JP2635758B2 - 欠陥判別装置 - Google Patents

欠陥判別装置

Info

Publication number
JP2635758B2
JP2635758B2 JP7387789A JP7387789A JP2635758B2 JP 2635758 B2 JP2635758 B2 JP 2635758B2 JP 7387789 A JP7387789 A JP 7387789A JP 7387789 A JP7387789 A JP 7387789A JP 2635758 B2 JP2635758 B2 JP 2635758B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
defect
difference
image data
inspection object
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP7387789A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH02253109A (ja
Inventor
祥弘 杉山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP7387789A priority Critical patent/JP2635758B2/ja
Publication of JPH02253109A publication Critical patent/JPH02253109A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2635758B2 publication Critical patent/JP2635758B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、周期的なパターンを有する被検査物例えば
半導体ウエハの欠陥判別を行う欠陥判別装置に関する。
(従来の技術) 半導体ウエハ等のような周期的なパターンを有する被
検査物の欠陥検査は当初オペレータの目視により行なわ
れていたが、近年検査の自動化が進んでコンピュータ処
理により検査が行なわれるようになった。そこで、かか
る検査装置としてはFFT(高速フーリエ変換)処理を用
いたものや第9図に示すように2台の顕微鏡1,2を半導
体ウエハ3のパターン周期の整数倍だけ離して配置し、
画像処理装置4において各顕微鏡1,2で撮像された各画
像を比較する技術がある。
しかしながら、FFT処理は周期成分を除去するための
ものであって、この処理で欠陥部分まで処理することが
ある。そして、FFT処理は周期的な成分を除去して非周
期的な成分の検出を行ない易くするものであって、欠陥
を判別するためには別途欠陥判別の装置を付加する必要
がある。又、欠陥を有する被検査物と欠陥を有しない被
検査物とを分類する場合にはこの分類の装置も付加する
必要がある。又、FFT処理装置は高価でその処理に時間
がかかるという問題がある。
又、2つの画像を比較する技術では、この比較を高速
で行うために2値化処理が必要となる。ところが、2値
化処理する場合には被検査物としては白黒の鮮明な半導
体ウエハ3のようなものでないと欠陥を判別することが
困難となる。そのうえ、2つの画像を比較してその差を
求めようとすると、小領域に対して感度が低くなる。
又、半導体ウエハ3上で2つの顕微鏡1,2を走査させる
ので、その駆動機構が複雑となるとともにその走査の時
間がかかる。
(発明が解決しようとする課題) 以上のようにFFT処理では欠陥部分まで処理する恐れ
があり、又2画像の比較では精度高く欠陥を判別するこ
とができない。
そこで本発明は、周期パターンを有する被検査物の欠
陥を短時間でかつ高精度に判別できる欠陥判別装置を提
供することを目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、周期的なパターンを有する被検査物の欠陥
判別を行う欠陥判別装置において、被検査物を撮像して
この被検査物の画像データを得る撮像手段と、この撮像
手段で得られた画像データをパターンの周期の整数倍だ
けずらして元の画像データとの明るさの差を求める画像
差演算手段と、この画像差演算手段で求められた差画像
データをパターンに従って各小領域に分割する領域分割
手段と、この領域分割手段で分割された各小領域におけ
る明るさの各平均を求めこれら平均値の最大値と最小値
との差から欠陥判別を行う欠陥判別手段とを備えて上記
目的を達成しようとする欠陥判別装置である。
又本発明は、周期的なパターンを有する被検査物の欠
陥判別を行う欠陥判別装置において、被検査物を撮像し
てこの被検査物の画像データを得る撮像手段と、この撮
像手段で得られた画像データをパターンの周期の整数倍
だけずらして元の画像データとの明るさの差を求める画
像差演算手段と、この画像差演算手段で求められた差画
像データをパターンに従って各小領域に分割する領域分
割手段と、この領域分割手段で分割された各小領域にお
ける明るさの最大値と最小値との差を求めこの差の値か
ら欠陥判別を行う欠陥判別手段とを備えて上記目的を達
成しようとする欠陥判別装置である。
さらに本発明は、周期的なパターンを有する被検査物
の欠陥判別を行う欠陥判別装置において、被検査物を撮
像してこの被検査物の画像データを得る撮像手段と、こ
の撮像手段で得られた画像データをパターンの周期の整
数倍だけずらして元の画像データとの明るさの差を求め
る画像差演算手段と、この画像差演算手段で求められた
差画像データをパターンに従って各小領域に分割する領
域分割手段と、この領域分割手段で分割された各小領域
における明るさの標準偏差を求め、これら標準偏差の最
大値と最小値との差から欠陥判別を行う欠陥判別手段と
を備えて上記目的を達成しようとする欠陥判別装置であ
る。
又、本発明は、周期的なパターンを有する被検査物の
欠陥判別を行う欠陥判別装置において、被検査物を撮像
してこの被検査物の画像データを得る撮像手段と、この
撮像手段で得られた画像データをパターンの周期の整数
倍だけずらして元の画像データとの明るさの差を求める
画像差演算手段と、この画像差演算手段で求められた差
画像データをパターンに従って各小領域に分割する領域
分割手段と、この領域分割手段で分割された各小領域ご
との標準偏差を求めこれら各小領域ごとの標準偏差の値
群の最大値と最小値との差と、各小領域の標準偏差の値
群から検査領域全体に対する第2の標準偏差とを求め、
この差と第2の標準偏差との商の値より欠陥判別を行う
欠陥判別手段とを備えて上記目的を達成しようとする欠
陥判別装置である。
(作用) このような手段を備えたことにより、撮像手段で得ら
れた被検査物の画像データを画像差演算手段によりパタ
ーンの周期の整数倍だけずらして元の画像データとの明
るさの差を求め、この画像差演算手段で求められた差画
像データが領域分割手段によりパターンに従って各小領
域に分割され、これら小領域における明るさの各平均値
が欠陥判別手段により求められ、さらにこれら平均値の
最大値と最小値との差から欠陥判別が行なれる。
さらに上記手段を備えたことにより、上記領域分割手
段で分割された各小領域の明るさが欠陥判別手段により
求められるとともに上記画像差演算手段で求められた差
画像データにおける標準偏差の最大値と最小値との差が
求められてこれら差の値から欠陥判別が行われる。
又、上記手段を備えたことにより、上記領域分割手段
で分割された各小領域における明るさの標準偏差が欠陥
判別手段により求められ、さらにこれら標準偏差の最大
値と最小値との差から欠陥判別が行なわれる。
さらに上記手段を備えたことにより、上記領域分割手
段で分割された各小領域ごとの明るさの標準偏差を求
め、これら小領域ごとの標準偏差の最大値と最小値との
差と、各小領域ごとの標準偏差の値群から検査領域全体
に対する第2の標準偏差とを求め、この差と第2の標準
偏差との商の値より小領域の欠陥に感度の高い欠陥判別
が行なわれる。
(実施例) 以下、本発明の第1実施例について図面を参照して説
明する。
第1図は欠陥判別装置の構成図である。同図において
10は被検査物であって、この被検査物10には第2図に示
すように周期的なパターンが形成されている。なお、第
2図に示す被検査物10は模様「■」が周期的に配列され
たものとなっており、10a,10bはそれぞれ欠陥となって
いる。この被検査物10の上方には撮像装置11が配置され
て被検査物10を撮像するものとなっている。そして、こ
の撮像装置11から出力される画像信号は画像処理装置12
に送られている。
この画像処理装置12は撮像装置11の撮像により得られ
る画像データから被検査物10の欠陥判別を行う機能を有
するもので、次のような構成となっている。すなわち、
CPU(中央処理装置)等から成る主制御部13が備えら
れ、この主制御部13に画像メモリ14、画像差演算部15、
欠陥判別部16、領域分割部17及びCRT等の表示装置18が
接続されている。画像メモリ14にはA/D(アナログ/デ
ィジタル)変換器19が接続され、撮像装置11からの画像
信号がA/D変換器19でディジタル画像信号に変換されて
画像メモリ14に画像データとして記憶されるようになっ
ている。一方、画像差演算部15は画像メモリ14に記憶さ
れた画像データを被検査物10のパターンの周期の整数倍
だけずらして元の画像データとの明るさの差を求める機
能を有するものである。領域分割部17は画像差演算部15
で求められた差画像データを被検査物10のパターンに従
って各小領域に分割する機能を有するものであり、又欠
陥判別部16は領域分割部17で分割された各小領域におけ
る明るさの各平均値を求め、これら平均値の最大値と最
小値との差から欠陥判別を行う機能を有するものであ
る。
次に上記の如く構成された装置の作用について説明す
る。第2図に示すような欠陥10a,10bがある被検査物10
が撮像装置11の下方に配置されると、撮像装置11は被検
査物10を撮像してその画像信号を出力する。この画像信
号はA/D変換器19でディジタル画像信号に変換されて画
像メモリ14に画像データとして記憶される。このように
画像データが画像メモリ14に記憶されると、画像差演算
部15は画像メモリ14に記憶された画像データを読み出し
てこの画像データG1を第3図に示すように被検査物10の
パターンの1周期分だけずらして画像データG2を得る。
そして、画像差演算部15はこれら画像データG1とG2との
差を求めて差画像データG3を求める。つまり、各画像デ
ータG1とG2との差を求めることにより欠陥のない模様
「■」は相殺されるとともに欠陥10a,10bは濃淡レベル
の高い部分10a−1、10b−1及び濃淡レベルの低い部分
10a−2、10b−2となって欠陥部分が強調されるように
なる。
次に画像差演算部15により第4図に示すような差画像
データG3が得られる。このように差画像データG3が得ら
れると、領域分割部17は差画像データG3を同図に示すよ
うに被検査物10の周期的パターンに従って各小領域q1,q
2…qnに分割する。次に欠陥判別部16は各小領域q1,q2,
…qn別にそれぞれ明るさの平均値を求める。そして、欠
陥判別部16は各小領域q1,q2、…qnの各平均値の中から
最大値と最小値とを求めてこれら最大値と最小値との差
を求める。しかるに、欠陥判別部16はこの最大値と最小
値との差の値から被検査物10の良品,不良品の欠陥判別
を行う。この場合、被検査物10に欠陥があると、上記最
大値と最小値との差の値は大きくなる。
このように上記第1実施例においては、差画像データ
G3を各小領域q1,q2…qnに分割し、これら小領域q1,q2…
qnにおける明るさの各平均値を求めてその最大値と最小
値との差から欠陥判別を行なうようにしたので、簡単な
処理で高精度に被検査物10の欠陥の判別ができる。その
うえ、簡単な処理であるので、高速に被検査物10に対す
る欠陥判別ができる。
次に本発明の第2実施例について説明する。ここで、
第2実施例は上記第1図を参照して説明するが、第1実
施例と異なるところは画像処理装置12である。すなわ
ち、画像処理装置12には領域分割部17及び欠陥判別部16
が主制御部13に接続されている。領域分割部17は画像差
演算部15で求められた差画像データを被検査物10のパタ
ーンに従って各小領域に分割する機能を有するものであ
り、又欠陥判別部16は領域分割部17で分割された各小領
域における明るさの最大値と最小値との差を求めこの差
から欠陥判別を行う機能を有するものである。
次に作用について説明する。上記一実施例で説明した
ように画像差演算部15により第4図に示すような差画像
データG3が得られる。このように差画像データG3が得ら
れると、領域分割部17は差画像データG3を同図に示すよ
うに被検査物10の周期的パターンに従って各小領域q1,q
2…qnに分割する。次に欠陥判別部16は各小領域q1,q2,
…qn別にそれぞれ明るさの最大値と最小値とを求めて、
これら最大値と最小値との差を求める。しかるに、欠陥
判別部16はこの最大値と最小値との差の値から被検査物
10の良品,不良品の欠陥判別を行う。この場合、被検査
物10に欠陥があると、上記最大値と最小値との差の値は
大きくなる。
このように上記第2実施例においては、差画像データ
G3を各小領域q1,q2…qnに分割し、これら小領域q1,q2…
qnにおける明るさの最大値と最小値との差から欠陥判別
を行なうようにしたので、本実施例においても上記第1
実施例と同様の効果を奏することができる。
次に本発明の第3実施例について第5図に示す欠陥判
別装置の構成図を参照して説明する。なお、第1図と同
一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略す
る。画像処理装置30には欠陥判別部31が備えられてい
る。この欠陥判別部31は領域分割部17で分割された各小
領域q1,q2…qnにおける明るさの標準偏差を求め、これ
ら標準偏差の最大値と最小値との差から欠陥判別を行う
機能を有するものである。
次に作用について説明する。上記第2実施例と同様に
画像差演算部15により差画像データG3が求められ、次に
領域分割部17により差画像データG3が第4図に示すよう
に各小領域q1,q2…qnに分割される。ここで、欠陥判別
部31は各小領域q1,q2…qn別にそれぞれ明るさの標準偏
差値を求める。第6図(a)(b)はかかる標準偏差値
の度数分布を示すもので、同図(a)は大きな欠陥のあ
る被検査物10に対して求めたものであり、同図(b)は
小さな欠陥のある被検査物10に対して求めたものであ
る。なお、e1,e2によりそれぞれ欠陥を有する小領域の
標準偏差値を示している。次に欠陥判別部31は以上のよ
うにして求めた各小領域ごとの標準偏差値の最大値と最
小値との差を求め、この差の値から欠陥判別を行う。
このように上記第3実施例においては、各小領域q1,q
2…qnにおける明るさの標準偏差を求め、さらにこれら
標準偏差の最大値と最小値との差から欠陥判別を行うよ
うにしたので、上記第1実施例と同様の効果をすること
ができる。
次に本発明の第4実施例について第5図に示す欠陥判
別装置の構成図を参照して説明する。なお、第1図と同
一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略す
る。画像処理装置30には欠陥判別部31が備えられてい
る。この欠陥判別部31は領域分割部17で分割された各小
領域q1,q2…qnにおける明るさの標準偏差を求め、これ
ら標準偏差の最大値と最小値との差から欠陥判別を行う
機能を有するものである。
次に作用について説明する。上記第2実施例と同様に
画像差演算部15により差画像データG3が求められ、次に
領域分割部17により差画像データG3が第4図に示すよう
に各小領域q1,q2…qnに分割される。ここで、欠陥判別
部31は各小領域q1,q2…qn別にそれぞれ明るさの標準偏
差値を求める。第6図(a)(b)はかかる標準偏差値
の度数分布を示すもので、同図(a)は大きな欠陥のあ
る被検査物10に対して求めたものであり、同図(b)は
小さな欠陥のある被検査物10に対して求めたものであ
る。なお、e1,e2によりそれぞれ欠陥を有する小領域の
標準偏差値を示している。次に欠陥判別部31は以上のよ
うにして求めた各小領域ごとの標準偏差値の分布の最大
値と最小値との差A1{第6図(b)ではA2}を求める。
さらに各小領域ごとの標準偏差値の分布から画像全体に
対する第2の標準偏差値σ{第6図(b)ではσ
を求める。つまり、標準偏差値σは欠陥を有する領域
が大きくなるほど大きな値となる。そして、欠陥判別部
31は差A1を標準偏差σで除算し、この除算値から欠陥
判別を行う。なお、第6図(b)ではA2の値で欠
陥判別を行う。この場合、除算値は欠陥領域の大きさが
小さい程大きな値となる。ところで、上記差Anに対する
除算値An/σnを図に表わすと第7図に示す如くとな
る。なお、nは1,2,3…である。同図において差Anに対
して値αよりも大きい領域αは大きな欠陥のある小領
域を示し、かつ除算値An/σnに対して値βよりも大き
い領域βは小さな欠陥のある小領域を示している。従
って、欠陥判別部31は上記各値α,βを境として大きな
欠陥と小さな欠陥とを判別する。
このように上記第4実施例においては、大きな欠陥と
小さな欠陥の種類を判別できる。
なお、本発明は上記各実施例に限定されるものではな
くその主旨を逸脱しない範囲で変形してもよい。例え
ば、画像差演算部15は周期的パターンの1周期分だけず
らしているが、1周期に限らず整数倍の周期だけずらし
てもよい。さらに、縦横にずらすだけでなく斜め方向に
ずらして各模様「■」が重なるようにしてもよい。
[発明の効果] 以上詳記したように本発明によれば、周期パターンを
有する被検査物の欠陥を短時間でかつ高精度に判別でき
る欠陥判別装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は本発明に係わる欠陥判別装置の第1
実施例を説明するための図であって、第1図は構成図、
第2図は被検査物の外観図、第3図は差画像データの模
式図、第4図は差画像データの各小領域を示す模式図、
第5図は本発明の第3実施例の構成図、第6図は標準偏
差値の分布図、第7図は欠陥判別の作用を説明するため
の図、第8図は本発明装置の第4実施例の構成図、第9
図は従来技術を説明するための図である。 10……被検査物、11……撮像装置、12,30,40……画像処
理装置、13……主制御部、14……画像メモリ、15……画
像差演算部、16,31,41……欠陥判別部、17……領域分割
部、18……表示装置、19……A/D変換器。

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】周期的なパターンを有する被検査物の欠陥
    判別を行う欠陥判別装置において、 前記被検査物を撮像してこの被検査物の画像データを得
    る撮像手段と、 この撮像手段で得られた画像データを前記パターンの周
    期の整数倍だけずらして元の画像データとの明るさの差
    を求める画像差演算手段と、 この画像差演算手段で求められた差画像データを前記パ
    ターンに従って各小領域に分割する領域分割手段と、 この領域分割手段で分割された各小領域における明るさ
    の各平均を求めこれら平均値の最大値と最小値との差か
    ら欠陥判別を行う欠陥判別手段と、 を具備したことを特徴とする欠陥判別装置。
  2. 【請求項2】周期的なパターンを有する被検査物の欠陥
    判別を行う欠陥判別装置において、 前記被検査物を撮像してこの被検査物の画像データを得
    る撮像手段と、 この撮像手段で得られた画像データを前記パターンの周
    期の整数倍だけずらして元の画像データとの明るさの差
    を求める画像差演算手段と、 この画像差演算手段で求められた差画像データを前記パ
    ターンに従って各小領域に分割する領域分割手段と、 この領域分割手段で分割された各小領域における明るさ
    の最大値と最小値との差を求めこの差の値から欠陥判別
    を行う欠陥判別手段と、 を具備したことを特徴とする欠陥判別装置。
  3. 【請求項3】周期的なパターンを有する被検査物の欠陥
    判別を行う欠陥判別装置において、 前記被検査物を撮像してこの被検査物の画像データを得
    る撮像手段と、 この撮像手段で得られた画像データを前記パターンの周
    期の整数倍だけずらして元の画像データとの明るさの差
    を求める画像差演算手段と、 この画像差演算手段で求められた差画像データを前記パ
    ターンに従って各小領域に分割する領域分割手段と、 この領域分割手段で分割された各小領域における明るさ
    の標準偏差を求め、これら標準偏差の最大値と最小値と
    の差から欠陥判別を行う欠陥判別手段と、 を具備したことを特徴とする欠陥判別装置。
  4. 【請求項4】周期的なパターンを有する被検査物の欠陥
    判別を行う欠陥判別装置において、 前記被検査物を撮像してこの被検査物の画像データを得
    る撮像手段と、 この撮像手段で得られた画像データを前記パターンの周
    期の整数倍だけずらして元の画像データとの明るさの差
    を求める画像差演算手段と、 この画像差演算手段で求められた差画像データを前記パ
    ターンに従って各小領域に分割する領域分割手段と、 この領域分割手段で分割された各小領域ごとの標準偏差
    を求めこれら各小領域ごとの標準偏差の値群の最大値と
    最小値との差と、各小領域の標準偏差の値群から検査領
    域全体に対する第2の標準偏差とを求め、この差と第2
    の標準偏差との商の値より欠陥判別を行う欠陥判別手段
    と、 を具備したことを特徴とする欠陥判別装置。
JP7387789A 1989-03-28 1989-03-28 欠陥判別装置 Expired - Lifetime JP2635758B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7387789A JP2635758B2 (ja) 1989-03-28 1989-03-28 欠陥判別装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7387789A JP2635758B2 (ja) 1989-03-28 1989-03-28 欠陥判別装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02253109A JPH02253109A (ja) 1990-10-11
JP2635758B2 true JP2635758B2 (ja) 1997-07-30

Family

ID=13530870

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7387789A Expired - Lifetime JP2635758B2 (ja) 1989-03-28 1989-03-28 欠陥判別装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2635758B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6437862B1 (en) 1999-06-22 2002-08-20 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Defect inspection apparatus
JP2002259951A (ja) * 2001-02-27 2002-09-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 繰り返しパターン消去方法、欠陥検査方法及び装置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006284433A (ja) * 2005-04-01 2006-10-19 Tokyo Seimitsu Co Ltd 外観検査装置及び外観検査方法
KR101520835B1 (ko) * 2013-06-27 2015-05-18 파크시스템스 주식회사 이미지 획득 방법 및 이를 이용한 이미지 획득 장치
JP6512965B2 (ja) * 2015-07-01 2019-05-15 キヤノン株式会社 画像処理装置および画像処理方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6437862B1 (en) 1999-06-22 2002-08-20 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Defect inspection apparatus
JP2002259951A (ja) * 2001-02-27 2002-09-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 繰り返しパターン消去方法、欠陥検査方法及び装置
JP4560969B2 (ja) * 2001-02-27 2010-10-13 パナソニック株式会社 欠陥検査方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02253109A (ja) 1990-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4172761B2 (ja) 欠陥検査装置、欠陥検査方法およびプログラム
JP3706051B2 (ja) パターン検査装置および方法
JP2000036044A (ja) 欠陥統合処理装置および欠陥統合処理方法
JP2005172559A (ja) パネルの線欠陥検出方法及び装置
JP3560473B2 (ja) プリント基板の検査装置およびプリント基板の検査方法
JP2635758B2 (ja) 欠陥判別装置
JPH06160067A (ja) 回路パターンの寸法測定方法
US6879719B1 (en) Method for measurement of full-two dimensional submicron shapes
JPH0210461B2 (ja)
JP3788586B2 (ja) パターン検査装置および方法
JPH1048149A (ja) 画像欠陥検出方法及び装置
JP2715897B2 (ja) Icの異物検査装置及び方法
JP2002303588A (ja) パターン欠陥検査装置
JP2000321038A (ja) パターン欠陥検出方法
JP2638121B2 (ja) 表面欠陥検査装置
JP2001101417A (ja) 欠陥検出装置、欠陥検出システム、欠陥検出方法、及び記憶媒体
JP2827756B2 (ja) 欠陥検査装置
JPH11135583A (ja) チップのパターン検査装置および方法
JPH05130512A (ja) 固体撮像素子の画素欠陥測定装置
JP2010243214A (ja) 欠陥検出方法および欠陥検出装置
JP2765339B2 (ja) スルーホール検査装置
JPH10239027A (ja) 膜厚測定装置
JPH0682724B2 (ja) ウエハ欠陥検査装置
JPH0359362B2 (ja)
JPH02173873A (ja) 欠陥判定器