JPH04245042A - 光記録素子 - Google Patents
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- JPH04245042A JPH04245042A JP3231845A JP23184591A JPH04245042A JP H04245042 A JPH04245042 A JP H04245042A JP 3231845 A JP3231845 A JP 3231845A JP 23184591 A JP23184591 A JP 23184591A JP H04245042 A JPH04245042 A JP H04245042A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/007—Arrangement of the information on the record carrier, e.g. form of tracks, actual track shape, e.g. wobbled, or cross-section, e.g. v-shaped; Sequential information structures, e.g. sectoring or header formats within a track
- G11B7/0079—Zoned data area, e.g. having different data structures or formats for the user data within data layer, Zone Constant Linear Velocity [ZCLV], Zone Constant Angular Velocity [ZCAV], carriers with RAM and ROM areas
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、透明支持板 （基板）
と、染料含有記録層と、この記録層に被着された第１
反射層とを有し、光学的に読取りうる情報を含む読取り
専用メモリ（ＲＯＭ） 領域と、情報を光学的に記録し
且つ読取りうる記録（ＲＣ）領域とを具える光記録素子
に関するものである。
と、染料含有記録層と、この記録層に被着された第１
反射層とを有し、光学的に読取りうる情報を含む読取り
専用メモリ（ＲＯＭ） 領域と、情報を光学的に記録し
且つ読取りうる記録（ＲＣ）領域とを具える光記録素子
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】このような光記録素子は欧州特許出願公
開第０３５３３９１ 号明細書に開示されており既知で
ある。この欧州特許出願公開明細書の第１実施例によれ
ば、有機シアニン染料の層を記録層として用いている。 この層は染料を有機溶剤に溶かすことにより形成される
。すなわち、得られた溶液をＲＣ領域に相当する基板の
部分上に通常のスピンコーティング処理により設ける。 スピンコーティング処理中溶剤が蒸発し、固体の染料層
が得られる。次に、基板及び染料層の全表面にＡｕ反射
層を設け、この反射層にＵＶ硬化樹脂の保護層を被覆す
る。
開第０３５３３９１ 号明細書に開示されており既知で
ある。この欧州特許出願公開明細書の第１実施例によれ
ば、有機シアニン染料の層を記録層として用いている。 この層は染料を有機溶剤に溶かすことにより形成される
。すなわち、得られた溶液をＲＣ領域に相当する基板の
部分上に通常のスピンコーティング処理により設ける。 スピンコーティング処理中溶剤が蒸発し、固体の染料層
が得られる。次に、基板及び染料層の全表面にＡｕ反射
層を設け、この反射層にＵＶ硬化樹脂の保護層を被覆す
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、染料含有記録
層を用いると、ＲＯＭ領域とＲＣ領域との間の境界領域
で光反射量を低く（３０ ％未満に）するということを
確かめた。ＲＯＭ 領域及びＲＣ領域自体では７０％以
上の光反射量が得られる。この光記録素子を用いる場合
、ＲＯＭ 領域に存在する情報は集束されたレーザ光ビ
ームにより走査される。このレーザ光ビームはＲＯＭ
領域とＲＣ領域との間の境界線を横切り、次に案内トラ
ックを経てＲＣ領域中の位置に向けられる。ここでレー
ザ光エネルギーを増大させ、情報ビットを記録する。こ
の例は、ＲＯＭ 及びＲＣ領域間の境界線を極めて頻繁
に交差するということを説明するためのものである。Ｒ
ＯＭ 及びＲＣ領域間の境界領域での光反射量は極めて
低い為、レーザ光ビームの集束及び制御は最早や正確と
ならず、従って正しい記録及び読取り処理が最早や不可
能となるということを確かめた。本発明の目的は上述し
た欠点を解消することにある。
層を用いると、ＲＯＭ領域とＲＣ領域との間の境界領域
で光反射量を低く（３０ ％未満に）するということを
確かめた。ＲＯＭ 領域及びＲＣ領域自体では７０％以
上の光反射量が得られる。この光記録素子を用いる場合
、ＲＯＭ 領域に存在する情報は集束されたレーザ光ビ
ームにより走査される。このレーザ光ビームはＲＯＭ
領域とＲＣ領域との間の境界線を横切り、次に案内トラ
ックを経てＲＣ領域中の位置に向けられる。ここでレー
ザ光エネルギーを増大させ、情報ビットを記録する。こ
の例は、ＲＯＭ 及びＲＣ領域間の境界線を極めて頻繁
に交差するということを説明するためのものである。Ｒ
ＯＭ 及びＲＣ領域間の境界領域での光反射量は極めて
低い為、レーザ光ビームの集束及び制御は最早や正確と
ならず、従って正しい記録及び読取り処理が最早や不可
能となるということを確かめた。本発明の目的は上述し
た欠点を解消することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明支持板と
、染料含有記録層と、この記録層に被着された第１反射
層とを有し、光学的に読取りうる情報を含む読取り専用
メモリ領域と、情報を光学的に記録し且つ読取りうる記
録領域とを具える光記録素子において、前記の記録層が
読取り専用メモリ領域と記録領域との双方に亘って延在
し、読取り専用メモリ領域において記録層と透明支持板
との間に第２反射層が存在していることを特徴とする。 本発明の好適例では、Ａｇ又はＡｌ又はＡｕを含有する
第２反射層を用いる。
、染料含有記録層と、この記録層に被着された第１反射
層とを有し、光学的に読取りうる情報を含む読取り専用
メモリ領域と、情報を光学的に記録し且つ読取りうる記
録領域とを具える光記録素子において、前記の記録層が
読取り専用メモリ領域と記録領域との双方に亘って延在
し、読取り専用メモリ領域において記録層と透明支持板
との間に第２反射層が存在していることを特徴とする。 本発明の好適例では、Ａｇ又はＡｌ又はＡｕを含有する
第２反射層を用いる。
【０００５】以下図面につき説明するに、図１は従来の
光記録素子の径方向断面を示す線図である。この従来の
光記録素子は、例えばポリカーボネートより成るディス
ク状基板１を有する。この光記録素子は中心孔２を囲む
部分３を有し、この部分３の外側限界を破線４で示す。 この部分３はＲＯＭ （ 読出し専用メモリ） 領域で
あり、この領域内の情報トラック５を光学的に読取るこ
とができる。この情報トラックはらせん形状をしており
、その幅は０．６ μｍ 、深さは０．０８μｍ 、ピ
ッチ（ らせん状のひと巻きと次のひと巻きとの間の距
離） は１．６ μｍ である。 トラックは高レベルと低レベルとで交互に位置する情報
ビットを有しており、これら情報ビットはトラックに集
束されるレーザ光ビームにより光学的な反射で読取るこ
とができる。光記録素子は更に、ＲＯＭ 領域３に隣接
するＲＣ （記録） 領域と称する領域６を有している
。このＲＣ領域に情報が光学的に記録される。このＲＣ
領域６はサーボトラックとも称するらせん状の溝７を有
し、その幅は０．８ μｍ 、深さは０．０８μｍ 及
びピッチは１．６ μｍ である。 ＲＯＭ 領域３における情報トラック５及びＲＣ領域６
におけるサーボトラック７は基板１の製造に用いる射出
成形処理によりこの基板の製造中に設けられる。
光記録素子の径方向断面を示す線図である。この従来の
光記録素子は、例えばポリカーボネートより成るディス
ク状基板１を有する。この光記録素子は中心孔２を囲む
部分３を有し、この部分３の外側限界を破線４で示す。 この部分３はＲＯＭ （ 読出し専用メモリ） 領域で
あり、この領域内の情報トラック５を光学的に読取るこ
とができる。この情報トラックはらせん形状をしており
、その幅は０．６ μｍ 、深さは０．０８μｍ 、ピ
ッチ（ らせん状のひと巻きと次のひと巻きとの間の距
離） は１．６ μｍ である。 トラックは高レベルと低レベルとで交互に位置する情報
ビットを有しており、これら情報ビットはトラックに集
束されるレーザ光ビームにより光学的な反射で読取るこ
とができる。光記録素子は更に、ＲＯＭ 領域３に隣接
するＲＣ （記録） 領域と称する領域６を有している
。このＲＣ領域に情報が光学的に記録される。このＲＣ
領域６はサーボトラックとも称するらせん状の溝７を有
し、その幅は０．８ μｍ 、深さは０．０８μｍ 及
びピッチは１．６ μｍ である。 ＲＯＭ 領域３における情報トラック５及びＲＣ領域６
におけるサーボトラック７は基板１の製造に用いる射出
成形処理によりこの基板の製造中に設けられる。
【０００６】ＲＣ領域６の基板表面には染料層８が被着
される。この処理中、ＲＯＭ 領域３の基板表面は被覆
されている。層８は以下のようにして形成される。すな
わち、染料、特にシアニン染料を有機溶剤中に溶かす。 この溶液をＲＣ領域の基板表面上にスピンコーティング
する。このスピンコーティング中光記録素子が回転され
る為、被着された染料の溶液は基板表面全体に亘り分散
され、しかも溶剤は蒸発する。
される。この処理中、ＲＯＭ 領域３の基板表面は被覆
されている。層８は以下のようにして形成される。すな
わち、染料、特にシアニン染料を有機溶剤中に溶かす。 この溶液をＲＣ領域の基板表面上にスピンコーティング
する。このスピンコーティング中光記録素子が回転され
る為、被着された染料の溶液は基板表面全体に亘り分散
され、しかも溶剤は蒸発する。
【０００７】次に、ＲＯＭ 領域３から被覆体を除去し
、例えばＡｕより成る反射層９をＲＯＭ 領域３の基板
表面上及びＲＣ領域６の染料層８上に設ける。この目的
に適した処理はスパッタリング又は蒸着処理である。最
後に、Ａｕ層９に合成樹脂保護層１０を被着する。しか
し、上述した染料層の形成方法では、明瞭のために図面
には不相応に大きく示しているが、局部的なふくらみ部
１１が形成されるということを確かめた。このふくらみ
部１１の位置では、透明基板１を介してサーボトラック
７に集束されるレーザ光の吸収がレーザ光の反射を犠牲
にして増大する。この吸収が反射を極めて低く（３０％
未満に）する原因である。このように反射が極めて低く
なる為、ふくらみ部１１の領域でのレーザ光ビームの集
束及びトラッキングが著しく妨害され、読取り及び記録
が最早やできなくなる。 この問題に対する解決策を図２に示す本発明による光記
録素子により得るものである。
、例えばＡｕより成る反射層９をＲＯＭ 領域３の基板
表面上及びＲＣ領域６の染料層８上に設ける。この目的
に適した処理はスパッタリング又は蒸着処理である。最
後に、Ａｕ層９に合成樹脂保護層１０を被着する。しか
し、上述した染料層の形成方法では、明瞭のために図面
には不相応に大きく示しているが、局部的なふくらみ部
１１が形成されるということを確かめた。このふくらみ
部１１の位置では、透明基板１を介してサーボトラック
７に集束されるレーザ光の吸収がレーザ光の反射を犠牲
にして増大する。この吸収が反射を極めて低く（３０％
未満に）する原因である。このように反射が極めて低く
なる為、ふくらみ部１１の領域でのレーザ光ビームの集
束及びトラッキングが著しく妨害され、読取り及び記録
が最早やできなくなる。 この問題に対する解決策を図２に示す本発明による光記
録素子により得るものである。
【０００８】
【実施例】図２において、符号２０は透明基板を示す。
この基板は例えば、ポリカーボネート又はポリメチルメ
タクリレートのような透明合成樹脂から造る。或いはま
たガラス基板を用いることもできる。基板２０は外径が
１２０ｍｍ、内径が１５ ｍｍ 、厚さが１．２ ｍｍ
のディスク状にする。 これらの寸法はコンパクトディスク（ＣＤ）（ 商品名
） の標準寸法に一致する。図２の光記録素子は図１の
光記録素子のように、ＲＯＭ 領域２１とＲＣ領域２２
とを有している。ＲＯＭ 領域２１はらせん状の情報ト
ラック２３を有している。この情報トラックは、高レベ
ルと低レベルとに交互に位置する領域の形態の光学的に
読取りうる情報ビットを含んでいる。これら領域の長手
方向寸法は記録される情報に応じて例えば０．６ μｍ
から３．３ μｍ までで変化する。ＣＤ分野では通
常のように、記録された情報はＥＦＭ 方式に応じて変
調されている。これら領域間のレベル差はλ／４ ｎ
である。ここにλは読取りレーザ光の波長であり、ｎは
基板の材料の屈折率である。これら領域の幅はトラック
の幅（０．６ μｍ ）にほぼ一致する。読取りは反射
したレーザ光の位相差に基づいて行われる。
タクリレートのような透明合成樹脂から造る。或いはま
たガラス基板を用いることもできる。基板２０は外径が
１２０ｍｍ、内径が１５ ｍｍ 、厚さが１．２ ｍｍ
のディスク状にする。 これらの寸法はコンパクトディスク（ＣＤ）（ 商品名
） の標準寸法に一致する。図２の光記録素子は図１の
光記録素子のように、ＲＯＭ 領域２１とＲＣ領域２２
とを有している。ＲＯＭ 領域２１はらせん状の情報ト
ラック２３を有している。この情報トラックは、高レベ
ルと低レベルとに交互に位置する領域の形態の光学的に
読取りうる情報ビットを含んでいる。これら領域の長手
方向寸法は記録される情報に応じて例えば０．６ μｍ
から３．３ μｍ までで変化する。ＣＤ分野では通
常のように、記録された情報はＥＦＭ 方式に応じて変
調されている。これら領域間のレベル差はλ／４ ｎ
である。ここにλは読取りレーザ光の波長であり、ｎは
基板の材料の屈折率である。これら領域の幅はトラック
の幅（０．６ μｍ ）にほぼ一致する。読取りは反射
したレーザ光の位相差に基づいて行われる。
【０００９】基板２０には、ＲＣ領域２２の上側面にサ
ーボトラックとも称するらせん状の溝２４が設けられて
いる。透明基板２０を介してこのサーボトラック２４上
に集束させるレーザ光は、このサーボトラックを囲む領
域との位相差に基づいてこのサーボトラック或いは案内
トラックに沿って導びかれる。
ーボトラックとも称するらせん状の溝２４が設けられて
いる。透明基板２０を介してこのサーボトラック２４上
に集束させるレーザ光は、このサーボトラックを囲む領
域との位相差に基づいてこのサーボトラック或いは案内
トラックに沿って導びかれる。
【００１０】情報トラック２３及びサーボトラック２４
は基板の製造中に用いる射出成形処理中に型により形成
する。ＲＯＭ 領域２１では、情報トラック２３を有す
る基板表面に金属層２５、特にＡｇ、Ａｕ、又はＡｌの
層を被着する。この金属層を被着するのに適した方法は
スパッタリング処理又は蒸着処理である。このスパッタ
リング又は蒸着処理中ＲＣ領域２２における基板表面を
被覆しておく。この金属層の厚さは薄く、例えば３０〜
５０ ｎｍ とする。
は基板の製造中に用いる射出成形処理中に型により形成
する。ＲＯＭ 領域２１では、情報トラック２３を有す
る基板表面に金属層２５、特にＡｇ、Ａｕ、又はＡｌの
層を被着する。この金属層を被着するのに適した方法は
スパッタリング処理又は蒸着処理である。このスパッタ
リング又は蒸着処理中ＲＣ領域２２における基板表面を
被覆しておく。この金属層の厚さは薄く、例えば３０〜
５０ ｎｍ とする。
【００１１】全基板表面に、すなわちＲＯＭ 領域２１
の金属層２５とＲＣ領域２２におけるサーボトラック２
４を含む基板表面とに染料層２６を被着する。この目的
のために有機シアニン染料をジアセトンアルコールのよ
うな有機溶剤中に溶かす。この溶液を基板表面の中央に
堆積し、光記録素子を回転させ、これにより溶液を基板
の全表面に亘って分散させ且つ同時に又は後に溶剤を蒸
発させる。このようにして、例えば３０〜５０ ｎｍ
の均一厚さとした層が得られる。被着された染料層はデ
ィスクの中央部で厚肉部分となるおそれがあるが、この
中央部分を後の工程で除去し、中心孔２７を形成する。
の金属層２５とＲＣ領域２２におけるサーボトラック２
４を含む基板表面とに染料層２６を被着する。この目的
のために有機シアニン染料をジアセトンアルコールのよ
うな有機溶剤中に溶かす。この溶液を基板表面の中央に
堆積し、光記録素子を回転させ、これにより溶液を基板
の全表面に亘って分散させ且つ同時に又は後に溶剤を蒸
発させる。このようにして、例えば３０〜５０ ｎｍ
の均一厚さとした層が得られる。被着された染料層はデ
ィスクの中央部で厚肉部分となるおそれがあるが、この
中央部分を後の工程で除去し、中心孔２７を形成する。
【００１２】染料層２６上にはスぱったリング又は蒸着
により例えばＡｕ或いはＡｌより成る金属ミラー （反
射） 層２８を設け、その後この金属ミラー層にアクリ
レート又はメタクリレートより成る光硬化層のような合
成樹脂の保護層２９を被着する。
により例えばＡｕ或いはＡｌより成る金属ミラー （反
射） 層２８を設け、その後この金属ミラー層にアクリ
レート又はメタクリレートより成る光硬化層のような合
成樹脂の保護層２９を被着する。
【００１３】本発明による光記録素子は透明基板２０を
介して ＲＯＭ領域２１の情報トラック２３上に集束さ
れるレーザ光ビームにより読取る。この読取りは反射光
の位相差に基づいて行われる。反射光量は８０％を越え
、従ってＣＤ標準条件を充分に満足する。情報を記録す
る場合、レーザ光ビームを透明基板２０を介してＲＣ領
域２２における染料層２６上に集束させる。読取り処理
中はレーザ光ビームが反射光の位相差に基づいてサーボ
トラック２４をたどる。レーザ光ビムは記録すべき情報
に応じてＥＦＭ 変調方式に従って変調されている。Ｒ
Ｃ領域２２での露光領域では、特に染料層と基板表面と
の境界領域で染料層に変化が起る。 この変化は基板表面へのピットの形成或いは基板表面中
への染料分子の拡散を含みうる。この変化により露光領
域における光吸収量を変化させ、従って反射量を変化さ
せる。記録された情報は標準のＣＤプレーヤにより光学
的に読取ることができる。いかなる場合にもＲＣ領域に
おける反射光量は７０％を越える。ＲＯＭ 領域とＲＣ
領域との間の境界領域では反射光量は３０％よりも減少
しないということを確かめた。従って、図１による既知
の記録素子の前述した記録及び読取り問題は生じない。
介して ＲＯＭ領域２１の情報トラック２３上に集束さ
れるレーザ光ビームにより読取る。この読取りは反射光
の位相差に基づいて行われる。反射光量は８０％を越え
、従ってＣＤ標準条件を充分に満足する。情報を記録す
る場合、レーザ光ビームを透明基板２０を介してＲＣ領
域２２における染料層２６上に集束させる。読取り処理
中はレーザ光ビームが反射光の位相差に基づいてサーボ
トラック２４をたどる。レーザ光ビムは記録すべき情報
に応じてＥＦＭ 変調方式に従って変調されている。Ｒ
Ｃ領域２２での露光領域では、特に染料層と基板表面と
の境界領域で染料層に変化が起る。 この変化は基板表面へのピットの形成或いは基板表面中
への染料分子の拡散を含みうる。この変化により露光領
域における光吸収量を変化させ、従って反射量を変化さ
せる。記録された情報は標準のＣＤプレーヤにより光学
的に読取ることができる。いかなる場合にもＲＣ領域に
おける反射光量は７０％を越える。ＲＯＭ 領域とＲＣ
領域との間の境界領域では反射光量は３０％よりも減少
しないということを確かめた。従って、図１による既知
の記録素子の前述した記録及び読取り問題は生じない。
【図１】従来の光記録素子の径方向断面を示す線図であ
る。
る。
【図２】本発明による光記録素子の径方向断面を示す線
図である。
図である。
１，２０ 基板
２， ２７ 中心孔
３，２１ 部分 （ＲＯＭ 領域） ５，２３ 情
報トラック ６，２２ ＲＣ領域 ７，２４ サーボトラック ８，２６ 染料層 ９ 反射層 １０ 合成樹脂保護層 １１ ふくらみ部 ２５ 金属層 （第２反射層） ２８ 金属ミラー層 （第１反射層）２９ 保護層
報トラック ６，２２ ＲＣ領域 ７，２４ サーボトラック ８，２６ 染料層 ９ 反射層 １０ 合成樹脂保護層 １１ ふくらみ部 ２５ 金属層 （第２反射層） ２８ 金属ミラー層 （第１反射層）２９ 保護層
Claims (2)
- 【請求項１】 透明支持板と、染料含有記録層と、こ
の記録層に被着された第１反射層とを有し、光学的に読
取りうる情報を含む読取り専用メモリ領域と、情報を光
学的に記録し且つ読取りうる記録領域とを具える光記録
素子において、前記の記録層が読取り専用メモリ領域と
記録領域との双方に亘って延在し、読取り専用メモリ領
域において記録層と透明支持板との間に第２反射層が存
在していることを特徴とする光記録素子。 - 【請求項２】 請求項１に記載の光記録素子において
、前記の第２反射層がＡｇ又はＡｌ又はＡｕを含んでい
ることを特徴とする光記録素子。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL9002024A NL9002024A (nl) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | Optisch registratie-element. |
| NL9002024 | 1990-09-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04245042A true JPH04245042A (ja) | 1992-09-01 |
Family
ID=19857678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3231845A Pending JPH04245042A (ja) | 1990-09-14 | 1991-09-11 | 光記録素子 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5206063A (ja) |
| EP (1) | EP0475529B1 (ja) |
| JP (1) | JPH04245042A (ja) |
| DE (1) | DE69115183T2 (ja) |
| NL (1) | NL9002024A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5274623A (en) * | 1990-07-19 | 1993-12-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Information recording medium having high modulation degree |
| US5401549A (en) * | 1990-10-15 | 1995-03-28 | Ricoh Company, Ltd. | Optical information recording medium |
| US5316814A (en) * | 1991-05-14 | 1994-05-31 | Ricoh Company, Ltd. | Optical information recording medium |
| US5470627A (en) * | 1992-03-06 | 1995-11-28 | Quantum Corporation | Double-sided optical media for a disk storage device |
| US5997276A (en) * | 1995-02-14 | 1999-12-07 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Optical disc manufacturing apparatus |
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Family Cites Families (2)
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| US4940618A (en) * | 1988-07-30 | 1990-07-10 | Taiyo Yuden Company, Ltd. | Optical information recording medium |
-
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- 1990-09-14 NL NL9002024A patent/NL9002024A/nl not_active Application Discontinuation
-
1991
- 1991-09-10 DE DE69115183T patent/DE69115183T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-09-10 EP EP91202305A patent/EP0475529B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-09-11 US US07/758,916 patent/US5206063A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-09-11 JP JP3231845A patent/JPH04245042A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5206063A (en) | 1993-04-27 |
| DE69115183D1 (de) | 1996-01-18 |
| EP0475529B1 (en) | 1995-12-06 |
| EP0475529A1 (en) | 1992-03-18 |
| NL9002024A (nl) | 1992-04-01 |
| DE69115183T2 (de) | 1996-07-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20001207 |