JPH04219920A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH04219920A JPH04219920A JP40446590A JP40446590A JPH04219920A JP H04219920 A JPH04219920 A JP H04219920A JP 40446590 A JP40446590 A JP 40446590A JP 40446590 A JP40446590 A JP 40446590A JP H04219920 A JPH04219920 A JP H04219920A
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 17
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 16
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 102100025490 Slit homolog 1 protein Human genes 0.000 description 1
- 101710123186 Slit homolog 1 protein Proteins 0.000 description 1
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、高集積半導体デバイ
スの製造に好適な露光装置に関する。従来、この種の露
光装置においては、１デバイスパターンに対応する露光
作業が終了するたびに、実際の露光結果たるデバイスパ
ターンが予定されたデバイスパターンと正確に一致して
いるかを判定する機能が備えられている。
スの製造に好適な露光装置に関する。従来、この種の露
光装置においては、１デバイスパターンに対応する露光
作業が終了するたびに、実際の露光結果たるデバイスパ
ターンが予定されたデバイスパターンと正確に一致して
いるかを判定する機能が備えられている。
【０００２】しかしながら、従来この機能を実現するた
めには、露光結果たる感光体上のデバイスパターンを適
当な撮像装置を介して画像データに変換し、この画像デ
ータを基準となるデバイスパターン画像データと画面上
において照合するという複雑な処理が採用されていたた
め、デバイスパターンの微細化，複雑化が進に連れて処
理時間が増大し、検査能率の低下を招くという不都合が
あった。
めには、露光結果たる感光体上のデバイスパターンを適
当な撮像装置を介して画像データに変換し、この画像デ
ータを基準となるデバイスパターン画像データと画面上
において照合するという複雑な処理が採用されていたた
め、デバイスパターンの微細化，複雑化が進に連れて処
理時間が増大し、検査能率の低下を招くという不都合が
あった。
【０００３】この為、この種の露光結果検査作業を能率
よく行うことができる露光装置が要望されている。
よく行うことができる露光装置が要望されている。
【０００４】
【従来の技術】この種の露光装置においては、１デバイ
スパターンに相当する露光作業が完了するたびに、露光
結果たるデバイスパターンが予定されたデバイスパター
ンと正確に一致することを確認するために、所定の検査
作業を行う機能が備えられている。
スパターンに相当する露光作業が完了するたびに、露光
結果たるデバイスパターンが予定されたデバイスパター
ンと正確に一致することを確認するために、所定の検査
作業を行う機能が備えられている。
【０００５】従来、この検査作業は、露光作業が完了す
るたびに、感光体上に形成される露光結果たるデバイス
パターンを、何等かの撮像装置で読み取るとともに、こ
れを画像データに変換し、この画像データを予定された
デバイスパターンに相当する画像データと画面上におい
て照合するという手順が採用されていた。すなわち、こ
の検査作業を図４に従って説明すると、露光データファ
イル４０１には、露光対象となるデバイスパターンをそ
れに含まれる基準パターンの種別及び座標で表した露光
データが格納されている。
るたびに、感光体上に形成される露光結果たるデバイス
パターンを、何等かの撮像装置で読み取るとともに、こ
れを画像データに変換し、この画像データを予定された
デバイスパターンに相当する画像データと画面上におい
て照合するという手順が採用されていた。すなわち、こ
の検査作業を図４に従って説明すると、露光データファ
イル４０１には、露光対象となるデバイスパターンをそ
れに含まれる基準パターンの種別及び座標で表した露光
データが格納されている。
【０００６】この露光データ４０１は、フォーマット変
換処理４０２を経ることにより、露光信号４０３に変換
され、この露光信号４０３によって例えば電子ビーム露
光器４０４における電子ビームの制御が行われ、その結
果ウェハー等の感光体４０５上には露光データ４０１に
対応したデバイスパターンが描画される。この様にして
、１デバイスパターンに相当する露光作業が完了すると
、前述した検査作業が開始され、感光体４０５上に描画
されたデバイスパターンは、撮像処理４０６によって撮
影され、画像データ４０７に変換される。
換処理４０２を経ることにより、露光信号４０３に変換
され、この露光信号４０３によって例えば電子ビーム露
光器４０４における電子ビームの制御が行われ、その結
果ウェハー等の感光体４０５上には露光データ４０１に
対応したデバイスパターンが描画される。この様にして
、１デバイスパターンに相当する露光作業が完了すると
、前述した検査作業が開始され、感光体４０５上に描画
されたデバイスパターンは、撮像処理４０６によって撮
影され、画像データ４０７に変換される。
【０００７】一方、デバイスパターン画像ファイル４０
８からは、所定の露光作業順序に従って基準となるデバ
イスパターン画像データが発生するように成されており
、照合処理４０９では撮像処理４０６で得られた画像デ
ータ４０７とデバイスパターン画像データ４０８から得
られる画像データとを画面上に写しださせ、オペレータ
による視覚を通じて両者の照合を行わせ、その結果、当
該露光作業の良否判定が行われるようになっている。
８からは、所定の露光作業順序に従って基準となるデバ
イスパターン画像データが発生するように成されており
、照合処理４０９では撮像処理４０６で得られた画像デ
ータ４０７とデバイスパターン画像データ４０８から得
られる画像データとを画面上に写しださせ、オペレータ
による視覚を通じて両者の照合を行わせ、その結果、当
該露光作業の良否判定が行われるようになっている。
【０００８】しかしながら、この様な従来の検査作業を
備えた露光装置にあっては、１露光作業が完了するのを
待って、実際の露光結果を画像処理４０６を介して画像
データ４０７に変換し、これをデバイスパターン画像デ
ータファイル４０８から得られる画像データと照合処理
４０９において画面上で照合するという手順れが採られ
ていたため、半導体デバイスの高密度微細化が進に連れ
て、検査作業に時間がかかり、検査能率の低下を招くと
いう不都合があった。
備えた露光装置にあっては、１露光作業が完了するのを
待って、実際の露光結果を画像処理４０６を介して画像
データ４０７に変換し、これをデバイスパターン画像デ
ータファイル４０８から得られる画像データと照合処理
４０９において画面上で照合するという手順れが採られ
ていたため、半導体デバイスの高密度微細化が進に連れ
て、検査作業に時間がかかり、検査能率の低下を招くと
いう不都合があった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
検査作業を備えた露光装置にあっては、１露光作業が完
了するのを待って、実際の露光結果を感光体上から撮像
装置を介して読取り、得られた画像データを基準となる
画像データと画面を介して照合させるという手順が採用
されていたため、半導体デバイスの高密度微細化が進む
に連れて、処理に時間がかかり、検査能率の低下を招く
という問題点があった。
検査作業を備えた露光装置にあっては、１露光作業が完
了するのを待って、実際の露光結果を感光体上から撮像
装置を介して読取り、得られた画像データを基準となる
画像データと画面を介して照合させるという手順が採用
されていたため、半導体デバイスの高密度微細化が進む
に連れて、処理に時間がかかり、検査能率の低下を招く
という問題点があった。
【００１０】この発明は、上述の問題点に鑑みて成され
たものであり、その目的とするところは、露光作業にお
いて、所望デバイスパターン通りの描画が正しく行われ
たか否かを迅速かつ確実に判定することができる露光装
置を提供することにある。
たものであり、その目的とするところは、露光作業にお
いて、所望デバイスパターン通りの描画が正しく行われ
たか否かを迅速かつ確実に判定することができる露光装
置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の目的
を達成するために、入力される露光データを露光信号に
フォーマット変換する手段と、該露光信号に基き露光ビ
ームを制御することによりウェハー等の感光体上に該当
デバイスパターンを描画する露光器とを有する露光装置
において、所定の露光順序に従って基準デバイスパター
ンデータを発生する手段と、前記露光信号を該当デバイ
スパターンデータにフォーマット変換する手段と、前記
基準デバイスパターンデータとフォーマット変換により
得られるデバイスパターンデータとを照合する手段と、
を具備することを特徴とするものである。
を達成するために、入力される露光データを露光信号に
フォーマット変換する手段と、該露光信号に基き露光ビ
ームを制御することによりウェハー等の感光体上に該当
デバイスパターンを描画する露光器とを有する露光装置
において、所定の露光順序に従って基準デバイスパター
ンデータを発生する手段と、前記露光信号を該当デバイ
スパターンデータにフォーマット変換する手段と、前記
基準デバイスパターンデータとフォーマット変換により
得られるデバイスパターンデータとを照合する手段と、
を具備することを特徴とするものである。
【００１２】
【作用】このような構成によれば、露光信号をフォーマ
ット変換処理して得られるデータを用いて照合処理を行
うため、撮像装置を介して得られるデータに基づき照合
処理を行う場合に比べ、処理時間の低下を図り、検査能
率を向上させることができる。
ット変換処理して得られるデータを用いて照合処理を行
うため、撮像装置を介して得られるデータに基づき照合
処理を行う場合に比べ、処理時間の低下を図り、検査能
率を向上させることができる。
【００１３】
【実施例】本発明の構成図を図１に示す。同図において
、露光データファイル１０１には、これから露光描画し
ようとするデバイスパターンに相当する露光データが格
納されている。この露光データのフォーマットは、図２
に示されるように、デバイスパターンを構成する各パタ
ーン形状Ａと、その座標（１，１）とからなるものであ
り、このようなデータフォーマットについては従来より
種々のもので知られている。
、露光データファイル１０１には、これから露光描画し
ようとするデバイスパターンに相当する露光データが格
納されている。この露光データのフォーマットは、図２
に示されるように、デバイスパターンを構成する各パタ
ーン形状Ａと、その座標（１，１）とからなるものであ
り、このようなデータフォーマットについては従来より
種々のもので知られている。
【００１４】露光データファイル１０１から読み出され
た各露光データは、フォーマット変換処理１０２を介し
て前述の露光信号１０３に変換される。ここで、露光信
号１０３のフォーマットは図３に示されるように、電子
ビーム露光器（ＥＢ）１０４内において、スリット３０
１を開け閉めしながら電子ビーム３０２を適当な方向へ
と振り、感光体１０５に描画を行う際に、スリットの開
け具合およびビームの振れ具合等をコントロールできる
形態に定められている。
た各露光データは、フォーマット変換処理１０２を介し
て前述の露光信号１０３に変換される。ここで、露光信
号１０３のフォーマットは図３に示されるように、電子
ビーム露光器（ＥＢ）１０４内において、スリット３０
１を開け閉めしながら電子ビーム３０２を適当な方向へ
と振り、感光体１０５に描画を行う際に、スリットの開
け具合およびビームの振れ具合等をコントロールできる
形態に定められている。
【００１５】露光信号１０３は前述のように、電子ビー
ム露光器（ＥＢ）１０４に与えられ、これによりマスク
，レチクル，ウェハー等の感光体１０５上には、所望の
デバイスパターンに相当する電子ビーム描画が行われる
。一方、フォーマット変換処理１０２で得られた露光信
号１０３は、フォーマット変換処理１０６を介して、再
び露光データ１０１に逆変換される。なお、このとき逆
変換により得られる露光データのフォーマットは、元の
露光データファイル１０１に格納された露光データと同
一フォーマットでも良いし、また各ユーザ固有のフォー
マットのものでも良い。要するに、この逆変換処理によ
り得られる露光データのフォーマットは、後述する照合
データと同一次元のもので在りさえすれば良い。
ム露光器（ＥＢ）１０４に与えられ、これによりマスク
，レチクル，ウェハー等の感光体１０５上には、所望の
デバイスパターンに相当する電子ビーム描画が行われる
。一方、フォーマット変換処理１０２で得られた露光信
号１０３は、フォーマット変換処理１０６を介して、再
び露光データ１０１に逆変換される。なお、このとき逆
変換により得られる露光データのフォーマットは、元の
露光データファイル１０１に格納された露光データと同
一フォーマットでも良いし、また各ユーザ固有のフォー
マットのものでも良い。要するに、この逆変換処理によ
り得られる露光データのフォーマットは、後述する照合
データと同一次元のもので在りさえすれば良い。
【００１６】一方、照合データファイル１０７は、所定
のフォーマット（前述の露光データと同一の次元を有す
る）により照合データを格納するものであり、この照合
データファイル１０７からは所定の露光作業順序に従っ
て、該当する露光データが順次読み出されるようになっ
ている。そして、フォーマット変換処理１０６で得られ
る実際の露光結果に対応するデータと照合データファイ
ル１０７から読み出された照合データとは、照合処理１
０８を介して自動的に、或いは画面を介する人の判断を
介して照らし合わされ、その結果、露光作業の良否，す
なわち予定されたデバイスパターン通りの露光が実際に
行われたかどうかの判定が行われる。
のフォーマット（前述の露光データと同一の次元を有す
る）により照合データを格納するものであり、この照合
データファイル１０７からは所定の露光作業順序に従っ
て、該当する露光データが順次読み出されるようになっ
ている。そして、フォーマット変換処理１０６で得られ
る実際の露光結果に対応するデータと照合データファイ
ル１０７から読み出された照合データとは、照合処理１
０８を介して自動的に、或いは画面を介する人の判断を
介して照らし合わされ、その結果、露光作業の良否，す
なわち予定されたデバイスパターン通りの露光が実際に
行われたかどうかの判定が行われる。
【００１７】以上の実施例によれば、感光体１０５から
撮像装置を介して得られた画像データを用いるのではな
く、その露光処理に使用された露光信号１０３をフォー
マット変換処理１０６で逆変換して得られたデータを使
用して照合処理が行われるため、露光作業と並行してそ
の良否をほぼ同時に判定することができ、加えて露光信
号１０３から逆変換処理により露光データを得る手順は
、撮像装置を介して感光体１０５から画像データを取り
出す作業に比べ簡単であるため、検査能率の向上を図る
ことができる。
撮像装置を介して得られた画像データを用いるのではな
く、その露光処理に使用された露光信号１０３をフォー
マット変換処理１０６で逆変換して得られたデータを使
用して照合処理が行われるため、露光作業と並行してそ
の良否をほぼ同時に判定することができ、加えて露光信
号１０３から逆変換処理により露光データを得る手順は
、撮像装置を介して感光体１０５から画像データを取り
出す作業に比べ簡単であるため、検査能率の向上を図る
ことができる。
【００１８】以上の実施例によれば、露光データファイ
ル１０１から取り出された露光データを、フォーマット
変換処理１０２を介して露光信号１０３に変換し、これ
を電子ビーム露光器（ＥＢ）１０４に与えて感光体１０
５上に所望のデバイスパターンに相当する描画を行う一
方、当該露光作業に使用された露光信号１０３からフォ
ーマット変換処理１０６を介して得られたデータと、照
合データファイル１０７から読み出された照合データと
を、照合処理１０８を介して照合することにより、当該
露光作業の良否を判定するようにしているため、従来の
感光体１０５から撮像装置を介して得られた画像データ
と基準となる画像データとを比較する場合に比べ、従来
の検査作業で必要とされた画像変換処理，画像データ同
志の照合処理が不要となり、検査能率を大幅に向上させ
ることができる。
ル１０１から取り出された露光データを、フォーマット
変換処理１０２を介して露光信号１０３に変換し、これ
を電子ビーム露光器（ＥＢ）１０４に与えて感光体１０
５上に所望のデバイスパターンに相当する描画を行う一
方、当該露光作業に使用された露光信号１０３からフォ
ーマット変換処理１０６を介して得られたデータと、照
合データファイル１０７から読み出された照合データと
を、照合処理１０８を介して照合することにより、当該
露光作業の良否を判定するようにしているため、従来の
感光体１０５から撮像装置を介して得られた画像データ
と基準となる画像データとを比較する場合に比べ、従来
の検査作業で必要とされた画像変換処理，画像データ同
志の照合処理が不要となり、検査能率を大幅に向上させ
ることができる。
【００１９】また、照合処理１０８においては、露光デ
ータの次元においてデータ照合を行うため、従来の画像
データ同志の照合の場合に比べ、照合処理も簡素化され
、これによっても照合処理の高速化を図ることができる
。
ータの次元においてデータ照合を行うため、従来の画像
データ同志の照合の場合に比べ、照合処理も簡素化され
、これによっても照合処理の高速化を図ることができる
。
【００２０】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、この発明
によれば、所望デバイスパターン通りの描画が正しく行
われたか否かを迅速かつ確実に判定することができる。
によれば、所望デバイスパターン通りの描画が正しく行
われたか否かを迅速かつ確実に判定することができる。
【図１】本発明の構成図である。
【図２】露光データの説明図である。
【図３】露光信号の説明図である。
【図４】従来の検査作業の説明図である。
１０１…露光データファイル
１０２…フォーマット変換処理
１０３…露光信号
１０４…露光器（ＥＢ）
１０５…感光体
１０６…フォーマット変換処理
１０７…照合データファイル
１０８…照合処理
Claims (1)
- 【請求項１】 入力される露光データ（１０１）を露
光信号（１０３）にフォーマット変換する手段（１０２
）と、該露光信号に基き露光ビーム（３０２）を制御す
ることによりウェハー等の感光体（１０５）上に該当デ
バイスパターンを描画する露光器（１０４）とを有する
露光装置において、所定の露光作業順序に従って基準デ
バイスパターンデータを発生する手段（１０７）と、前
記露光信号を該当デバイスパターンデータにフォーマッ
ト変換する手段（１０６）と、前記基準デバイスパター
ンデータとフォーマット変換により得られるデバイスパ
ターンデータとを照合する手段（１０８）と、を具備す
ることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2404465A JP2582476B2 (ja) | 1990-12-20 | 1990-12-20 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2404465A JP2582476B2 (ja) | 1990-12-20 | 1990-12-20 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04219920A true JPH04219920A (ja) | 1992-08-11 |
| JP2582476B2 JP2582476B2 (ja) | 1997-02-19 |
Family
ID=18514134
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2404465A Expired - Fee Related JP2582476B2 (ja) | 1990-12-20 | 1990-12-20 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2582476B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6393604B1 (en) | 1998-11-09 | 2002-05-21 | Nec Corporation | Process for preparing data for direct-writing by a charged particle ray, process for verifying data for direct-writing by a charged particle ray, process for displaying data for direct-writing by a charged particle ray, and exposure device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57113220A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-14 | Fujitsu Ltd | Apparatus for electron beam exposure |
| JPS5994822A (ja) * | 1982-11-22 | 1984-05-31 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電ビ−ム露光装置 |
-
1990
- 1990-12-20 JP JP2404465A patent/JP2582476B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57113220A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-14 | Fujitsu Ltd | Apparatus for electron beam exposure |
| JPS5994822A (ja) * | 1982-11-22 | 1984-05-31 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電ビ−ム露光装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6393604B1 (en) | 1998-11-09 | 2002-05-21 | Nec Corporation | Process for preparing data for direct-writing by a charged particle ray, process for verifying data for direct-writing by a charged particle ray, process for displaying data for direct-writing by a charged particle ray, and exposure device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2582476B2 (ja) | 1997-02-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960924 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |