JPH0423447A - 異物検出方法およびその装置 - Google Patents
異物検出方法およびその装置Info
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- JPH0423447A JPH0423447A JP2126727A JP12672790A JPH0423447A JP H0423447 A JPH0423447 A JP H0423447A JP 2126727 A JP2126727 A JP 2126727A JP 12672790 A JP12672790 A JP 12672790A JP H0423447 A JPH0423447 A JP H0423447A
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- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はＬＳＩウェハやホトマスク等上の異物検出方法
およびその装置に係り、特にＬＳＩ製造工程でのパター
ン付ウェハ上等の微小異物を高速高感度で検出する異物
検査に好適な異物検出方法およびその装置に関する。
およびその装置に係り、特にＬＳＩ製造工程でのパター
ン付ウェハ上等の微小異物を高速高感度で検出する異物
検査に好適な異物検出方法およびその装置に関する。
従来のＬＳＴウェハ等のパターン上に付着した微小異物
をパターンと弁別して検出する方法およびその装置は特
開昭６１−１０４２４３号公報に記載のものがある。
をパターンと弁別して検出する方法およびその装置は特
開昭６１−１０４２４３号公報に記載のものがある。
第４図は従来のこの異物検出方法およびその装置の一例
を示す全体構成図である。この異物検出方法は異物を強
調した検出信号ｖ、、とパターンを強調した検出信号Ｖ
＋＋から両者を比較して異物を強調検出するもので、
ウェハ１の表面に異物を強調する照明りとパターンを強
調する照明Ｈを行うため、それぞれレーザ等の照明光源
３Ｌ、３Ｈおよび集光レンズ３ｂＬ、３ｂＨを用いてお
り、照明光源３Ｌ、３Ｈは波長が異なっている。ウェハ
１上のパターンと異物で発生した散乱光を対物レンズ２
で集光し、波長分離プリズム４により上記照明光源３Ｌ
で発生した散乱光と照明光源３Ｈで発生した散乱光に分
離したのち、リレーレンズ５Ｌ、５Ｈを介して別々に光
電変換素子６Ｌ。
を示す全体構成図である。この異物検出方法は異物を強
調した検出信号ｖ、、とパターンを強調した検出信号Ｖ
＋＋から両者を比較して異物を強調検出するもので、
ウェハ１の表面に異物を強調する照明りとパターンを強
調する照明Ｈを行うため、それぞれレーザ等の照明光源
３Ｌ、３Ｈおよび集光レンズ３ｂＬ、３ｂＨを用いてお
り、照明光源３Ｌ、３Ｈは波長が異なっている。ウェハ
１上のパターンと異物で発生した散乱光を対物レンズ２
で集光し、波長分離プリズム４により上記照明光源３Ｌ
で発生した散乱光と照明光源３Ｈで発生した散乱光に分
離したのち、リレーレンズ５Ｌ、５Ｈを介して別々に光
電変換素子６Ｌ。
６Ｈで検出しており、リレーレンズ５Ｌ、５Ｈは両者の
検出倍率を合せるためのものである。光電変換素子６Ｌ
、６Ｈは並列出力型のフォトダイオードアレイであり、
その検出出力Ｖ［、、ＶＨを画素ごとに除算器７で除算
Ｖ Ｌ ／ Ｖイし、除算結果ＶＬ／ＶＨから比較回路
８により異物とパターンを弁別して、異物情報を異物メ
モリ９に格納する。
検出倍率を合せるためのものである。光電変換素子６Ｌ
、６Ｈは並列出力型のフォトダイオードアレイであり、
その検出出力Ｖ［、、ＶＨを画素ごとに除算器７で除算
Ｖ Ｌ ／ Ｖイし、除算結果ＶＬ／ＶＨから比較回路
８により異物とパターンを弁別して、異物情報を異物メ
モリ９に格納する。
第５図は第４図の回路構成図である。この回路での異物
とパターンの弁別は除算器７での除算結果Ｖ Ｌ ／
Ｖ Ｈとしきい値ｍを比較回路８で比較し、Ｖ 、、／
Ｖ Ｈ＞ ｍのときに異物と判定するが、またノイズ
を異物と誤判定しないように比較回路１０でＶ ｒ、
＞ Ｖ Ｔ ＋＋を判定し、アンドゲート１１で両者の
比較結果の論理積をとり、 （ｖｒ、／ｖｕ＞ｍ）△（Ｖ［、＞ＶＴＩ（） ＝１と
なったときのみ異物と判定する。この様子を第６図に示
す。
とパターンの弁別は除算器７での除算結果Ｖ Ｌ ／
Ｖ Ｈとしきい値ｍを比較回路８で比較し、Ｖ 、、／
Ｖ Ｈ＞ ｍのときに異物と判定するが、またノイズ
を異物と誤判定しないように比較回路１０でＶ ｒ、
＞ Ｖ Ｔ ＋＋を判定し、アンドゲート１１で両者の
比較結果の論理積をとり、 （ｖｒ、／ｖｕ＞ｍ）△（Ｖ［、＞ＶＴＩ（） ＝１と
なったときのみ異物と判定する。この様子を第６図に示
す。
第６図は第５図の機能説明図である。この機能図の２つ
の検出出力Ｖ ｃ −Ｖ Ｉ（からなる２次元子面図に
おいて、異物を判別するＶ ｔ、 ／ Ｖ Ｈのしきい
値ｍは直線の傾きとなり、斜線部が異物の領域となる。
の検出出力Ｖ ｃ −Ｖ Ｉ（からなる２次元子面図に
おいて、異物を判別するＶ ｔ、 ／ Ｖ Ｈのしきい
値ｍは直線の傾きとなり、斜線部が異物の領域となる。
上記従来技術は２つの検出出力Ｖｔ、Ｖｕからなる２次
元率面において傾きｍの直線で異物とパターンを弁別し
てしいるが、しかし第６図においてパターンの存在する
領域（非斜線部）と異物の存在する領域（斜線部）の境
界は必ずしも直線とはならず、実際上より正確には曲線
となることがほとんどである。この様子を第７図に示す
。
元率面において傾きｍの直線で異物とパターンを弁別し
てしいるが、しかし第６図においてパターンの存在する
領域（非斜線部）と異物の存在する領域（斜線部）の境
界は必ずしも直線とはならず、実際上より正確には曲線
となることがほとんどである。この様子を第７図に示す
。
第７図は第５図の機能の問題点説明図である。
この機能図の２つの検出出力ｖ、、／ｖＨからなる２次
元率面において、パターンと異物の存在する領域の境界
が曲線の場合には、パターン存在領域にあるパターンを
異物と誤検出することを避けるようにしきい値ｍ直線を
引くと、斜線部に存在する異物を見逃す危険性があるな
どの問題があった。
元率面において、パターンと異物の存在する領域の境界
が曲線の場合には、パターン存在領域にあるパターンを
異物と誤検出することを避けるようにしきい値ｍ直線を
引くと、斜線部に存在する異物を見逃す危険性があるな
どの問題があった。
本発明の目的は２つの検出信号からなる２次元率面にお
けるパターンの存在する領域の境界に忠実にしきい値曲
線（自由曲線）を設定可能にして、異物の見逃しをなく
すことのできる異物検出方法およびその装置を提供する
ことにある。
けるパターンの存在する領域の境界に忠実にしきい値曲
線（自由曲線）を設定可能にして、異物の見逃しをなく
すことのできる異物検出方法およびその装置を提供する
ことにある。
上記目的を達成するために、本発明の異物検出方法およ
びその装置は２つの検出手段から得られる検出信号値か
らなる２次元率面において、異物強調手段での検出出力
ｖ［、の値に対して一義的に定まる自由曲線のしきい値
ｆ（ｖＬ）を設定し、このしきい値ｆ（ｖＬ）と背景（
パターン）強調検出手段での検出出力ＶＨの値を比較す
ることにより、異物とパターンを弁別するようにしたも
のである。
びその装置は２つの検出手段から得られる検出信号値か
らなる２次元率面において、異物強調手段での検出出力
ｖ［、の値に対して一義的に定まる自由曲線のしきい値
ｆ（ｖＬ）を設定し、このしきい値ｆ（ｖＬ）と背景（
パターン）強調検出手段での検出出力ＶＨの値を比較す
ることにより、異物とパターンを弁別するようにしたも
のである。
また上記自由曲線のしきい値ｆ （■［、）を設定する
ために、あらかじめ同一種ウェハを検査して検出出力Ｖ
Ｌ 、 Ｖ Ｈの頻度分布からしきい値ｆ（’Ｖ＋、
）を決定するようにしたものである。
ために、あらかじめ同一種ウェハを検査して検出出力Ｖ
Ｌ 、 Ｖ Ｈの頻度分布からしきい値ｆ（’Ｖ＋、
）を決定するようにしたものである。
上記の異物検出方法およびその装置は２つの検出出力Ｖ
ｃ、Ｖ□からなる２次元率面において、異物強調検出手
段での検出出力ｖ、、の値で一義的に定めることができ
るしきい値ｆ（ＶＬ）曲線がパターンと異物の存在領域
の境界線を示す自由曲線となるので、パターン存在領域
に近接する異物を見逃すことがない。
ｃ、Ｖ□からなる２次元率面において、異物強調検出手
段での検出出力ｖ、、の値で一義的に定めることができ
るしきい値ｆ（ＶＬ）曲線がパターンと異物の存在領域
の境界線を示す自由曲線となるので、パターン存在領域
に近接する異物を見逃すことがない。
また上記自由線のしきい値ｆ（ＶＬ）曲線は、あらかじ
め同一種ウェハを検査して検出出力Ｖ ｃ ｔＶｌ（の
頻度分布をとると、ウェハ上には同一パタ−ンのチップ
が複数個存在するが異物の大きさや形状がランダムなた
め、頻度が一定値以上の領域をパターン存在領域として
その境界線から決定することができる。
め同一種ウェハを検査して検出出力Ｖ ｃ ｔＶｌ（の
頻度分布をとると、ウェハ上には同一パタ−ンのチップ
が複数個存在するが異物の大きさや形状がランダムなた
め、頻度が一定値以上の領域をパターン存在領域として
その境界線から決定することができる。
以下に本発明の実施例を第１図から第３図により説明す
る。
る。
第１図は本発明による異物検出方法およびその装置の一
実施例を示す回路構成図である。第１図において、この
回路での自由しきいイ直曲線を用いた異物とパターンの
弁別は、第４図のウェハ１上の異物を強調させて検出す
る光電変換素子６Ｌからえられる異物強調検出出力ｖ、
、とウェハ１上のパターン（背景）を強調させて検出す
る光電変換素子６Ｈからえられるパターン強調検出出力
■□とをＡ／Ｄコンバータ１２により各々ｎビット（通
常８ビツト）のディジタル値に変換したのち、しきい値
メモリ１３により異物強調検出出力ＶＬの値をアドレス
としてｖｌの値に対し一義的に定まるしきい値ｆ（ｖ［
、）を出力し、比較回路１４でパターン強調検出出力Ｖ
ｏとしきい値ｆ（Ｖ、、）を比較することにより、パタ
ーン強調検出出力ＶＨがしきい値ｆ（Ｖ［、）より小の
とき異物ありと認識して、そのときの検出出力Ｖ Ｌ
、 Ｖ ｎの値を異物メモリ１５に書き込む。マイコン
などのＣＰＵ１６は異物メモリ１５の内容を読みだして
異物マツプの作成などの必要な処理を行い、頻度分布メ
モリ１７は第７図のような２つの検出出力Ｖ Ｌ 、Ｖ
Ｈからなる２次元子面においてパターン存在領域の境
界を示す自由曲線しきい値ｆ（Ｖ、、）を作成するため
に使用される。
実施例を示す回路構成図である。第１図において、この
回路での自由しきいイ直曲線を用いた異物とパターンの
弁別は、第４図のウェハ１上の異物を強調させて検出す
る光電変換素子６Ｌからえられる異物強調検出出力ｖ、
、とウェハ１上のパターン（背景）を強調させて検出す
る光電変換素子６Ｈからえられるパターン強調検出出力
■□とをＡ／Ｄコンバータ１２により各々ｎビット（通
常８ビツト）のディジタル値に変換したのち、しきい値
メモリ１３により異物強調検出出力ＶＬの値をアドレス
としてｖｌの値に対し一義的に定まるしきい値ｆ（ｖ［
、）を出力し、比較回路１４でパターン強調検出出力Ｖ
ｏとしきい値ｆ（Ｖ、、）を比較することにより、パタ
ーン強調検出出力ＶＨがしきい値ｆ（Ｖ［、）より小の
とき異物ありと認識して、そのときの検出出力Ｖ Ｌ
、 Ｖ ｎの値を異物メモリ１５に書き込む。マイコン
などのＣＰＵ１６は異物メモリ１５の内容を読みだして
異物マツプの作成などの必要な処理を行い、頻度分布メ
モリ１７は第７図のような２つの検出出力Ｖ Ｌ 、Ｖ
Ｈからなる２次元子面においてパターン存在領域の境
界を示す自由曲線しきい値ｆ（Ｖ、、）を作成するため
に使用される。
第２図は第１図の自由曲線しきい値ｆ（Ｖ、、）の算出
方法を示すフロー図である。このしきい値ｆ（ｖ［、）
を算出する演算はＣＰＵ１６内のソフトウェアで行い、
算出結果をしきい値メモリ１３に書き込む。まず２つの
検出出力■いＶＰの頻度分布を作成するための頻度分布
メモリ１７をクリアし、しきい値メモリ１３に、 ｆ （Ｖ、、）＝２”−、、、、、■［、（ｖＴ。
方法を示すフロー図である。このしきい値ｆ（ｖ［、）
を算出する演算はＣＰＵ１６内のソフトウェアで行い、
算出結果をしきい値メモリ１３に書き込む。まず２つの
検出出力■いＶＰの頻度分布を作成するための頻度分布
メモリ１７をクリアし、しきい値メモリ１３に、 ｆ （Ｖ、、）＝２”−、、、、、■［、（ｖＴ。
ｆ （Ｖ ＋、） ＝ Ｏ−−Ｖ Ｌ＞ ＶＴＩ（””
：、、８ ／Ｃ をセットしてウェハ１の検査を行う。したがってＶ Ｌ
＞ Ｖ Ｔｌ（どなる検出出力ｖｒ、、ｖＨが異物メ
モリ１５に書き込まれる。ここでｎはＡ／Ｄコンバータ
１２のビット長であり、検出出力Ｖ［、、ＶＨは共に０
から ２ｎ−１までの値となる。ＣＰＵ１６は検査が終
了するまで異物メモリ１５から検出出力ｖ１．ｖｌ（を
取り込み、頻度分布メモリ１７のアドレスＭ （ＶＬ、
Ｖｌｌ）の内容に１を加える。こうして検査が終了する
と頻度分布メモリ１７には検出出力（ＶＬ、 ＶＦＩ）
の頻度分布ができる。
：、、８ ／Ｃ をセットしてウェハ１の検査を行う。したがってＶ Ｌ
＞ Ｖ Ｔｌ（どなる検出出力ｖｒ、、ｖＨが異物メ
モリ１５に書き込まれる。ここでｎはＡ／Ｄコンバータ
１２のビット長であり、検出出力Ｖ［、、ＶＨは共に０
から ２ｎ−１までの値となる。ＣＰＵ１６は検査が終
了するまで異物メモリ１５から検出出力ｖ１．ｖｌ（を
取り込み、頻度分布メモリ１７のアドレスＭ （ＶＬ、
Ｖｌｌ）の内容に１を加える。こうして検査が終了する
と頻度分布メモリ１７には検出出力（ＶＬ、 ＶＦＩ）
の頻度分布ができる。
ついでパターン領域と異物領域の境界を求める。
ウェハ１上には同一パターンからなるチップが複数個存
在するため、検出出力（ｖｒ、、 Ｖ）りの頻度が一定
値に以上の場合にはパターンとすることができる。一方
の異物は大きさや形状がランダムなため、検出出力（■
ｒ、、■□）の頻度が一定値に以上になると確率は非常
に低い。これにより各検出出力■、の値ｉに対して検出
出力ＶＨの値ｊをＯから順に変えて頻度分布メモリ１７
の内容Ｍ（ｉ。
在するため、検出出力（ｖｒ、、 Ｖ）りの頻度が一定
値に以上の場合にはパターンとすることができる。一方
の異物は大きさや形状がランダムなため、検出出力（■
ｒ、、■□）の頻度が一定値に以上になると確率は非常
に低い。これにより各検出出力■、の値ｉに対して検出
出力ＶＨの値ｊをＯから順に変えて頻度分布メモリ１７
の内容Ｍ（ｉ。
ｊ）を読みだし、
Ｍ （１１ｊ）＞ｋ
となったときの値ｊを検出出力ＶＢ、＝ｉにおけるパタ
ーン領域と異物領域の境界とし、 ｆ （ｉ） ＝ｊ−Ｑ をしきい値メモリ１３に自由曲線しきいイ直ｆ（Ｖｒ、
）として、書き込む。ここで値Ｑはパターンを異物と誤
検出することを防ぐためにパターン領域を広げるもので
ある。
ーン領域と異物領域の境界とし、 ｆ （ｉ） ＝ｊ−Ｑ をしきい値メモリ１３に自由曲線しきいイ直ｆ（Ｖｒ、
）として、書き込む。ここで値Ｑはパターンを異物と誤
検出することを防ぐためにパターン領域を広げるもので
ある。
上記の自由曲線しきい値ｆ（ｖ、、）の決定方法はＣＰ
Ｕ１６のソフトウェアにより自動的に行うものであるが
、ＣＰＵ１６を利用して頻度分布メモリ１７の内容をモ
ニタなどに表示し、ライトペンなどを用いて自由しきい
値開線ｆ（Ｖｔ、）を決定することもできる。これらの
しきい値開線ｆ（ＶＬ）の作成はウェハ１の種類の分だ
け必要であるが、−度作成したしきい値開線ｆ（Ｖｒ、
）はフロッピーディスクやハードディスクなどに記憶し
ておき、対象ウェハ１の種類が変わるごとに読み出して
しきい値メモリ１３に書き込むことにより検査が可能と
なる。なお第１図の実施例では光電変換素子６Ｌ、６Ｈ
の１画素分について記述したが、第４図のように光電変
換素子６Ｌ、６Ｈが複数画素（Ｎ画素）からなり並列出
力の場合には、第１図の回路がＣＰＵ１６と頻度分布メ
モリ１７を除いてＮ個必要となる。このことを避ける方
法を第３図に示す。
Ｕ１６のソフトウェアにより自動的に行うものであるが
、ＣＰＵ１６を利用して頻度分布メモリ１７の内容をモ
ニタなどに表示し、ライトペンなどを用いて自由しきい
値開線ｆ（Ｖｔ、）を決定することもできる。これらの
しきい値開線ｆ（ＶＬ）の作成はウェハ１の種類の分だ
け必要であるが、−度作成したしきい値開線ｆ（Ｖｒ、
）はフロッピーディスクやハードディスクなどに記憶し
ておき、対象ウェハ１の種類が変わるごとに読み出して
しきい値メモリ１３に書き込むことにより検査が可能と
なる。なお第１図の実施例では光電変換素子６Ｌ、６Ｈ
の１画素分について記述したが、第４図のように光電変
換素子６Ｌ、６Ｈが複数画素（Ｎ画素）からなり並列出
力の場合には、第１図の回路がＣＰＵ１６と頻度分布メ
モリ１７を除いてＮ個必要となる。このことを避ける方
法を第３図に示す。
第３図は本発明による異物検出方法および装置の他の実
施例を示す回路構成図である。第３図において、第４図
の光電変換素子６Ｌ、６Ｈの検出出力Ｖシ、ｖ＋（をＡ
／Ｄコンバータ１２で各画素ごとにディジタル値に変換
したのち、並列直列変換回路１８により各画素出力Ｖ、
４．ｖ＋（を時分割で出力させる。これによりしきい値
メモリ１３と比較回路１４と異物メモリ１５を各１回路
にすることができる。ここでＡ／Ｄコンバータ１２の変
換クロック周波数ｆ。［Ｈ２］とすると並列直列変換回
路１８の切替え周波数ｆ１＝Ｎ”ｆａ ［Ｈ２］となる
が、周波数ｆ１［Ｈ２］をあまり高速にできない場合に
は光電変換素子６Ｌ、６ＨのＮ画素を数ブロックに分割
して回路数を増せばよい。なお第３図から明らかなよう
に光電変換素子６Ｌ、６ＨがＣＣＤリニアイメージセン
サのような直列出力型の場合には、直列並列変換回路１
８を除くことによって本実施例がそのまま適用できる。
施例を示す回路構成図である。第３図において、第４図
の光電変換素子６Ｌ、６Ｈの検出出力Ｖシ、ｖ＋（をＡ
／Ｄコンバータ１２で各画素ごとにディジタル値に変換
したのち、並列直列変換回路１８により各画素出力Ｖ、
４．ｖ＋（を時分割で出力させる。これによりしきい値
メモリ１３と比較回路１４と異物メモリ１５を各１回路
にすることができる。ここでＡ／Ｄコンバータ１２の変
換クロック周波数ｆ。［Ｈ２］とすると並列直列変換回
路１８の切替え周波数ｆ１＝Ｎ”ｆａ ［Ｈ２］となる
が、周波数ｆ１［Ｈ２］をあまり高速にできない場合に
は光電変換素子６Ｌ、６ＨのＮ画素を数ブロックに分割
して回路数を増せばよい。なお第３図から明らかなよう
に光電変換素子６Ｌ、６ＨがＣＣＤリニアイメージセン
サのような直列出力型の場合には、直列並列変換回路１
８を除くことによって本実施例がそのまま適用できる。
本実施例によれば、ウェハ上の異物とパターンを各強調
した２つの検出出力Ｖ Ｌ 、Ｖ Ｈからなる２次元率
面において、パターン存在領域と異物存在領域の境界を
もとにして自由曲線のしきい値を決定できるので、実際
に則した異物とパターンの弁別が可能となる。
した２つの検出出力Ｖ Ｌ 、Ｖ Ｈからなる２次元率
面において、パターン存在領域と異物存在領域の境界を
もとにして自由曲線のしきい値を決定できるので、実際
に則した異物とパターンの弁別が可能となる。
本発明によれば、自由なしきい値曲線を用いて異物とパ
ターン（背景）の弁別ができるので、パターンの誤検出
や異物の見逃しがなくなり、異物検査の信頼性が向上で
きる効果がある。
ターン（背景）の弁別ができるので、パターンの誤検出
や異物の見逃しがなくなり、異物検査の信頼性が向上で
きる効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す回路構成図、第２図は
第１図のしきい値算出法のフロー図、第３図は本発明の
他の実施例を示す回路構成図、第４図は従来例を示す全
体構成図、第５図は第４図の回路構成図、第６図は第５
図の機能説明図。 ７図は第５図の機能の問題点説明図である。 １・・・ウェハ、 ２・・・対物レンズ、
３Ｌ、３Ｈ・・・照明光源、 ４・・・波長分離プリズム、 ６Ｌ、６Ｈ・・光電変換素子、 １２・・・Ａ／Ｄコンバータ、 １３・・・しきい値メモリ、 １４・・・比較回路、
１５・・・異物メモリ、 １６・・・ＣＰＵ。 １７・・・頻度分布メモリ、 １８・・・並列直列変換回路。 第 晃 図 （Ｖ−、ＶＨ）−／１（Ｖｔ、、南片１第 冴 凡 子、（−Ｎ・チ・ジ →う− 吊子 い４３ γ′ １− リエハ ２、− ン．１′物し〉ズ゛ ３Ｌ ＢＨ−、’！！明范看、 ３ｂＬ，３トＨ− 肚し×（゛ ＶＬ 、 ＶＨ−−一殺忠ホ力
第１図のしきい値算出法のフロー図、第３図は本発明の
他の実施例を示す回路構成図、第４図は従来例を示す全
体構成図、第５図は第４図の回路構成図、第６図は第５
図の機能説明図。 ７図は第５図の機能の問題点説明図である。 １・・・ウェハ、 ２・・・対物レンズ、
３Ｌ、３Ｈ・・・照明光源、 ４・・・波長分離プリズム、 ６Ｌ、６Ｈ・・光電変換素子、 １２・・・Ａ／Ｄコンバータ、 １３・・・しきい値メモリ、 １４・・・比較回路、
１５・・・異物メモリ、 １６・・・ＣＰＵ。 １７・・・頻度分布メモリ、 １８・・・並列直列変換回路。 第 晃 図 （Ｖ−、ＶＨ）−／１（Ｖｔ、、南片１第 冴 凡 子、（−Ｎ・チ・ジ →う− 吊子 い４３ γ′ １− リエハ ２、− ン．１′物し〉ズ゛ ３Ｌ ＢＨ−、’！！明范看、 ３ｂＬ，３トＨ− 肚し×（゛ ＶＬ 、 ＶＨ−−一殺忠ホ力
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、対象物体上の異物を強調させて第１の検出手段で検
出し、対象物体上の背景を強調させて第２の検出手段で
検出し、上記第１と第２の検出手段が得られる検出信号
値からなる２次元平面において、定められたしきい値曲
線によって異物を背景から分離して検出することを特徴
とする異物検出方法。 ２、対象物体上の異物を強調させて検出する第１の検出
手段と、対象物体上の背景を強調させて検出する第２の
検出手段と、上記第１と第２の検出手段から得られる検
出信号値からなる２次元平面において、定められたしき
い値曲線によって異物を背景から分離して検出する手段
とを備えたことを特徴とする異物検出装置。 ３、上記第１と第２の検出手段から得られる検出信号値
からなる２次元平面において、検出信号値の頻度分布を
とって異物と背景の境界線を求め、その境界線に基づい
て上記しきい値曲線を決定することを特徴とする請求項
２記載の異物検出装置。 ４、上記しきい値曲線の決定は予め対象物体と同一種類
の試料を用いて行うことを特徴とする請求項２または請
求項３記載の異物検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2126727A JP2664270B2 (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | 異物検出方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2126727A JP2664270B2 (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | 異物検出方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0423447A true JPH0423447A (ja) | 1992-01-27 |
| JP2664270B2 JP2664270B2 (ja) | 1997-10-15 |
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ID=14942378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2126727A Expired - Lifetime JP2664270B2 (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | 異物検出方法およびその装置 |
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Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPS61104243A (ja) * | 1984-10-29 | 1986-05-22 | Hitachi Ltd | 異物検出方法及びその装置 |
| JPS6382348A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-13 | Hitachi Ltd | 異物検査装置 |
-
1990
- 1990-05-18 JP JP2126727A patent/JP2664270B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61104243A (ja) * | 1984-10-29 | 1986-05-22 | Hitachi Ltd | 異物検出方法及びその装置 |
| JPS6382348A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-13 | Hitachi Ltd | 異物検査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2664270B2 (ja) | 1997-10-15 |
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