JPH0422141Y2 - - Google Patents

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JPH0422141Y2
JPH0422141Y2 JP7633587U JP7633587U JPH0422141Y2 JP H0422141 Y2 JPH0422141 Y2 JP H0422141Y2 JP 7633587 U JP7633587 U JP 7633587U JP 7633587 U JP7633587 U JP 7633587U JP H0422141 Y2 JPH0422141 Y2 JP H0422141Y2
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pressure
diaphragm
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Description

【考案の詳細な説明】 A 考案の目的 (1) 産業上の利用分野 この考案は流体の流れを制御する流体制御弁に
関し、更に詳しくは、ダイアフラムによつて作動
流体の圧力キヤンセルを行うようにした比例型流
体制御弁に好適な流体制御弁における弁体並びに
ダイアフラムの保持体の構造に関する。
(2) 従来の技術 作動流体の流入路と流出路とを連通する弁穴を
開閉する弁体に作動流体の差圧が作用して弁体の
正確な開閉動作ができなくなるのを防止するた
め、流出路(もしくは流入路)側にダイアフラム
によつて画成されたダイアフラム室を設け、流入
路(もしくは流出路)の圧力をダイアフラム室に
導いて圧力キヤンセルを行う流体制御弁は、特開
昭56−70182号公報、特開昭57−1881号公報等に
よつて既に公知である。
しかしながら、特開昭56−70182号公報のもの
によつては、ダイアフラム室に圧力を導くいわゆ
る導圧通路がシヤフト内に形成され、このため、
通路断面の確保のためシヤフト径が大きくなり、
レイアウト的に不利となる。また、シヤフト内の
導圧通路の加工に手間と費用がかかる。
また、特開昭57−1881号公報のものにおいて
は、弁体に、シヤフトとの嵌合孔とは別に、貫通
状に導圧通路が形成されているため、十分な通路
断面を確保するには弁体自体が大きくなり、レイ
アウト的に不利となることはまぬがれない。
(3) 考案が解決しようとする問題点 本考案は上記実情に鑑み、圧力キヤンセル室に
連通する導圧通路に関し十分な通路断面積を得る
ことができ、かつ、製作費用の低減を図ることの
できる流体制御弁を得ることを目的とする。
B 考案の構成 (1) 問題点を解決するための手段 本考案によれば、作動流体の一方の流路と他方
の流路とを連通する弁穴を開閉する弁体を有し、
前記流路の一方側に前記弁体に連動されるダイア
フラムによつて画成されたダイアフラム室を設
け、前記流路の他方側の圧力を導圧通路を介して
このダイアフラム室に導いて圧力キヤンセルを行
う流体制御弁において、前記弁体はその内孔をも
つてシヤフトに嵌装されるとともに、該内孔に臨
んで放射状の導圧通路が凹設され、前記ダイアフ
ラムの内周を保持する内周保持体は、その内孔を
もつて前記シヤフトに嵌装されるとともに前記弁
体に気密に接続され、前記弁体に形成された導圧
通路に連通し、かつダイアフラム室に開口する導
圧通路を形成してなる。
(2) 作用 この流体制御弁の組立てにおいて、弁体とダイ
アフラムとは一体的にユニツト体となり、シヤフ
トへの嵌装をもつて中心位置が自動的に設定され
る。
作動流体が作用したとき、導圧通路は十分な通
路断面積を確保しているので、圧力キヤンセル機
能を有効に発揮する。
(3) 実施例 本考案の流体制御弁の実施例を図面に基づいて
説明する。
第1図はその一実施例の比例型流体制御電磁弁
Vを示し、自動車の内燃機関において、アイドル
回転制御・空燃比制御・EGR制御等に使用され
る。
この流体制御電磁弁Vは、弁体の開閉動作によ
り流体の流れを制御する流体制御部1と、該流体
制御部1の弁体を電磁力により作動する電磁作動
部2とを含む。
以下、流体制御部1及び電磁作動部2の構成を
概括的に説明する。
流体制御部1においては、弁箱10内に流入路
11及び流出路12が形成され、これらの流入路
11と流出路12とは弁穴13により連通され、
該弁穴13の周囲に後記する弁体16が着座する
弁座14が形成される。
弁体16は、弁座14に対向する円板状の弁板
17とこれに一体的に連設される円筒部分18と
からなる弁本体部19及び該弁板17に一体的に
被着されたゴム製のシール体20からなる。弁板
17の背面すなわち流出路12に面する側の受圧
面積は前面すなわち流入路11に面する側の受圧
面積より大きくされている。弁本体部19には後
記するシヤフト24に嵌合する内孔19aが軸線
方向に貫通状に形成されている。シール体20は
弁座14に着座して流体のシールをなす。
弁体16は、止め輪22をもつて長尺体のシヤ
フト24の一端に固着される。止め輪22は薄鋼
板で形成され、JISにおけるE形止め輪あるいは
特殊止め輪が使用され、シヤフト24の溝に弾性
をもつて嵌着される。シヤフト24は弁体16を
始め、電磁弁を構成する各部材を取り付けるた
め、鍔を含めその径を適宜変化させられている。
なお、シヤフト24に係止される止め輪22以外
に、弁本体部19に形成された円孔19aをもつ
てシヤフト24の外径に焼きばめ固着されるか、
あるいは、弁本体部19の先端部とシヤフト24
とを貫通する固定ピン(図示せず)をもつてなさ
れる。
該シヤフト24は板ばね25,26に支持さ
れ、軸方向への移動が自由にされている。すなわ
ち、板ばね25,26は金属製の薄円板体よりな
り、中心に円孔が穿設され、周縁部を弁箱あるい
は後記するハウジング35等の枠体によつて保持
され、中心孔にシヤフト24が挿通支持されてな
る。
弁体16の弁本体部19の後端にはダイアフラ
ム28を主体とするダイアフラム装置27が一体
に装着され、前記流入路11と後記する導圧通路
32を介して連通するダイアフラム室28Aを形
成する。
ダイアフラム装置27はゴム製のダイアフラム
28と外周保持体29と内周保持体30とを含
む。外周及び内周保持体29,30は金属または
硬質の合成樹脂体からなり、外周保持体29は弁
箱10に係合して保持され、内周保持体30はシ
ヤフト24に嵌合固定されるとともに弁本体部1
9の後端部に気密に嵌挿されている。
このダイアフラム装置27とは別体に、後記す
る導圧通路32を有する介装部材31が内周保持
体30の後端に連なつて板ばね25との間に介装
される。従つて、内周保持体30がこの介装部材
31の機能を兼ねるものであれば、省略されう
る。
ダイアフラム室28Aに連通する導圧通路32
は弁体16及びダイアフラム装置27に形成され
る。ダイアフラム装置27のダイアフラム28は
いわゆるベロフラム形式のものが使用され、この
外径は弁箱10の内周面によつて規制される。ま
た、弁体16の円筒部18の外周面はダイアフラ
ム28の内径を規制する。これにより、ダイアフ
ラム28は内外面の径を一定にされている。
以上の流体制御部1は弁箱10にダイアフラム
装置27の外周保持体29を嵌合して取り付け、
これらを後記する電磁作動部2から延設されるハ
ウジングをかしめて固定される。
電磁作動部2においては、シヤフト24を電磁
力により軸方向に移動させる機構が金属製の円筒
状のハウジング35内に収容される。すなわち、
シヤフト24の中間部に磁性体よりなる可動コア
36が固定され、この可動コア36に対向して磁
性体よりなる円筒状の固定コア37がその内孔3
7aにシヤフト24を移動自在に抱持するように
配される。
固定コア37の外周には、合成樹脂製のボビン
39に巻回された電磁コイル40が配置される。
更に電磁コイル40を被覆するモールデイング成
形による合成樹脂製カバー41がボビン39を囲
んで接合面42を介して径方向に配される。接合
面42の軸線方向の両側には環状のシール溝43
が形成され、このシール溝43内に環状のシール
部材44が装着されている。
カバー41の一端には半径方向外方に突出した
端子支持部46が一体的に設けられる。この端子
支持部46には、電磁コイル40と電気的接続さ
れる端子46aが収容され、この端子46aに外
部電源に通じるプラグ(図示せず)が嵌合され
る。
これらのボビン39及びカバー41を挟み付け
るようにこれらの両側には磁性体よりなる第1ヨ
ーク47及び第2ヨーク48が配され、第1ヨー
ク47は可動コア36周りに移動自在に外嵌さ
れ、第2ヨーク48は固定コア37の端部に外嵌
される。
以上の部材中、ハウジング35、第1ヨーク4
7、可動コア36、固定コア37及び第2ヨーク
48は環状となつて、磁路を形成する。
ハウジング35の後端部は縮径すなわち深絞り
にされて、アジヤスタホルダ部50を形成すると
ともに、該アジヤスタホルダ部50の端部は軸線
方向に延びる円筒部50aに形成される。また、
アジヤスタホルダ50の縮径の始まる内筒部には
段部50bが形成され、この段部50bと第2ヨ
ーク48の後端面とで板ばね26を挟着保持して
いる。この板ばね26に接してばね受座51がシ
ヤフト24に嵌装されている。
アジヤスタホルダ部50の円筒部50aの内周
には内ねじ53が切られ、この内ねじ53に外ね
じ54aが形成されたアジヤスタ54が螺装され
ている。該アジヤスタ54の後部には回転ドライ
バの係合溝が形成されている。
アジヤスタ54の前面のばね受座54bと前記
ばね受座51との間にコイルばね55が介装さ
れ、この付勢力でばね受座51及びシヤフト24
を介して弁体16を弁座14に押し付けている。
なお、この電磁弁Vの取付けのため、この電磁
弁Vに付置して取付けリブ60が設けられるが、
この電磁弁において付加的な構成にすぎない。ま
た、シヤフト24の支持構造として板ばねによる
支持手段を採つているが、他の適宜の軸受を使用
することができ、この点も本考案において本質的
事項ではない。
この実施例ではダイアフラム室28Aに連通す
る導圧通路32の構成に更に特徴を有し、第2図
ないし第4図にその詳細を示す。
すなわち、弁本体部19の内孔19aを臨んで
十字状に弁体16の導圧通路32aが形成され、
また、内周保持体30にも該導圧通路32aに連
通する導圧通路32bが形成され、更に、介装部
材31にも同様に導圧通路32cが形成される。
以下、これを詳述する。
弁体16は弁板17及び円筒部18からなる弁
本体部19が合成樹脂より形成され、弁板17に
は円周方向に適宜間隔に窓部が開設される。ゴム
製シール部材20がこの弁板17周りに被着され
るとともに前記した弁体17の窓部に埋め込ま
れ、弁板17に焼き付けて固着される。このた
め、弁本体部19の合成樹脂は耐熱性のものが選
ばれる。シール部材20の前面には外縁に沿つて
連続するリツプ部20aが突設して形成され、弁
座14に着座して気密をなす。
弁本体部19内にはその内孔19aに臨んで十
字状に導圧通路32aが凹設される(第3図a参
照)。この導圧通路32aは本実施例では十字状
に形成されているが、適宜の放射状(例えば120°
間隔)に、あるいは非放射状に形成されうる。
弁本体部19の円筒部18の後端部は拡径さ
れ、かつ内孔19aに臨んで大径のソケツト孔1
9bが形成される。このソケツト孔19bの径は
本実施例では導圧通路32aの外径よりも大きく
されているが、該導圧通路32aの外径と同等で
あつてもよい。
ダイアフラム装置のダイアフラム28はゴム製
弾性素材をもつて環状に形成され、その外周縁の
把持部には外方に向けて外方把持溝28aが凹設
され、内周縁の把持部には内方に向けて内方把持
溝28bが凹設されている。
外周保持体29はリング状をなし、その内周に
係止突条29aが連続的に形成され、その係止突
条29aにダイアフラム28の外方把持溝28a
が被着される。
内周保持体30は実質的に円筒体をなし、その
後端部外周に係止突条30aが連続的に形成され
る。この係止突条30aにダイアフラム28の内
方把持溝28bが被着される。該内周保持体30
の前部は係止突条30aに連なつて外径が縮径さ
れたスピゴツト部30bに形成され、弁本体部1
9のソケツト孔19bに嵌挿される。
内周保持体30の内孔30cは、シヤフト24
の外径よりも十分に大きくされ、この内孔30c
とシヤフト24との間〓により導圧通路32bを
形成する。この態様とは別に、内孔30cをシヤ
フト24の径に合致させ、導圧通路32bを、前
述した弁体16の導圧通路32aと同様にして内
孔30cに臨んで凹設する態様をとることができ
る。この場合、この導圧通路32bと前記導圧通
路32aとの位相を一致させることは勿論であ
る。
内孔30cの後部は更に拡径されてソケツト孔
30dが形成され、介装部材31を受け入れる。
以上のダイアフラム装置の外周及び内周保持体
29,30は合成樹脂をもつて成形され、ダイア
フラム28の把持溝28a,28bに外周及び内
周保持体29,30の係止突条29a,30aを
嵌め込んで、この嵌合部を焼付けにより固着処理
してダイアフラム装置全体の一体化がなされる。
このため、外周及び内周保持体29,30の合成
樹脂は耐熱性のものが選ばれる。
介装部材31は内孔31aをもつてシヤフト2
4に嵌装されるとともにその前部のスピゴツト部
31bをもつて内周保持体30のソケツト孔30
dに嵌挿され固定される。該介装部材31内には
内孔31aに臨んで十字状の導圧通路32cが凹
設され、ダイアフラム室28Aに臨んで開口部3
1cを有する。この態様とは別に、内孔31aを
シヤフト24よりも大径にされ、そのスピゴツト
部31bを内周保持体30のソケツト孔30dに
嵌挿することにより、前記した内周保持体30に
おける導圧通路32bと同様にして、導圧通路3
2cを形成することもできる。
このようにして、弁体16の導圧通路32aは
その入口を介して流入路11に連通し、介装部材
31においては出口を介してダイアフラム室28
Aに連通する。
この導圧通路32の構成において、弁本体部1
9と内周保持体30との接続部分の気密に考慮が
払われるものであつて、導圧通路32に導かれる
作動流体が流出路12側に漏れ出ないようにする
ため、シール部分33が形成される。
この実施例の態様においては、弁本体部19の
後端部に環状のリブ33aが突設され、また、こ
のリブ33aを受け入れるべくダイアフラム28
の内周把持部の外側に環状の凹部33bが形成さ
れている(第4図参照)。
第5図はこのシール部分33の別の態様を示
す。この態様においては弁本体部19に環状の凹
部33cが凹設され、またこの凹部33cに嵌め
込むべくダイアフラム28側に環状のリブ33b
が突設されている。
本実施例における弁本体部19並びに内周及び
外周保持体29,30、更には介装部材31に使
用される合成樹脂として、前述した耐熱性・成形
性の観点から、例えばポリフエニレンサルフアイ
ド(PPS樹脂)の使用が推奨される。このPPS樹
脂は熱可塑性であつて、射出成形により比較的複
雑な形状の加工ができ、かつゴムとの焼付け接着
に際し変形を起すことがない。
この流体制御電磁弁Vの作動を説明する。
電磁コイル40に電流が供給されず電磁コイル
40が非励磁(消磁)状態にあるときには、ばね
55のばね付勢によりシヤフト24及び可動コア
36が図示の位置に付勢されていて、弁体16の
シール体20は弁座14に着座している。このた
め、弁穴13が閉じて流入路11と流出路12と
の連通は遮断されているので、流体の流れはな
い。
この状態において、流入路11の圧力が高まつ
たとき(もしくは流出路12の圧力が低下したと
き)、流入路11の圧力は導圧通路32を介して
ダイアフラム室28Aに導びかれているので、弁
板17の前後面に作用する流体圧の差圧が相殺さ
れ、弁板17への不所望な力は作用しない。従つ
て、ばね55の付勢力のみによつて弁体16は閉
じられている。
端子46aを介して電流が電磁コイル40に供
給されると電磁コイル40は励磁状態となり、電
磁コイル40による磁束がハウジング35、第1
ヨーク47、可動コア36、固定コア37及び第
2ヨーク28を経てハウジング35に戻る閉ルー
プの磁路を形成し、可動コア36と固定コア37
との間に電流の値に応じた磁気吸引力が生じる。
これに伴つて弁体16は弁座14から離れるの
で、弁穴が開いて流入路11から流出路12へ流
体が流れる。
このとき、前述のごとく、弁板17に作用する
流体圧の差圧はダイアフラム室18Aに導かれた
流体圧により相殺され、弁板17への不所望な力
が作用せず、従つて弁体16は電磁コイル40に
供給される電流に正確に比例した開度を得ること
ができる。更にまた、弁板17の背面の受圧面積
が前面の受圧面積よりも大きくされていることか
ら、弁体16の開弁初期の流量変動が抑制され、
かつ通電に伴う弁体16の開度の比例性が向上
し、前記したダイアフラム装置17の作用と相ま
つて一層正確な開度調整がなされる。
このような電磁弁Vにおいて、導圧通路32は
シヤフト24内に形成されることなく、該シヤフ
ト24周りに配された弁本体部19並びにダイア
フラム装置27の内周保持体30に形成されてい
るので、導圧通路面積が十分に採れ、圧力キヤン
セル機能を有効に発揮する。
また、電磁弁の組立てにおいても、弁体16と
ダイアフラム装置27とは、シヤフト24を介し
て弁本体部19及び内周保持体30並びに介装部
材31が互いに嵌合接合されるので、自動的にこ
れらの部材の中心位置の設定がなされるとともに
その組付け操作が容易に行われる。
第6図は導圧通路32を含む弁体16及びダイ
アフラム装置27の他の実施例を示す。図におい
て、先の実施例と同等の部材については同一の符
号が付されている。
この実施例では、弁体16はその弁板17の前
面にリツプ20aを有する薄板状のゴムシール部
材20が焼付け固着され、また、ソケツト孔19
bは長く形成されている。
ダイアフラム装置27の内周保持体30は後部
が延設されて介装部材を兼ね、内孔30cがシヤ
フト24に嵌合する径とされ、該内孔30cに臨
んで十字状の導圧通路32bが凹設されている。
弁体16の導圧通路32aこの導圧通路32bと
の位相を一致させて、弁体16のソケツト19b
内に内周保持体30のスピゴツト部30bが嵌挿
される。30cは内周保持体30の後部に穿設さ
れたダイアフラム室28Aと導圧通路32bとを
連通する出口孔である。
この実施例において更に特徴とするところは、
弁体16の弁本体部19並びにダイアフラム装置
27の内周及び外周保持体29,30が金属素材
より成形される態様を採る。この態様において、
ゴム素材よりなるシール部材20及びダイアフラ
ム28との焼付けによる接着性及び導圧通路部の
引抜き成形性からアルミニウムが好適である。
以上の実施例では電磁駆動される電磁式の弁を
例示して説明したが、本考案に係る弁はこのよう
な電磁弁に限定されるものではなく、電動式、機
械式あるいは流体駆動式の弁にも採用できること
は勿論である。
C 考案の効果 本考案の流体制御弁は、作動流体の一方の流路
と他方の流路とを連通する弁穴をシヤフトに取付
けられた弁体のシヤフト軸方向移動によつて開閉
し、前記流路の一方側に前記弁体に連動されるダ
イアフラムによつて画成されたダイアフラム室を
設け、前記流路の他方側の圧力を導圧通路を介し
てこのダイアフラム室に導いて圧力キヤンセルを
行う流体制御弁において、弁体はその内孔をもつ
てシヤフトに嵌装されるとともに、該内孔に臨ん
で放射状の導圧通路が凹設され、ダイアフラムの
内周を保持する内周保持体は、その内孔をもつて
シヤフトに嵌装されるとともに弁体に気密に接続
され、弁体に形成された導圧通路に連通し、かつ
ダイアフラム室に開口する導圧通路を形成してな
る構成を採るので、シヤフトに対する導圧通路
の加工がなく、導圧通路はシヤフト周りの部材に
形成されるので、十分な流体の通過断面積を得る
ことができ、かつ、導圧通路のための凹部の成形
は容易である。このため、製作コストが低減され
る。弁体と内周保持体とは連結され、一体的に
組立てられるので、組立て作業が容易となる。
【図面の簡単な説明】
図面は本考案の流体制御弁の実施例を示し、第
1図はその一実施例の全体縦断面図、第2図は第
1図の要部拡大図、第3図a,b,cはそれぞれ
第2図のA−A線、B−B線、C−C線切断面
図、第4図は導圧通路のシール部の詳細図、第5
図は導圧通路のシール部の他の態様図、第6図は
本考案の要部の他の実施例を示す部分断面図であ
る。 11……流入路、12……流出路、13……弁
穴、16……弁体、19a……内孔、24……シ
ヤフト、28……ダイアフラム、28A……ダイ
アフラム室、30……内周保持体、30c……内
孔、32,32a,32b,32c……導圧通
路。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 作動流体の一方の流路と他方の流路とを連通す
    る弁穴をシヤフトに取付けられた弁体のシヤフト
    の軸方向移動によつて開閉し、前記流路の一方側
    に前記弁体に連動されるダイアフラムによつて画
    成されたダイアフラム室を設け、前記流路の他方
    側の圧力を導圧通路を介してこのダイアフラム室
    に導いて圧力キヤンセルを行う流体制御弁におい
    て、 前記弁体はその内孔をもつてシヤフトに嵌装さ
    れるとともに、該内孔に臨んで放射状の導圧通路
    が凹設され、 前記ダイアフラムの内周を保持する内周保持体
    は、その内孔をもつて前記シヤフトに嵌装される
    とともに前記弁体に気密に接続され、前記弁体に
    形成された導圧通路に連通し、かつダイアフラム
    室に開口する導圧通路を形成してなる、ことを特
    徴とする流体制御弁。
JP7633587U 1987-05-21 1987-05-21 Expired JPH0422141Y2 (ja)

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