JPH04233263A - 成形ハイブリッド パッケージ及びこのためのリード フレーム - Google Patents
成形ハイブリッド パッケージ及びこのためのリード フレームInfo
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- JPH04233263A JPH04233263A JP3161936A JP16193691A JPH04233263A JP H04233263 A JPH04233263 A JP H04233263A JP 3161936 A JP3161936 A JP 3161936A JP 16193691 A JP16193691 A JP 16193691A JP H04233263 A JPH04233263 A JP H04233263A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【技術分野】本発明は成形ハイブリッド集積回路(HI
C)パッケージ及びHICパッケージを形成するために
使用されるリード フレーム構造に関する。
C)パッケージ及びHICパッケージを形成するために
使用されるリード フレーム構造に関する。
【0002】
【技術背景】ハイブリッド集積回路(HIC)は単一基
板上の複数の電子機能を結合する集積回路(IC)より
大きなマイクロ電子デバイスである。マイクロ電子デバ
イスの信頼性を保護及び延命すために、通常、これらは
適当なプラスチック材料、例えば、エポキシ内にカプセ
ル化(パッケージ化)される。このカプセル化は、サイ
ズが均一で,扱いが楽な成形パッケージが製造されるよ
うに配慮される。主要な関心事は、多数の周辺コンタク
ト(例えば、正方形構成)を持つ小さなサイズのパッケ
ージと、カプセル化プラスチック材料によってデバイス
に提供される保護にある。成形HICパッケージの外寸
は、ジョイント エレクトロン デバイス エン
ジニアリング カウンシル(Joint Elect
ron Device Engineering Co
uncil ,JEDEC)による標準サイズに対応し
、従って、成形HICは、典型的にICに対して提供さ
れるような空間内で使用される。
板上の複数の電子機能を結合する集積回路(IC)より
大きなマイクロ電子デバイスである。マイクロ電子デバ
イスの信頼性を保護及び延命すために、通常、これらは
適当なプラスチック材料、例えば、エポキシ内にカプセ
ル化(パッケージ化)される。このカプセル化は、サイ
ズが均一で,扱いが楽な成形パッケージが製造されるよ
うに配慮される。主要な関心事は、多数の周辺コンタク
ト(例えば、正方形構成)を持つ小さなサイズのパッケ
ージと、カプセル化プラスチック材料によってデバイス
に提供される保護にある。成形HICパッケージの外寸
は、ジョイント エレクトロン デバイス エン
ジニアリング カウンシル(Joint Elect
ron Device Engineering Co
uncil ,JEDEC)による標準サイズに対応し
、従って、成形HICは、典型的にICに対して提供さ
れるような空間内で使用される。
【0003】典型的には、HICは搭載パッド及びリー
ド フレームを使用してパッケージ化される。先行技
術でカプセル化されたHICパッケージが図8に断面図
で示されている。ここにおいて、抵抗、コンデンサ、ト
ランジスタ、IC、及びHICの他の要素のような一般
的に3として同定される複数の様々な電子要素を有する
、セラミック基板またはプリント配線基板のようなキャ
リア基板2が搭載パッド4と複数のリード5からなるリ
ード フレーム上に搭載される。ワイヤリング接続6
が様々なデバイス、基板上のパッド及びリード フレ
ーム上のリードに対して行なわれた後、全アセンブリが
適当なプラスチック材料7、例えば、エポキシ内にカプ
セル化される。このような先行技術のHICパッケージ
の一つの異形がT.ササモタ(T.Sasamota)
、N.センバ(N.Senba )、オオニシ( Oh
nishi)及びA.サトウ(A.Sato)らによっ
て、IEEE国際電子製造技術シンポジウムの議事録(
Proc.IEEE Int.Electronic
Manufacturing Technology
Symp. )、1987年、第16頁から第21頁に
掲載の論文『トランスファー成形標準パッケージ内の新
たなタイプのハイブリッドIC(A New Type
Hybrid IC in a Transfer−
molded Standard Package)』
において開示されている。残念なことに、このタイプの
設計は、パッケージの成形中及び成形後,熱ストレスを
発生させ、これがリード5へのワイヤー接続6、並びに
成形パッケージの保全性に悪影響を与える。従って、こ
の可能性を排除する、あるいは少なくとも低減させる成
形HIC設計を提供することが望まれる。
ド フレームを使用してパッケージ化される。先行技
術でカプセル化されたHICパッケージが図8に断面図
で示されている。ここにおいて、抵抗、コンデンサ、ト
ランジスタ、IC、及びHICの他の要素のような一般
的に3として同定される複数の様々な電子要素を有する
、セラミック基板またはプリント配線基板のようなキャ
リア基板2が搭載パッド4と複数のリード5からなるリ
ード フレーム上に搭載される。ワイヤリング接続6
が様々なデバイス、基板上のパッド及びリード フレ
ーム上のリードに対して行なわれた後、全アセンブリが
適当なプラスチック材料7、例えば、エポキシ内にカプ
セル化される。このような先行技術のHICパッケージ
の一つの異形がT.ササモタ(T.Sasamota)
、N.センバ(N.Senba )、オオニシ( Oh
nishi)及びA.サトウ(A.Sato)らによっ
て、IEEE国際電子製造技術シンポジウムの議事録(
Proc.IEEE Int.Electronic
Manufacturing Technology
Symp. )、1987年、第16頁から第21頁に
掲載の論文『トランスファー成形標準パッケージ内の新
たなタイプのハイブリッドIC(A New Type
Hybrid IC in a Transfer−
molded Standard Package)』
において開示されている。残念なことに、このタイプの
設計は、パッケージの成形中及び成形後,熱ストレスを
発生させ、これがリード5へのワイヤー接続6、並びに
成形パッケージの保全性に悪影響を与える。従って、こ
の可能性を排除する、あるいは少なくとも低減させる成
形HIC設計を提供することが望まれる。
【0004】
【発明の概要】本発明は成形ハイブリッド集積回路パッ
ケージに関し、本発明による回路パッケージにおいては
、集積回路を含む様々な回路要素を持つキャリア基板が
キャリア基板の周辺の回りに正方形構成に配列されたリ
ードのダウン セット部分と迎合部分によって形成さ
れる弾性の揺りかご内に支持され、ダウン セット部
分の終端がキャリア基板の周辺に配列されたパッドに固
定される。キャリア基板の組み立て及び結果としてのサ
ブアセンブリの成形の前にリードは、四分サイドの各々
の所の、それぞれ、リードの終端と中央部分を相互接続
する細長いバー及びダム バー、並びにダム バー
の終端の所の接続リンク及びブリッジの相互接続アレイ
を含むリード フレームの部分を構成する。リードの
ダウン セット部分及び弾性部分を含むこのリード
フレーム設計は、特に、熱接合によるリードの接続及
びキャリア基板及びリード サブアセンブリの回りの
カプセル化樹脂の成形の際に、キャリア基板とリード
フレームの間のストレスの除去を実現する。
ケージに関し、本発明による回路パッケージにおいては
、集積回路を含む様々な回路要素を持つキャリア基板が
キャリア基板の周辺の回りに正方形構成に配列されたリ
ードのダウン セット部分と迎合部分によって形成さ
れる弾性の揺りかご内に支持され、ダウン セット部
分の終端がキャリア基板の周辺に配列されたパッドに固
定される。キャリア基板の組み立て及び結果としてのサ
ブアセンブリの成形の前にリードは、四分サイドの各々
の所の、それぞれ、リードの終端と中央部分を相互接続
する細長いバー及びダム バー、並びにダム バー
の終端の所の接続リンク及びブリッジの相互接続アレイ
を含むリード フレームの部分を構成する。リードの
ダウン セット部分及び弾性部分を含むこのリード
フレーム設計は、特に、熱接合によるリードの接続及
びキャリア基板及びリード サブアセンブリの回りの
カプセル化樹脂の成形の際に、キャリア基板とリード
フレームの間のストレスの除去を実現する。
【0005】
【詳細な記述】図1及び図2は、本発明の成形HICパ
ッケージの好ましい実施例を示す。参照番号10によっ
て示されるこのパッケージは、成形カプセル化樹脂11
、キャリア基板12、及びキャリア基板の回りに正方形
構成に配列されたリード13を含む。この実施例に示さ
れるように、リード13は”J”−足構成を持つが、他
の構成、例えば、”L”−足構成を採用することもでき
る。樹脂は、キャリア基板及び基板に接続されたリード
の部分を包囲し、またキャリア基板上に配列されたHI
Cの様々な要素を損傷及び環境から保護する。
ッケージの好ましい実施例を示す。参照番号10によっ
て示されるこのパッケージは、成形カプセル化樹脂11
、キャリア基板12、及びキャリア基板の回りに正方形
構成に配列されたリード13を含む。この実施例に示さ
れるように、リード13は”J”−足構成を持つが、他
の構成、例えば、”L”−足構成を採用することもでき
る。樹脂は、キャリア基板及び基板に接続されたリード
の部分を包囲し、またキャリア基板上に配列されたHI
Cの様々な要素を損傷及び環境から保護する。
【0006】基板上に表面搭載された様々な要素を持つ
キャリア基板12の一つの別形のカプセル化される前の
略図が図6に示される。キャリア基板12は、剛性材料
、例えば、これに限定されるものではないが、セラミッ
クの平坦で比較的薄いプレートから成る。少なくとも一
つのICダイ14、コンデンサ15、抵抗体17及び特
定のHICの他の要素を含む複数の様々なHIC要素が
キャリア基板上に搭載される。HICのこれら様々な要
素を、互いに及び複数のコンタクトパッド18に接続す
るための複数の導体16がキャリア基板12の周辺の回
りに位置される。当分野において周知のように、導体1
6は、キャリア基板内あるいは構築層内にキャリア基板
の表面上の層によって埋め込まれる。IC上の端子領域
は、金ワイヤー、金テープあるいはテープ状ボンド19
によって導体16及び/あるいはコンタクト パッド
18に接続される。
キャリア基板12の一つの別形のカプセル化される前の
略図が図6に示される。キャリア基板12は、剛性材料
、例えば、これに限定されるものではないが、セラミッ
クの平坦で比較的薄いプレートから成る。少なくとも一
つのICダイ14、コンデンサ15、抵抗体17及び特
定のHICの他の要素を含む複数の様々なHIC要素が
キャリア基板上に搭載される。HICのこれら様々な要
素を、互いに及び複数のコンタクトパッド18に接続す
るための複数の導体16がキャリア基板12の周辺の回
りに位置される。当分野において周知のように、導体1
6は、キャリア基板内あるいは構築層内にキャリア基板
の表面上の層によって埋め込まれる。IC上の端子領域
は、金ワイヤー、金テープあるいはテープ状ボンド19
によって導体16及び/あるいはコンタクト パッド
18に接続される。
【0007】複数の導体リードあるいは端子13が成形
パッケージ10の周辺の回りに正方形配列にて空間配列
され、これらはフレキシブル金属、例えば、銅合金から
形成されたリボン状部材から成る。パッケージのサイズ
にも依るが、1000あるいはそれ以上という多数のリ
ードが、1インチの0.01(0.026cm)という
狭い間隔でこの周辺の回りに配列される。図2に示され
るように、各々のリード13は、成形樹脂の外側に伸び
る外側部分21及びダウン セット部分22、迎合部
分23及び肩部分24を含む形成樹脂内に伸びる内側部
分を持つ。
パッケージ10の周辺の回りに正方形配列にて空間配列
され、これらはフレキシブル金属、例えば、銅合金から
形成されたリボン状部材から成る。パッケージのサイズ
にも依るが、1000あるいはそれ以上という多数のリ
ードが、1インチの0.01(0.026cm)という
狭い間隔でこの周辺の回りに配列される。図2に示され
るように、各々のリード13は、成形樹脂の外側に伸び
る外側部分21及びダウン セット部分22、迎合部
分23及び肩部分24を含む形成樹脂内に伸びる内側部
分を持つ。
【0008】本発明に依るカプセル化HICを製造する
ために使用されるリードフレーム30の実施例が図3、
4、5、6及び7に示される。リード フレームは、
例えば、約0.03cm(0.01インチ)の厚さとキ
ャリア基板のサイズ及びパッケージ内のリードの四分数
に依存する幅とを有する銅等の導電材料の薄いストリッ
プからパターンをスタンピングあるいはエッチングする
ことによって一体的に形成される。この好ましい実施態
様においては、この導電材料は、スプリングテンパーさ
れ、70から76KPSに線引きされた銅のASTM
B 465合金194である。
ために使用されるリードフレーム30の実施例が図3、
4、5、6及び7に示される。リード フレームは、
例えば、約0.03cm(0.01インチ)の厚さとキ
ャリア基板のサイズ及びパッケージ内のリードの四分数
に依存する幅とを有する銅等の導電材料の薄いストリッ
プからパターンをスタンピングあるいはエッチングする
ことによって一体的に形成される。この好ましい実施態
様においては、この導電材料は、スプリングテンパーさ
れ、70から76KPSに線引きされた銅のASTM
B 465合金194である。
【0009】リード フレーム30の目的は、電気的
導体リード13を組み立ての前及び最中にHICとの空
間関係をサポートすることにあるが、ここで、リード1
3のチップがキャリア基板12の表面上に形成され、こ
の周辺の回りに配列されたコンタクト パッド18(
図6)に接合される。この接合は、熱圧縮(熱接合)あ
るいは超音波手段を含む適当な手段によって達成される
。
導体リード13を組み立ての前及び最中にHICとの空
間関係をサポートすることにあるが、ここで、リード1
3のチップがキャリア基板12の表面上に形成され、こ
の周辺の回りに配列されたコンタクト パッド18(
図6)に接合される。この接合は、熱圧縮(熱接合)あ
るいは超音波手段を含む適当な手段によって達成される
。
【0010】リード フレーム30は一つの統合ユニ
ットを形成するが、これは、ストリップ31及び細長い
バー32を含む外側フレーム部分及びフレームの周辺の
回りに正方形配列に空間的に位置された内側に伸びるリ
ード13を相互接続するダムバーを含む内側リード
フレーム部分から成る。ダム バー33は、リード1
3をそれらの自由終端とカプセル化材の外側境界を表わ
す点線のプロファイル34(図3)によって囲まれる領
域より少し外側に位置する細長いバーとの中間で相互接
続する。ダム バー33の各々の終端は、リンク部材
35及びコーナー ブリッジ36に接続される。リー
ド13の外側を向く終端部分とリンク部材35は、細長
いバー32に接続される。バー32は、広いストリップ
31とリード フレーム30のコーナーの所で繋る。 細長いカット アウト37が各々のバー32に沿って
走る。カット アウト37は、リード フレーム3
0のバー32を広いストリップ31及びリード フレ
ーム30の各々のサイドのリード フレームに隣接す
る類似の細いストリップ32から熱的及び機械的に分離
する。各々のカットアウトは、典型的には、リード
フレームの広がりよりも小さな距離だけ伸びる。
ットを形成するが、これは、ストリップ31及び細長い
バー32を含む外側フレーム部分及びフレームの周辺の
回りに正方形配列に空間的に位置された内側に伸びるリ
ード13を相互接続するダムバーを含む内側リード
フレーム部分から成る。ダム バー33は、リード1
3をそれらの自由終端とカプセル化材の外側境界を表わ
す点線のプロファイル34(図3)によって囲まれる領
域より少し外側に位置する細長いバーとの中間で相互接
続する。ダム バー33の各々の終端は、リンク部材
35及びコーナー ブリッジ36に接続される。リー
ド13の外側を向く終端部分とリンク部材35は、細長
いバー32に接続される。バー32は、広いストリップ
31とリード フレーム30のコーナーの所で繋る。 細長いカット アウト37が各々のバー32に沿って
走る。カット アウト37は、リード フレーム3
0のバー32を広いストリップ31及びリード フレ
ーム30の各々のサイドのリード フレームに隣接す
る類似の細いストリップ32から熱的及び機械的に分離
する。各々のカットアウトは、典型的には、リード
フレームの広がりよりも小さな距離だけ伸びる。
【0011】図3は、金属の平坦な細長いストリップか
ら形成されたリード フレーム30の中間状態を示す
。 複数のリード フレームがストリップ上に隣り合わせ
に形成される。この状態においては、リード13は、リ
ードの内側を向くエッジが中央に位置する長方形の開口
を形成し、行内の各々の語尾リードのエッジが隣接する
行内の語尾リードのエッジ付近あるいはこれと接触する
ように形成される。各々の行内の各々の最後のリード1
3aの終端部分は、これらリードが互いに重複すること
を避けるために頭部を切断される。こうして頭部を切断
されたリードはまたキャリア基板12とリード フレ
ームとの組み立ての際のキャリア基板12の対応するコ
ーナーに対するストップを形成する。図6に示されるよ
うに、リード13の内側に向かう部分は、図3に示され
るリード フレーム プレフォームの平面からダウ
ン セットされ、平坦なダウン セット部分22及
び傾斜した迎合部分23が形成され、これらはリード1
3の肩部分24及びリード フレームの残りの平面に
対して垂直に変位される(図2、4及び5)。
ら形成されたリード フレーム30の中間状態を示す
。 複数のリード フレームがストリップ上に隣り合わせ
に形成される。この状態においては、リード13は、リ
ードの内側を向くエッジが中央に位置する長方形の開口
を形成し、行内の各々の語尾リードのエッジが隣接する
行内の語尾リードのエッジ付近あるいはこれと接触する
ように形成される。各々の行内の各々の最後のリード1
3aの終端部分は、これらリードが互いに重複すること
を避けるために頭部を切断される。こうして頭部を切断
されたリードはまたキャリア基板12とリード フレ
ームとの組み立ての際のキャリア基板12の対応するコ
ーナーに対するストップを形成する。図6に示されるよ
うに、リード13の内側に向かう部分は、図3に示され
るリード フレーム プレフォームの平面からダウ
ン セットされ、平坦なダウン セット部分22及
び傾斜した迎合部分23が形成され、これらはリード1
3の肩部分24及びリード フレームの残りの平面に
対して垂直に変位される(図2、4及び5)。
【0012】ダウン セット部分22は、リード
フレーム30の主平面とは異なる平面内に様々な方法に
て置かれる。一例においては、ダウン セット部分が
リード フレームの元の平坦な平面の下の平面に押し
下げられ、迎合部分23がリード13のダウン セッ
ト部分22と肩部分24に対してある角度を成し、これ
らを相互接続する。ダウン セット部分22と迎合部
分23は、揺りかご状受台を形成し、この中にキャリア
基板12がデバイス キャリア表面及びコンタクト
パッドが下側を向くように位置される。受台のサイズ
は、例えば、1.3cm(0.5インチ)から3.8c
m(1.5インチ)あるいはそれ以上の正方形に選択さ
れるサイズのキャリア基板が収容できるようにされる。 揺りかご状受台の深さは、好ましくは、キャリア基板の
デバイスを持たない表面がリード13の肩部分23の平
面の上に来るようにキャリア基板の高さ(厚さ)以下に
される。もう一例においては、リード13のダウン
セット部分22と迎合部分23に対応する部分がリード
フレームの平面の大部分がリード フレーム30
の元の主平面に等しいかこれより下に押されるように変
形される。リード フレームは、次に、キャリア基板
上に、リードのダウン セット部分の自由終端が基板
のコンタクト パットを覆うように接触するように位
置される。さらにもう一つのバージョンにおいては、平
坦なフレームがキャリア基板上に、回路及びパッドが上
方向を向くように位置され、これらリードがその位置で
キャリア基板上に反転揺りかご状の受台構成を形成する
ように変形される。
フレーム30の主平面とは異なる平面内に様々な方法に
て置かれる。一例においては、ダウン セット部分が
リード フレームの元の平坦な平面の下の平面に押し
下げられ、迎合部分23がリード13のダウン セッ
ト部分22と肩部分24に対してある角度を成し、これ
らを相互接続する。ダウン セット部分22と迎合部
分23は、揺りかご状受台を形成し、この中にキャリア
基板12がデバイス キャリア表面及びコンタクト
パッドが下側を向くように位置される。受台のサイズ
は、例えば、1.3cm(0.5インチ)から3.8c
m(1.5インチ)あるいはそれ以上の正方形に選択さ
れるサイズのキャリア基板が収容できるようにされる。 揺りかご状受台の深さは、好ましくは、キャリア基板の
デバイスを持たない表面がリード13の肩部分23の平
面の上に来るようにキャリア基板の高さ(厚さ)以下に
される。もう一例においては、リード13のダウン
セット部分22と迎合部分23に対応する部分がリード
フレームの平面の大部分がリード フレーム30
の元の主平面に等しいかこれより下に押されるように変
形される。リード フレームは、次に、キャリア基板
上に、リードのダウン セット部分の自由終端が基板
のコンタクト パットを覆うように接触するように位
置される。さらにもう一つのバージョンにおいては、平
坦なフレームがキャリア基板上に、回路及びパッドが上
方向を向くように位置され、これらリードがその位置で
キャリア基板上に反転揺りかご状の受台構成を形成する
ように変形される。
【0013】リード13の各々は、ダム バー33か
らバー32に向かう距離の約1/10から1/3だけダ
ム バー33から伸びる幅の広いセクション38とバ
ー32へと接続する幅の狭いセクション39を含む。幅
の広いセクションは、最初、熱半田付けステップの際に
キャリア基板12から熱を除去し、後に成形ステップの
際及びこの後に成形されたプラスチック形状の内側から
熱を除去するために提供される。
らバー32に向かう距離の約1/10から1/3だけダ
ム バー33から伸びる幅の広いセクション38とバ
ー32へと接続する幅の狭いセクション39を含む。幅
の広いセクションは、最初、熱半田付けステップの際に
キャリア基板12から熱を除去し、後に成形ステップの
際及びこの後に成形されたプラスチック形状の内側から
熱を除去するために提供される。
【0014】各々のリード13の迎合部分23は、リー
ドのダウン セット部分の制限された移動を許し、現
場での成形及び/あるいは熱サイクルの際のパッケージ
部材の熱膨張及び/あるいは熱収縮によって生じるスト
レスを吸収する。各々の迎合部分には、リード13の反
対側にノッチ42が提供される。これらノッチは互いに
オフセットされ、この迎合部材に追加の弾性を与える。
ドのダウン セット部分の制限された移動を許し、現
場での成形及び/あるいは熱サイクルの際のパッケージ
部材の熱膨張及び/あるいは熱収縮によって生じるスト
レスを吸収する。各々の迎合部分には、リード13の反
対側にノッチ42が提供される。これらノッチは互いに
オフセットされ、この迎合部材に追加の弾性を与える。
【0015】リード フレーム30には、また図7に
より詳細に示されるように熱応答性のコーナー セク
ションが提供される。各々のコーナー セクションは
、頭部を切断されたリード13a、リンク部材35、ブ
リッジ36及びディスク43を含む。リード13の細い
セクション39よりも細いリンク部材35及び36は、
リード フレームとキャリア基板の組立の熱サイクル
の際に協力してアセンブリの内側部分から熱を運び去り
、また熱ステップの結果としてストレスを吸収及び等化
する。
より詳細に示されるように熱応答性のコーナー セク
ションが提供される。各々のコーナー セクションは
、頭部を切断されたリード13a、リンク部材35、ブ
リッジ36及びディスク43を含む。リード13の細い
セクション39よりも細いリンク部材35及び36は、
リード フレームとキャリア基板の組立の熱サイクル
の際に協力してアセンブリの内側部分から熱を運び去り
、また熱ステップの結果としてストレスを吸収及び等化
する。
【0016】リード フレーム30とキャリア基板1
2を組み立てるためには、キャリア基板がリード13の
ダウン セット部分22と迎合部分23によって形成
される揺りかご状受台内に基板の周辺の回りに配列され
たコンタクト パッド18がリード13の終端部分と
重複するように入れられる。リード13の終端部分とコ
ンタクト パッドが次に互いに導電的に固定される。 これは、導電性の粘着剤あるいはその他の手段、例えば
、熱接合、熱圧縮接合、半田付け、鑞接あるいは他の適
当な手順によって達成される。有効な電気接続を確立す
るための便利な方法は、コンタクト パッド18かリ
ード13の終端に半田を与え、最小限の圧力にて、四辺
に沿って一度に熱手段によって接続を確立する方法であ
る。リード フレーム30、ダウン セット部分2
2及び各々のリード13の迎合部分23の非剛性の迎合
特性のために、これらリードは直接にパッドに中間接続
、例えば、ワイヤーを使用することなく接続される。熱
接続処理あるいは成形ステップの際の熱膨張及び熱収縮
あるいは機械的ストレスに起因するキャリア基板12の
歪あるいはねじれは、リード フレーム30及びリー
ド13の内側部分22及び23の弾性によって吸収され
る。
2を組み立てるためには、キャリア基板がリード13の
ダウン セット部分22と迎合部分23によって形成
される揺りかご状受台内に基板の周辺の回りに配列され
たコンタクト パッド18がリード13の終端部分と
重複するように入れられる。リード13の終端部分とコ
ンタクト パッドが次に互いに導電的に固定される。 これは、導電性の粘着剤あるいはその他の手段、例えば
、熱接合、熱圧縮接合、半田付け、鑞接あるいは他の適
当な手順によって達成される。有効な電気接続を確立す
るための便利な方法は、コンタクト パッド18かリ
ード13の終端に半田を与え、最小限の圧力にて、四辺
に沿って一度に熱手段によって接続を確立する方法であ
る。リード フレーム30、ダウン セット部分2
2及び各々のリード13の迎合部分23の非剛性の迎合
特性のために、これらリードは直接にパッドに中間接続
、例えば、ワイヤーを使用することなく接続される。熱
接続処理あるいは成形ステップの際の熱膨張及び熱収縮
あるいは機械的ストレスに起因するキャリア基板12の
歪あるいはねじれは、リード フレーム30及びリー
ド13の内側部分22及び23の弾性によって吸収され
る。
【0017】リード13のダウン セット部分22が
キャリア基板上のコンタクト パッド18と重複関係
にされた後、このサブアセンブリに熱半田リフロー処理
が加えられる。この実施態様においては、このサブアセ
ンブリに同時に熱及び穏やかな圧力が加えられる。例え
ば、220度C付近に加熱され、パッド上の半田がリフ
ローされ、穏やかな圧力によってリードとコンタク
パッドの接触が保たれる。その後、加圧下のまま冷却さ
れ、半田が固化され、コンタクト パッドとリードが
互いに固定される。圧力は、キャリア基板に損傷を与え
ないように注意すべきである。
キャリア基板上のコンタクト パッド18と重複関係
にされた後、このサブアセンブリに熱半田リフロー処理
が加えられる。この実施態様においては、このサブアセ
ンブリに同時に熱及び穏やかな圧力が加えられる。例え
ば、220度C付近に加熱され、パッド上の半田がリフ
ローされ、穏やかな圧力によってリードとコンタク
パッドの接触が保たれる。その後、加圧下のまま冷却さ
れ、半田が固化され、コンタクト パッドとリードが
互いに固定される。圧力は、キャリア基板に損傷を与え
ないように注意すべきである。
【0018】次に、キャリア基板12及びリード フ
レーム30を含むこのサブアセンブリが、半田付けステ
ップと同一ステーションにおいて、あるいはカプセル成
形ステーションにパスした後に、成形動作が加えられる
。 適当なカプセル化樹脂がサブアセンブリの回りに成形さ
れ、HIC回路を損傷及び環境から保護するための要求
される形状のカプセル11が形成される。このカプセル
化樹脂は、典型的には、エポキシ樹脂、例えば、ノバラ
ック(Novalac )エポキシ樹脂である。成形は
、典型的には、比較的低温、例えば、約160−180
度C、好ましくは、約170−175度Cにて行なわれ
る。
レーム30を含むこのサブアセンブリが、半田付けステ
ップと同一ステーションにおいて、あるいはカプセル成
形ステーションにパスした後に、成形動作が加えられる
。 適当なカプセル化樹脂がサブアセンブリの回りに成形さ
れ、HIC回路を損傷及び環境から保護するための要求
される形状のカプセル11が形成される。このカプセル
化樹脂は、典型的には、エポキシ樹脂、例えば、ノバラ
ック(Novalac )エポキシ樹脂である。成形は
、典型的には、比較的低温、例えば、約160−180
度C、好ましくは、約170−175度Cにて行なわれ
る。
【0019】成形サイクル(成形及び冷却)の際に、サ
ブアセンブリは、機械的ひずみを受ける。ひずみはリー
ド フレーム、キャリア基板、及び成形化合物の材料
の熱膨張率が全て異なるために発生する。このリード
フレーム設計は、アセンブリが成形されるとき、キャ
リア基板とリード フレームとの間のストレスが除去
されるようにする。
ブアセンブリは、機械的ひずみを受ける。ひずみはリー
ド フレーム、キャリア基板、及び成形化合物の材料
の熱膨張率が全て異なるために発生する。このリード
フレーム設計は、アセンブリが成形されるとき、キャ
リア基板とリード フレームとの間のストレスが除去
されるようにする。
【0020】成形が完結した後、ストリップ31、バー
32、ダム バー33、接続リンク部材35及びブリ
ッジ36を含むリード相互接続金属領域が除去され、リ
ード13の外側部分21が鋳型の外側に自由にされる。 次に、これら部分が要求される構成に曲げられる。この
好ましい実施例においては、これらリードは”J−形状
”を持ち、各々のリードの終端40はそれらの井戸内に
包囲される。この構成は、リードの終端が成形HICを
その後より大きな回路に組み立てる際の損傷、位置の変
動及び整合のずれの危険性を減少する。
32、ダム バー33、接続リンク部材35及びブリ
ッジ36を含むリード相互接続金属領域が除去され、リ
ード13の外側部分21が鋳型の外側に自由にされる。 次に、これら部分が要求される構成に曲げられる。この
好ましい実施例においては、これらリードは”J−形状
”を持ち、各々のリードの終端40はそれらの井戸内に
包囲される。この構成は、リードの終端が成形HICを
その後より大きな回路に組み立てる際の損傷、位置の変
動及び整合のずれの危険性を減少する。
【0021】本発明のリード フレーム設計は、図8
に示されるような先行技術の設計と比較して大きな向上
である。図8においては、集積回路は、リード5にワイ
ヤーボンド6を介して接続される。かなりの温度差、例
えば、−40度Cから175度Cの温度差を伴うカプセ
ル化及び現場での使用の際に、基板上の回路とリードフ
レームとの間の間隙8が変化し、製造プロセスの際に遭
遇する熱変動のために大きなストレス勾配を受ける。こ
れらストレスの主要な原因は、先行技術によるリード
フレームにおいてキャリア基板2を支持及び固定する
ために要求されるダイ パドル4である。ダイ パ
ドル4は、成形化合物がキャリア基板2の要素を含まな
いサイドに粘着することを許さず、成形アセンブリ内に
不均一な内部ストレスが発生し、金ワイヤー損傷に対す
る条件を作る。これとは対比的に、本発明による設計の
リードはキャリア基板に直接取り付けられ、基板に対す
る揺りかご状受台を形成し、ストレスに耐える強化部材
として機能し、迎合セクション23がこの構造上の歪を
吸収及び除去する。成形パッケージに加わるストレスの
作用のこの差異が図面から理解できるが、ここで、図9
及び図10は、成形手順の終端における(一点鎖線)約
175度Cの温度での、及び室温(実線)(約25度C
)までの冷却の終端における各々の成形アセンブリの略
図を示す。カプセル化サイクルにおいて図8に示される
ワイヤーにストレスが掛かり、接続及びワイヤーに損傷
あるいは破壊が起こることがわかる。これとは対比的に
、リード13とコンタクト パッド18の間の接合は
、このアセンブリの変形特性及びこれらリードの迎合セ
クション23の弾性によるストレスの吸収のために、無
傷に留まることに注意する。類似の効果が、仕上がった
製品が現場での使用の際に温度サイクルを受けたときに
も見られる。
に示されるような先行技術の設計と比較して大きな向上
である。図8においては、集積回路は、リード5にワイ
ヤーボンド6を介して接続される。かなりの温度差、例
えば、−40度Cから175度Cの温度差を伴うカプセ
ル化及び現場での使用の際に、基板上の回路とリードフ
レームとの間の間隙8が変化し、製造プロセスの際に遭
遇する熱変動のために大きなストレス勾配を受ける。こ
れらストレスの主要な原因は、先行技術によるリード
フレームにおいてキャリア基板2を支持及び固定する
ために要求されるダイ パドル4である。ダイ パ
ドル4は、成形化合物がキャリア基板2の要素を含まな
いサイドに粘着することを許さず、成形アセンブリ内に
不均一な内部ストレスが発生し、金ワイヤー損傷に対す
る条件を作る。これとは対比的に、本発明による設計の
リードはキャリア基板に直接取り付けられ、基板に対す
る揺りかご状受台を形成し、ストレスに耐える強化部材
として機能し、迎合セクション23がこの構造上の歪を
吸収及び除去する。成形パッケージに加わるストレスの
作用のこの差異が図面から理解できるが、ここで、図9
及び図10は、成形手順の終端における(一点鎖線)約
175度Cの温度での、及び室温(実線)(約25度C
)までの冷却の終端における各々の成形アセンブリの略
図を示す。カプセル化サイクルにおいて図8に示される
ワイヤーにストレスが掛かり、接続及びワイヤーに損傷
あるいは破壊が起こることがわかる。これとは対比的に
、リード13とコンタクト パッド18の間の接合は
、このアセンブリの変形特性及びこれらリードの迎合セ
クション23の弾性によるストレスの吸収のために、無
傷に留まることに注意する。類似の効果が、仕上がった
製品が現場での使用の際に温度サイクルを受けたときに
も見られる。
【図1】本発明を具現化するカプセル化HICパッケー
ジの遠近低部図である。
ジの遠近低部図である。
【図2】本発明を具現化するHICパッケージの略側面
図である。
図である。
【図3】本発明を具現化するHICとの組立の前のリー
ド フレームの略正面図である。
ド フレームの略正面図である。
【図4】各々、リードのダウン セット部分及び迎合
部分を示すリード フレームの一つのリードの内側部
分のセクションの拡大正面図である。
部分を示すリード フレームの一つのリードの内側部
分のセクションの拡大正面図である。
【図5】各々、リードのダウン セット部分及び迎合
部分を示すリード フレームの一つのリードの内側部
分のセクションの側面図である。
部分を示すリード フレームの一つのリードの内側部
分のセクションの側面図である。
【図6】HICと組み立てられたリード フレームの
略図である。
略図である。
【図7】図3に示されるリード フレームのコーナー
セクションの略拡大図である。
セクションの略拡大図である。
【図8】パッド アンド リード フレーム及び
ワイヤー接合によるリード接続からなる代表的な先行技
術によるカプセル化HICパッケージの略断面図である
。
ワイヤー接合によるリード接続からなる代表的な先行技
術によるカプセル化HICパッケージの略断面図である
。
【図9】本発明によるリード接合接続を持つカプセル化
HICパッケージの成形温度(約170度C−点線のア
ウトライン)と室温(約25度C−実線のアウトライン
)の間の変位を示す略側面図である。
HICパッケージの成形温度(約170度C−点線のア
ウトライン)と室温(約25度C−実線のアウトライン
)の間の変位を示す略側面図である。
【図10】ワイヤー接合接続及びパッド アンド
リード フレームを持つ先行技術によるカプセル化H
ICパッケージの成形温度(約170度C−点線のアウ
トライン)と室温(約25度C−実線のアウトライン)
の間の変位を示す略側面図である。
リード フレームを持つ先行技術によるカプセル化H
ICパッケージの成形温度(約170度C−点線のアウ
トライン)と室温(約25度C−実線のアウトライン)
の間の変位を示す略側面図である。
12 キャリア基板13
リード
リード
Claims (21)
- 【請求項1】 成形回路パッケージにおいて、該パッ
ケージがキャリア基板、該キャリア基板の回りに正方形
構成にて配列され該キャリア基板を支持する複数のリー
ド、及び密封されたパッケージを形成する該基板と該リ
ードの一部の回りに成形されたカプセル化材料を含み、
該キャリア基板がその上の回路の様々な要素及び該基板
の周辺の回りに配列された導電パッドを持ち、該複数の
リード内の各々のリードの内側終端部分が該基板上の対
応する導電パッドと接触し、各々のリードは内部終端部
分を含む内側を向くダウン セット部分を有しかつ一
つの平面内に横たわっており、外側を向く肩部分は該一
つの平面に対して実質的に平行な別の平面内に横たわっ
ており、そして、迎合部分は、ダウン セット部分か
ら離れるように傾斜し、かつ該平面の各々に対してある
角度で該ダウンセット部分と該肩部分を接続しており、
該角度は直角ではなく、少なくとも該ダウン セット
部分と該迎合部分はその中にキャリア基板を静止させる
弾性の揺りかご状の受け台を形成し、該基板が該揺りか
ごの中に該リードのダウン セット部分によってのみ
支持され、そして各々の肩部分の一部のみが該カプセル
化材料から突起するように該キャリア基板と該リードを
予備アセンブルした後に、カプセル化材料が各該キャリ
ア基板と該リードの回りに形成され、該カプセル化材料
はキャリア基板とリードのカプセル化された部分とを環
境から密封することを特徴とする成形回路パッケージ。 - 【請求項2】 請求項1に記載の成形回路パッケージ
において、各々のリードの該迎合部分が該迎合部分の反
対側の終端内にノッチを含み、各々のリード部分のカプ
セル化された部分に熱的に誘導されたストレスが吸収さ
れるようさらに弾性を与えることを特徴とする成形回路
パッケージ。 - 【請求項3】 請求項2に記載の成形回路パッケージ
において、該ノッチが互いにオフセットされることを特
徴とするの成形回路パッケージ。 - 【請求項4】 請求項1に記載の成形回路パッケージ
において、各々のリードが該肩部分と結合された外側リ
ード部分を含むことを特徴とする回路パッケージ。 - 【請求項5】 請求項4に記載の成形回路パッケージ
において、該外側リード部分がJ−リード構成を持つこ
とを特徴とする成形回路パッケージ。 - 【請求項6】 請求項1に記載の成形回路パッケージ
において、該カプセル化材料がエポキシ樹脂から成るこ
とを特徴とする成形回路パッケージ。 - 【請求項7】 請求項1に記載の成形回路パッケージ
において、該キャリア基板との組み立ての前に、該複数
のリードがリード フレームの部分を構成し、該リー
ド フレーム部分が比較的剛性の外側フレーム、及び
該リード フレームから内側に向かって伸びる複数の
細長い導体リードを含み、各々のリードが該リードフレ
ーム内で一端において支持され、また該基板への接合の
ための自由内側終端を持ち、各々のリードの該肩部分が
該フレームと同一平面内にあり、該ダウン セット部
分が該フレームの該平面と実質的に平行にオフセットさ
れた平面内にあり、該迎合部分が該ダウン セット部
分と該肩部分とを互いにある角度にて相互接続し、該角
度が直角でないことを特徴とするの成形回路パッケージ
。 - 【請求項8】 請求項7に記載の成形回路パッケージ
において、該外側フレームが該リードの外側終端を相互
接続する細長いバーを持ち、該細長いバーが各々の終端
で該外側フレームに取り付けられ、該フレームの各々の
サイドのリードが該細長いバーに対して実質的に垂直に
伸びることを特徴とする成形回路パッケージ。 - 【請求項9】 請求項8に記載の成形回路パッケージ
において、該フレームがさらに該リードをその自由内側
終端と対応する細長いバーとの中間で相互接続するため
の真直ぐのダム バー、各々のダム バーを該フレ
ームの隣接するサイドのダム バーに相互接続する各
々のバーに対してある角度のコーナーを形成する短いブ
リッジ、及び該ブリッジの各々の終端の所の各々のダム
バーを対応する細長いバーに相互接続するためのこ
れらの両方に対してある角度を形成するリンク部材を含
むことを特徴とする成形回路パッケージ。 - 【請求項10】 請求項9に記載の成形回路パッケー
ジにおいて、該ブリッジと該リンク部材が該フレームの
各々のコーナーの所で弾性的に協力し該リードの自由内
側終端を該基板に熱接合するステップの結果として発生
する熱的に誘導されるストレスを吸収することを特徴と
する成形回路パッケージ。 - 【請求項11】 請求項8に記載の成形回路パッケー
ジにおいて、該細長いバーが隣接する外側フレームから
該細長いバーに対して平行に配列された細長いカット
アウトによって分離されることを特徴とする成形回路
パッケージ。 - 【請求項12】 請求項8に記載の成形回路パッケー
ジにおいて、複数のリードフレームに共通の強化外側ス
トリップが該リード フレームの二つの反対サイドの
細長いバーに隣接して配列されることを特徴とする成形
回路パッケージ。 - 【請求項13】 請求項9に記載の成形回路パッケー
ジにおいて、成形の後、該リードの外側終端が該ダム
バー、細長いバー、ブリッジ、リンク部材及び強化外
側ストリップを除去することによって自由にされること
を特徴とする成形回路パッケージ。 - 【請求項14】 成形回路パッケージ内で使用される
リード フレームにおいて、電気導体リードが該リー
ド フレームと空間的に互いに離された関係で一体と
なって形成され、該リード フレームが比較的剛性の
外側フレーム、及び該リード フレームから内側に向
かって伸びる複数の細長い導体リードを含み、各々のリ
ードが該リード フレーム内において一方の終端で支
持され、該リードの他方の終端の所に基板への接合のた
めの自由内側終端を持ち、該リードの自由内側終端が中
央に位置する窓を区画し、各々のリードが該自由内側終
端を含むダウン セット部分、肩部分、該ダウンセッ
ト部分と該肩部分とを相互接続する迎合部分、及び外側
部分を持ち、該ダウン セット部分と該肩部分とが異
なる平行平面にあり、該肩部分は該フレームの平面内に
あり、該ダウン セット部分は該フレームの平面に対
して実質的に平行なオフセットである平面内にあり、該
迎合部分は該ダウン セット部分と該肩部分とを該平
行の平面に対してある角度で相互接続し、該角度は直角
ではなく、該ダウン セット部分と該リードの迎合部
分とが該基板のために揺りかご状のサポートを形成する
ことを特徴とするリード フレーム。 - 【請求項15】 請求項14のリード フレームに
おいて、各々のリードの該迎合部分が該迎合部分の反対
のエッジにノッチを含み、該ダウン セット部分に熱
的に誘導されるストレスを吸収する弾性をさらに与える
ことを特徴とするリードフレーム。 - 【請求項16】 請求項15のリード フレームに
おいて、該ノッチが互いにオフセットすることを特徴と
するリード フレーム。 - 【請求項17】 請求項14のリード フレームに
おいて、該ブリッジと該リンクが該フレームのコーナー
の所で弾性的に協力して該リードの自由端を該基板に熱
接合するステップの結果として発生する熱的に誘導され
るストレスを除去するように設計されることを特徴とす
るリード フレーム。 - 【請求項18】 請求項14のリード フレームに
おいて、該外側フレームが該リードの外側終端を相互接
続する細長いバーを持ち、該細長いバーが各々の終端に
おいて該外側フレームに取り付けられ、該リードが該細
長いバーに対して実質的に垂直に伸びることを特徴とす
るリード フレーム。 - 【請求項19】 請求項14のリード フレームに
おいて、該フレームが該リードを該リードの自由内側終
端と対応する細長いバーの中間で相互接続する真直ぐな
ダム バー、該リード フレームの個々のコーナー
の所の隣接するダムバーを相互接続する該隣接するダム
バーに対してある角度を持つ短いブリッジ、及び各
々のサイドのリンク部材を含み、該コーナーが各々のダ
ム バーを対応する真直ぐなストリップにそれらに対
してある角度で相互接続することを特徴とするリード
フレーム。 - 【請求項20】 請求項18のリードフレームにおい
て、複数のリード フレームに共通の強化外側ストリ
ップが該リード フレームの二つの反対サイドの細長
いバーに隣接して配列されることを特徴とするリード
フレーム。 - 【請求項21】 請求項18のリード フレームに
おいて、該細長いバーが隣接する外側フレームから該細
長いバーに平行に配列された細長いカット アウトに
よって分離されることを特徴とするリード フレーム
。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960025211A (ja) * | 1994-12-02 | 1996-07-20 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100234824B1 (ko) * | 1991-03-20 | 1999-12-15 | 윌리엄 비. 켐플러 | 반도체 장치 |
US5226226A (en) * | 1991-07-29 | 1993-07-13 | Fierkens Richard H J | Tube-shaped package for a semiconductor device and method therefor |
US5289032A (en) * | 1991-08-16 | 1994-02-22 | Motorola, Inc. | Tape automated bonding(tab)semiconductor device and method for making the same |
KR940007757Y1 (ko) * | 1991-11-14 | 1994-10-24 | 금성일렉트론 주식회사 | 반도체 패키지 |
US5397916A (en) * | 1991-12-10 | 1995-03-14 | Normington; Peter J. C. | Semiconductor device including stacked die |
US5281852A (en) * | 1991-12-10 | 1994-01-25 | Normington Peter J C | Semiconductor device including stacked die |
US5214845A (en) * | 1992-05-11 | 1993-06-01 | Micron Technology, Inc. | Method for producing high speed integrated circuits |
JP2809945B2 (ja) * | 1992-11-05 | 1998-10-15 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
KR970010676B1 (ko) * | 1994-03-29 | 1997-06-30 | 엘지반도체 주식회사 | 반도체 패키지 및 이에 사용되는 리드 프레임 |
JPH09199645A (ja) * | 1996-01-17 | 1997-07-31 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置および半導体モジュール |
JPH09213855A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-08-15 | Nec Corp | 中空プラスチックパッケージ用リードフレーム |
JP3499392B2 (ja) * | 1997-02-12 | 2004-02-23 | 沖電気工業株式会社 | 半導体装置 |
JP3737233B2 (ja) * | 1997-02-21 | 2006-01-18 | 沖電気工業株式会社 | 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 |
US6075286A (en) * | 1997-06-02 | 2000-06-13 | International Rectifier Corporation | Stress clip design |
KR100246366B1 (ko) * | 1997-12-04 | 2000-03-15 | 김영환 | 에리어 어레이형 반도체 패키지 및 그 제조방법 |
KR100253376B1 (ko) * | 1997-12-12 | 2000-04-15 | 김영환 | 칩 사이즈 반도체 패키지 및 그의 제조 방법 |
TW414924B (en) * | 1998-05-29 | 2000-12-11 | Rohm Co Ltd | Semiconductor device of resin package |
US6755069B1 (en) * | 1999-10-05 | 2004-06-29 | Texas Instruments Incorporated | Method and tooling for z-axis offset of lead frames |
TW447059B (en) | 2000-04-28 | 2001-07-21 | Siliconware Precision Industries Co Ltd | Multi-chip module integrated circuit package |
DE10114125A1 (de) * | 2001-03-22 | 2002-09-26 | Isad Electronic Sys Gmbh & Co | Aus mehreren Leistungsmodulen bestehende elektronische Leistungsschaltung |
US7132734B2 (en) | 2003-01-06 | 2006-11-07 | Micron Technology, Inc. | Microelectronic component assemblies and microelectronic component lead frame structures |
US7183485B2 (en) * | 2003-03-11 | 2007-02-27 | Micron Technology, Inc. | Microelectronic component assemblies having lead frames adapted to reduce package bow |
DE102006033864B4 (de) * | 2006-07-21 | 2009-04-16 | Infineon Technologies Ag | Elektronische Schaltung in einer Package-in-Package-Konfiguration und Herstellungsverfahren für eine solche Schaltung |
US20100032183A1 (en) * | 2007-03-01 | 2010-02-11 | Brandenburg Scott D | Compliant pin strip with integrated dam bar |
US9123712B1 (en) | 2013-07-24 | 2015-09-01 | Stats Chippac Ltd. | Leadframe system with warp control mechanism and method of manufacture thereof |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3902148A (en) * | 1970-11-27 | 1975-08-26 | Signetics Corp | Semiconductor lead structure and assembly and method for fabricating same |
US4400714A (en) * | 1980-11-06 | 1983-08-23 | Jade Corporation | Lead frame for semiconductor chip |
US4496965A (en) * | 1981-05-18 | 1985-01-29 | Texas Instruments Incorporated | Stacked interdigitated lead frame assembly |
CA1195782A (en) * | 1981-07-06 | 1985-10-22 | Mikio Nishikawa | Lead frame for plastic encapsulated semiconductor device |
JPS612332A (ja) * | 1984-06-15 | 1986-01-08 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPS6281738A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-15 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | リ−ドフレ−ムおよびそれを用いた半導体装置 |
JPS62114254A (ja) * | 1985-11-13 | 1987-05-26 | Mitsui Haitetsuku:Kk | リ−ドフレ−ムの製造方法 |
US4873615A (en) * | 1986-10-09 | 1989-10-10 | Amp Incorporated | Semiconductor chip carrier system |
JPS63148670A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-21 | Texas Instr Japan Ltd | リ−ドフレ−ム材 |
US4874722A (en) * | 1987-04-16 | 1989-10-17 | Texas Instruments Incorporated | Process of packaging a semiconductor device with reduced stress forces |
US4876587A (en) * | 1987-05-05 | 1989-10-24 | National Semiconductor Corporation | One-piece interconnection package and process |
US4906802A (en) * | 1988-02-18 | 1990-03-06 | Neal Castleman | Molded chip carrier |
US4827611A (en) * | 1988-03-28 | 1989-05-09 | Control Data Corporation | Compliant S-leads for chip carriers |
US4994895A (en) * | 1988-07-11 | 1991-02-19 | Fujitsu Limited | Hybrid integrated circuit package structure |
US4948645A (en) * | 1989-08-01 | 1990-08-14 | Rogers Corporation | Tape automated bonding and method of making the same |
-
1990
- 1990-07-05 US US07/548,180 patent/US5053852A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-03-28 CA CA002039417A patent/CA2039417C/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-06-24 KR KR1019910010432A patent/KR970006532B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-06-28 EP EP19910305857 patent/EP0465143A3/en not_active Ceased
- 1991-07-03 JP JP3161936A patent/JPH04233263A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960025211A (ja) * | 1994-12-02 | 1996-07-20 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR970006532B1 (ko) | 1997-04-29 |
EP0465143A2 (en) | 1992-01-08 |
CA2039417C (en) | 1995-12-05 |
US5053852A (en) | 1991-10-01 |
KR920003483A (ko) | 1992-02-29 |
EP0465143A3 (en) | 1993-05-12 |
CA2039417A1 (en) | 1992-01-06 |
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