JPH0422679A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、光ディスクのような光情報記録媒体に関する
。

〔従来技術〕

光情報記録媒体としては。

（Ｉ）低融点金属を用いるもの。

（２）低融点金属＋誘導体を用いるもの。

（３）反射層／色素吸収層積層を用いるもの、（４）反
射性色素を用いるもの、 などがあるが、（Ｉ）は保存性が悪く、また分解能が低
いので、記録密度が低い、（２）は製造条件が難しくコ
スト高となるうえ、保存性が悪い、（３）は多層構成の
ためコスト高となり、かつ感度が低い、（４）は光に対
する安定性が悪い、というようにそれぞれ欠点を有して
いる。

〔目　　的〕

そこで、本発明の目的は、半導体レーザー等の長波長光
による記録再生が可能で保存性に優れ、かつ再生劣化が
少なく記録密度の高い光記録媒体を提供する点にある。

本発明の他の目的は、高コントラスト、高ＣＺＮ比の得
られる光記録媒体を提供する点にある。

〔構　　成〕

本発明は、光情報記録層中に下記の一般式（Ｊ）で示さ
れる化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体
に関する。

置換または非置換のアルキル基、 置換または非置換のアリール基 置換または非置換のアルケニル基、 よりなる群から独立して選らばれた基またはＲ工とＲ２
がお互いに連結してなる環状基であり、Ｒ３と８４は、
置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のア
リール基 置換または非置換のアルケニル基、 よりなる群から独立して選らばれた基またはＲ１とＲ，
の少くとも１つがＬと連結して形成さ九た環状基であり
、ＡはＮまたはＣ−Ｒであり、Ｒは水素、アルキル基ま
たはアリール基であり、Ｌは、　メチン基、又は３個、
５個あるいは７個のメチン基が共役二重結合を形成す るように連結して形成される３価の基 を表わし、該メチン基は置換されてい 式中、Ｒ１とＲ２は、 てもよい。

ｘｅは、陰イオンを表わし、 Ｂは、チアゾール環、オキサゾール環、セレナゾール環
、イミダゾール環、ピリジ ン環またはインドレニン環残基を表わ す。

一般式（Ｉ）におけるＢの骨格環としては下記式Ｂ−Ｉ
−Ｂ−ＸＶで示されるものであることが好ましい。

Ｒ１１′ Ｒ□′ Ｒ工□′ 酊・ このような各種環において、環中の窒素原子（イミダゾ
ール環では２個の窒素原子）に結合する基Ｒ工、ＲＩ　
　　ＣＲｘ□、Ｒ□、′）は、置換または非置換のアル
キル基、アリール基、アルケニル基、特にアルキル基で
ある。

このような環中の、窒素原子に結合する基Ｒ工、Ｒ８′
の炭素原子数には、特に制限はない。

また、この基がさらに置換基を有するものである場合、
置換基としては、スルホン酸基、アルキルカルボニルオ
キシ基、アルキルアミド基、アルキルスルホンアミド基
、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノ基、アルキ
ルカルバモイル基、アルキルスルファモイル基、水酸基
、カルボキシ基、ハロゲン原子等いずれであってもよい
。又５Ｂで表わされる環中の所定の位置にはさらに他の
置換基Ｒ４，Ｒ，’が結合していてもよい。このような
置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環残基
、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、アルキルカルボニル基、
アリールカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、
アリーロキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ
基、アリールカルボニルオキシ基、アルキルアミド基、
アリールアミド基。

アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、ア
ルキルアミノ基、アリールアミノ基。

カルボン酸基、アルキルスルホニル基、アリールスルホ
ニル基、アルキルスルホンアミド基。

アリールスルホンアミド基、アルキルスルファモイル基
、アリールスルファモイル基、シアノ基、ニトロ基等１
種々の置換基であってよい。

そして、これらの置換基の数（Ｐ＋　ｑ＋Ｓ＋ｔ）は、
通常、０または１〜４程度とされる。

なお、Ｐ＋　ｑ＋　９４　ｊが２以上であるとき、複数
のＲ４，Ｒ４’は互いに異なるものであってよい。

他方、Ｌは、モノ、ジ、トリまたはテトラカルボシアニ
ン色素等のシアニン色素を形成するためのポリメチン連
結基を表わすが、特に式（Ｌｆ）〜（ＬＩＸＩのいずれ
かであることが好ましい。

式（Ｌｌ） ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ
式［Ｌｎ］ ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ−ＣＨ＝Ｃ１ｌ−ＣＨ■ 式（ＬＩＩ［） 式（ＬｒＶ） Ｙ 式〔Ｌ■〕 ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ＝ＣＨ−ＣＢ 式〔Ｌ■〕 ＣＨ−Ｃ＝ＣＨ 式（ＬＡＸ） ここに、Ｙは、水素原子または１価の基を表わす。この
場合、１価の基としては、メチル基等の低級アルキル基
、メトキシ基等の低級アルコキシ基、ジメチルアミノ基
、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、モル
ホリノ基、イミダゾリジン基、エトキシカルボニルピペ
ラジン基などのジ置換アミノ基、アセトキシ基等のアル
キルカルボニルオキシ基、メチルチオ基等のアルキルチ
オ基、シアノ基、ニトロ基、Ｂｒ、Ｃρ等のハロゲン原
子などであることが好ましい。

また、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ水素原子またはメチ
ル基等の低級アルキル基を表わす。

そして、ρは、０または１である。

なお、これら式（Ｌｌ）〜〔Ｌ■〕の中では、トリカル
ボシアニン連結基、特に式〔Ｌ　ＩＩ）、［Ｌｍ）、［
ＬＩＶ）、（Ｌ　Ｖ）が好ましい。

次に、一般式（Ｉ）の化合物例を表に示す。

（記録体の構成） 記録体の構成例を第１図〜第４図に示す。図中、ｌは基
板、２は記録層、３は下引層、４は保護層である。記録
体は第１図〜第４図のものを記録層２を内側にして他の
基板と空間を介して密封したエアーサンドイッチ構造に
してもよく、また保護層４を介して接着した密着サンド
イッチ（張合せ構造）にしてもよい。

（各層の必要特性及びその構成材料例）ａ）基板につい
て 基板の必要特性としては基板側より記録・再生を行う場
合のみ使用レーザー光に対して透明でなければならない
。

材料側としてはポリエステル、アクリル樹脂、ポリアミ
ド、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミドなどのプラスチ
ックス、ガラス、あるいは金属類、セラミックス等を用
いることができる。

ｂ）下引き層について 下引き層の機能としては、 ■接着性の向上 ■水又はガス等のバリヤー層 ■記録層の保存安定性の向上 ■反射率の向上 ■溶剤からの基板の保護 ■プレグルーブの形成 等がある。

材料例としては、■とじて高分子材料、シランカップリ
ング剤等、■及び■として上記高分子材料のほか無機化
合物（ＳｉＯ□ｙＭｇＦｚｔＳｉｎ、Ｔｉ○ｚｔ　Ｚｎ
Ｏ，ＴｉＮｔ　ＳｉＮ。

・・）及び金属、半金属（ｚ　ｎ、　Ｈｃ　ｕ　Ｈｓ　
ｒ　Ｎ　ｉｔＣｒ　ｖ　Ｇ　ｅ　ｙ　Ｓ　ｅ　ＨＡ　ｇ
　ｐ　Ａ　Ｑ　ＨＡ　ｕ　ｔ　・・・）が使用でき、■
とじて金属（Ａ　Ｕｐ　Ａｇ　ｅ　Ｔ　６　ｐ・・・）
、又は金属光沢を有する有機薄膜（メチン染料、キサン
チン系染料・・・）が使用でき、■及び■としては紫外
線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂を用いることが
できる。

Ｃ）記録層について 記録層はレーザー光の照射により何らかの光学的変化を
生じさせその変化により情報を記録するものでその記録
層中に一般式（Ｈの化合物を含有することが必要である
。該化合物は記録特性及び安定性向上のため１種又は２
種以上を組合せてもよく、他の染料（例えばフタロシア
ニン系染料、テトラヒドロコリン系染料、ジオキサジン
系染料、トリフエッチアジン系染料。

フェナンスレン系染料、シアニン（メロシアニン）系染
料、アントラキノン（インダンスレン）系染料、キサン
チン系染料、トリフェニルメタン系染料、クロコニウム
系染料、ピリリウム系染料、スクアリリウム系染料、ア
ズレン系染料等）、又は金属、金属化合物（Ｉｎ、Ｓｎ
、Ｔｅ、Ｂｉｙ　ＡＱ、Ｓｅ、ＴａＯ２，Ｓｎ○、Ａｓ
。

Ｃｄ等）と混合分散してもよく、あるいは積層してもよ
い。

又、該化合物は高分子材料中に又は特性改良上、他の低
分子化合物、例えば請求範囲中に記載の一般式で示され
る化合物より長波長域に吸収能を有する化合物（アミニ
ウム、イモニウム、ジイモニウム系化合物等・・・）あ
るいは無機錯体化合物（ビスジチオジケトン系、ビスフ
エニルジチオール系錯体等・・・）中に、混合分散して
用いてもよい。

記録層膜の厚は１００人〜１０μＩ、好ましくは２００
人〜２μ厘である。膜形成方法としては溶液塗工法（例
えば浸漬コーティング、スプレーコーティング、スピン
ナーコーティング、ブレードコーティング、ローラーコ
ーティング、カーテンコーティング等）、蒸着、ＣＶＤ
、スパッタ法等を用いることができる。

ｄ）保護層について 保護層の機能としては、■記録層をキズ、ホコリ、汚れ
等から保護、■記録層の保存安定性の向上、■反射率の
向上、である。

使用できる材料は前記下引き層の材料として例示したも
のをそのまま使用することができる。

ｅ）その他 この他に前記下引き層、記録層、保護層中に安定剤、分
散剤、Ｓ燃剤、滑剤、帯電防止剤。

界面活性剤、可塑剤等が含有されていてもよい。

又、前記一般式（Ｉ）で示した化合物は前記下引き層又
は保護層中にも含むことができる。

〔実施例〕

１、厚さ１．２ｇｍポリメチルメタクリレート（ＰＮＭ
Ａ）板（Ｉ３０−φ）上にアクリル系フォトポリマーに
より深さ９００人、半値巾（溝の１７２の深さの地点の
溝巾）０．４μ■、ピッチ１．６μ脂の螺旋上の案内溝
を設けた基板上に前記化合物例１の１，２−ジクロルエ
タン溶液を回転塗布し厚さ７００人の記録層を形成し、
記録媒体とした。

２、実施例１において記録層に前記化合物例２を用い記
録媒体とした。

３゜実施例１において記録層に前記化合物例４を用い記
録媒体とした。

４、実施例１で形成した記録層上にさらに厚さ１００人
の銀蒸着膜を設は記録媒体とした。

５゜ 同上ＰＮＭＡ上に前記化合物例５と下記化合物Ｎ）を１
：１の重量比で混合した１、２−ジクロルエタン溶液を
回転塗布し厚さ８００人の記録層を形成し記録媒体とし
た。

（ｉ） ６゜ 同上ＰＭＭＡ上に前記化合物例８と下記化合物（ｉｉ）
を７：３の重量比で混合した１、２−ジクロルエタン溶
液を回転塗布し厚さ６００人の記録層を設けさらにその
上に下記化合物（ｉｎ）を厚さ６００人真空蒸着し記録
媒体とした。

（ｉｉ） （ｉｔｉ） ７゜ ８゜ 同上ＰＭＭＡ上に厚さ１００人のＴｅ蒸着膜を設け。

さらにその上に前記化合物例６の１，２−ジクロルエタ
ン溶液を回転塗布し厚さ７００人の記録層を形成し記録
媒体とした。

同上ＰＭＭＡ上に前記化合物例１２と下記化合物（ｉｖ
）を１０＝２の重量比で混合した１、２−ジクロルエタ
ン溶液を回転塗布し厚さ８００人の記録層を形成し記録
媒体とした。

（ｉｖ） ９、同上ＰＭＭＡ上に前記化合物例１４と下記化合物（
ｖ）を１０　：　１．５の重量比で混合した１、２−ジ
クロルエタン溶液を回転塗布し厚さ８００人の記録層を
形成し記録媒体とした。

（Ｖ） （（Ｂｕ＋２Ｎ−◎＋、Ｎｌ−〇−Ｎ＋◎−Ｎ　（Ｂｕ
）ｚ）ｚＳｂＦ、。

１０、同上ＰＭＭＡ上に前記化合物例９と上記化合物（
ｉ）を７：３の重量比で混合しさらに混合した化合物の
１５％の下記化合物（ｖｉ）を混合した１、２−ジクロ
ルエタン溶液を回転塗布し厚さ８００人の記録層を形成
し記録媒体とした。

（ｖｉ） 上記実施例で作製した記録媒体に波長７９０ｎｍの半導
体レーザー光を用い基板側より記録周波数１．２５ＭＨ
ｚ、線速２．１ｍ／ｓｅｃで情報を書き込み再生しその
スペクトル解析（スキャニングフィルターバンド幅３０
Ｋ）ｌｚ）を行いＣ／Ｎを測定した。

又、実施例８，９．１０では化合物（ｉ）及び（ｉｉ）
を単独で使用する場合に比べ光に対する安定性は大巾に
改良された。

〔効　　果〕

本発明の光情報記録媒体は、 （Ｉ）熱および光に対する安定性が高く、保存性に優れ
かつ再生劣化が少い、 （２）良好な形状でピットを形成することができ、高い
Ｓ／Ｎ比が得られる、 （３）長波長レーザ（半導体レーザ）を用いても高感度
で記録できる などの利点を有している。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は、それぞれ本発明記録媒体の構成例を
示す。 １・・・基板　　　　２・・・記録層 ３・・・下引層　　　４・・・保護層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、光情報記録層中に下記の一般式（ I ）で示される
   化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒ＿１とＲ＿２は、置換または非置換のアルキル
   基、置換または非置換のアリール基置換または非置換の
   アルケニル基、 よりなる群から独立して選らばれた基またはＲ＿１とＲ
   ＿２がお互いに連結してなる環状基であり、Ｒ＿３とＲ
   ＿４は、置換または非置換のアルキル基、置換または非
   置換のアリール基置換または非置換のアルケニル基、 よりなる群から独立して選らばれた基またはＲ＿３とＲ
   ＿４の少くとも１つがＬと連結して形成された環状基で
   あり、ＡはＮまたはＣ−Ｒであり、Ｒは水素、アルキル
   基またはアリール基であり、 Ｌは、メチン基、又は３個、５個あるいは７個のメチン
   基が共役二重結合を形成するように連結して形成される
   ３価の基を表わし、該メチン基は置換されていてもよい
   。 Ｘ＾■は、陰イオンを表わし、 Ｂは、チアゾール環、オキサゾール環、セレナゾール環
   、イミダゾール環、ピリジン環 またはインドレニン環残基を表わす。