であり、リード付き
基板の製造に使われるリードフレームは、0.15〜0
.25mm厚の金属シートを打ち抜くもしくはエッチン
グしてパターンを形成して製造されている。
【0004】また、複数の半導体を搭載するマルチチッ
プ・モジュールでは、半導体が搭載される基板で半導体
間の配線も同時に必要となる。このような要求に対して
、リードフレーム上に配線板を乗せ、配線板上に半導体
搭載の後、配線板周囲に配置したリードと配線板間をワ
イヤやはんだで接続するタイプや、リードフレームと絶
縁基材、銅箔等を積層プレスした後基板上の配線層とリ
ードをスルーホールやバイアホールで電気的に接続する
タイプなどが提案されている(NIKKEI MICR
ODEVICES 1989年12月号、32〜60頁
)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】金属シートを打ち抜く
もしくはエッチングしてリードフレームを製造する方法
ではリードを微細化、高密度化すること自体限界があり
、また微細化、高密度化するとリードフレームがマルチ
チップ・モジュールの製造工程中にふらつき位置精度の
面で問題があり、この点からもリードの微細化、高密度
化には限界があった。
【0006】また、複数の半導体を搭載しているマルチ
チップ・モジュールでは半導体間の配線も同時に行うた
めに、新な接続部を多く作ることとなり、信頼性低下や
検査を含む製造工程数が増加しコスト増加の原因となっ
ている。
【0007】本発明は、リードの微細化、高密度化を可
能とし、かつ半導体間接続部の信頼性に優れ、検査を含
む製造工程数が少なくてすむ半導体搭載用リード付き基
板の製造法を提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、剛性に優れる
金属薄板の上に少なくともリード部を含むリードフレー
ム形状の良導体金属のパターンを形成する工程、リード
部の少なくともアウターリードとなる部分を除いてリー
ドフレーム形状の良導体金属のパターン面を絶縁性基板
に接着させる工程、剛性に優れる金属薄板をエッチング
して少なくともリード部を含むリードフレーム形状のパ
ターンを形成する工程を含むことを特徴とするものであ
る。
【0009】図1は本発明の一実施例を示すものである
。板厚0.05mmの鉄ニッケル42合金箔1上に、1
μm厚のニッケルをめっき2した後、フィルムレジスト
を用いてレジストを形成し、次いで電気銅めっきを行い
80μmピッチの配線部と0.3mmピッチのリード部
を有するリードフレーム形状の厚さ30μm配線パター
ン3を形成した。このようにして得た少なくともリード
部を有するリードフレーム形状の配線パターン3の面に
ガラス布エポキシ樹脂プリプレーグ4、両面配線板5、
ガラス布エポキシ樹脂プリプレーグ4、銅箔6を重ねて
(図1(a))圧着し多層化した(図1(b))。ガラ
ス布エポキシ樹脂プリプレーグ4、両面配線板5、銅箔
6はリードフレーム形状の配線パターン3のリード部の
アウターリードとなる部分に対応する部分が打ち抜かれ
ている。次に、層間接続部にスルホール8を明け、スル
ーホールを含む全面に銅めっき7した(図1(c))後
、両面をリード、ダイパッド、必要な配線及び裏面の必
要な配線が残るようにパターンエッチングした。続いて
エッチングストッパの1μmニッケルをエッチング除去
した(図1(d))。 リードフレームのフレーム部を切断除去してリード付き
基板とした。剛性に優れる金属薄板としては、板厚0.
01〜0.1mmの鉄ニッケル合金、銅合金、銅等が好
ましい。 剛性に優れる金属薄板の上に形成される少なくともリー
ド部を含むリードフレーム形状の良導体金属としては銅
が好ましい。リードフレーム形状の良導体金属の厚みは
10〜50μmが好ましい。
【0010】
【発明の効果】本発明に於いては、次の効果が達成され
る。 (1) リードの幅、間隔を微細にすることができる。 (2) リードフレームの剛性を大にすることができる
のでリードのふらつきがなく、高精細で高い位置精度を
有するリードフレームが得られる。 (3) リード部と必要な配線部を一体化しているため
接続部は増加しない。 (4) 配線部は高密度配線が可能なように良導体金属
の厚みを薄くすることが可能で、リード部は高強度が得
られるようすることができる。従って、金属の厚みのみ
ならず、材質も使い分けることができ、配線部、リード
部共に最適化が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】  本発明の一実施例を示す断面図である。
【符号の説明】
1.鉄ニッケル42合金箔 2.ニッケルめっき 3.配線パターン 4.ガラス布エポキシ樹脂プリプレーグ5.両面配線板 6.銅箔 7.銅めっき 8.スルホール

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  剛性に優れる金属薄板の上に少なくと
    もリード部を含むリードフレーム形状の良導体金属のパ
    ターンを形成する工程、リード部の少なくともアウター
    リードとなる部分を除いてリードフレーム形状の良導体
    金属のパターン面を絶縁性基板に接着させる工程、剛性
    に優れる金属薄板をエッチングして少なくともリード部
    を含むリードフレーム形状のパターンを形成する工程を
    含むことを特徴とする半導体搭載用リード付き基板の製
    造法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2104142A3 (en) * 2008-03-18 2010-10-13 MediaTek Inc. Semiconductor chip package
US8018037B2 (en) 2009-04-16 2011-09-13 Mediatek Inc. Semiconductor chip package
US8106490B2 (en) 2008-03-18 2012-01-31 Mediatek Inc. Semiconductor chip package

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6352460A (ja) * 1986-08-22 1988-03-05 Hitachi Ltd マルチチツプモジユ−ルの製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6352460A (ja) * 1986-08-22 1988-03-05 Hitachi Ltd マルチチツプモジユ−ルの製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2104142A3 (en) * 2008-03-18 2010-10-13 MediaTek Inc. Semiconductor chip package
US7875965B2 (en) 2008-03-18 2011-01-25 Mediatek Inc. Semiconductor chip package
US8106490B2 (en) 2008-03-18 2012-01-31 Mediatek Inc. Semiconductor chip package
US8212343B2 (en) 2008-03-18 2012-07-03 Mediatek Inc. Semiconductor chip package
US8018037B2 (en) 2009-04-16 2011-09-13 Mediatek Inc. Semiconductor chip package
US8288848B2 (en) 2009-04-16 2012-10-16 Mediatek Inc. Semiconductor chip package including a lead frame

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