JPS5994822A - 荷電ビ−ム露光装置 - Google Patents
荷電ビ−ム露光装置Info
- Publication number
- JPS5994822A JPS5994822A JP57205247A JP20524782A JPS5994822A JP S5994822 A JPS5994822 A JP S5994822A JP 57205247 A JP57205247 A JP 57205247A JP 20524782 A JP20524782 A JP 20524782A JP S5994822 A JPS5994822 A JP S5994822A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- data
- signal
- deflection
- comparison
- charged beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は半導体素子製作のために荷電ビームを用いてパ
ターンを描画する装置において、パターン描画のために
荷電ビームを多数回にわたって信頼性良く偏向するため
の荷電ビーム露光装置に関するものである。
ターンを描画する装置において、パターン描画のために
荷電ビームを多数回にわたって信頼性良く偏向するため
の荷電ビーム露光装置に関するものである。
従来、荷電ビーム露光装置においては生産性の向上が要
求されており、このため、ビームの単位時間当たシの偏
向回数の増大は不可欠である。偏向回数を増大させれば
それだけ信頼性の向上が必要となる他、偏向速度を増す
ことで誤動作の確率が増加するため、ますます信頼性を
向上させる必要がある。ところで、従来の荷電ビーム露
光装置では単にビーム偏向データを送出し続けるのみで
信頼性を高めるための特別な装置を備えておらず、生産
性の高い露光装置の偏向装置としては信頼性において不
十分であった。
求されており、このため、ビームの単位時間当たシの偏
向回数の増大は不可欠である。偏向回数を増大させれば
それだけ信頼性の向上が必要となる他、偏向速度を増す
ことで誤動作の確率が増加するため、ますます信頼性を
向上させる必要がある。ところで、従来の荷電ビーム露
光装置では単にビーム偏向データを送出し続けるのみで
信頼性を高めるための特別な装置を備えておらず、生産
性の高い露光装置の偏向装置としては信頼性において不
十分であった。
本発明はこの欠点を除去するために、ビーム偏向用信号
を変換し、その結果をもとの偏向データと比較してその
差が設定した許容直円にある場合のみにパターン描画を
し、許容値を超過した場合にはそのときのデータを記憶
した後、適時読みだして誤動作の解明に用いるようにし
たものであってその目的は荷電ビーム露光装置の信頼性
の向上にある。
を変換し、その結果をもとの偏向データと比較してその
差が設定した許容直円にある場合のみにパターン描画を
し、許容値を超過した場合にはそのときのデータを記憶
した後、適時読みだして誤動作の解明に用いるようにし
たものであってその目的は荷電ビーム露光装置の信頼性
の向上にある。
第１図は本発明の一実施例であシ、１は制御用計算機、
２はＬＳＩ （大規模集積回路）パターン設計データを
もとに偏向データを発生する装置、３はビーム照射信号
発生装置、４はブランキング・アンプ、５は比較装置、
６はＡＤ （アナログ・デジタル）変換器等から成る変
換装置、７はメモリ、８はＤＡ （デジタル・アナログ
）変換器（出力アンプも含む）、９はビーム・ブランカ
、ｌＯはビーム軌道、１１は電子光学系鏡体、１２は偏
向器、１３は試料、１５は偏向データ・レジスタである
。第２図は、本発明の詳細な説明するための図でめシ、
１回のビーム照射のあいだのビーム偏向からビーム照射
までの各部の動作をタイムチャートで示している。
２はＬＳＩ （大規模集積回路）パターン設計データを
もとに偏向データを発生する装置、３はビーム照射信号
発生装置、４はブランキング・アンプ、５は比較装置、
６はＡＤ （アナログ・デジタル）変換器等から成る変
換装置、７はメモリ、８はＤＡ （デジタル・アナログ
）変換器（出力アンプも含む）、９はビーム・ブランカ
、ｌＯはビーム軌道、１１は電子光学系鏡体、１２は偏
向器、１３は試料、１５は偏向データ・レジスタである
。第２図は、本発明の詳細な説明するための図でめシ、
１回のビーム照射のあいだのビーム偏向からビーム照射
までの各部の動作をタイムチャートで示している。
以下、図に従って本発明の動作を述べる。なお、本例で
はビーム偏向用信号としては電圧信号としているが、こ
れが電流出力の信号でおっても本発明の効果を等しく発
揮できる。まづ、１回のビーム照射のために、時刻１０
においてビーム偏向データが偏向データ・レジスタ１５
に設定されると同時に第２図で示すビーム偏向開始信号
が偏向データ発生装置２よ、９ ＤＡ変換器８に送られ
、これを受けてＤＡ変換器８は偏向データ・レジスタ１
５に格納されているデータに対応する電圧出力すなわち
荷電ビーム偏向用信号の発生を開始する。時刻ｔ１にお
いて、第２図で示すようにＡＤ変換開始信号が偏向デー
タ発生装置２の制御部よル変換装置６に送出され、これ
を受けて変換装置６はＡＤ変換を開始する。
はビーム偏向用信号としては電圧信号としているが、こ
れが電流出力の信号でおっても本発明の効果を等しく発
揮できる。まづ、１回のビーム照射のために、時刻１０
においてビーム偏向データが偏向データ・レジスタ１５
に設定されると同時に第２図で示すビーム偏向開始信号
が偏向データ発生装置２よ、９ ＤＡ変換器８に送られ
、これを受けてＤＡ変換器８は偏向データ・レジスタ１
５に格納されているデータに対応する電圧出力すなわち
荷電ビーム偏向用信号の発生を開始する。時刻ｔ１にお
いて、第２図で示すようにＡＤ変換開始信号が偏向デー
タ発生装置２の制御部よル変換装置６に送出され、これ
を受けて変換装置６はＡＤ変換を開始する。
このときのｔｏからｔｌまでの時間は、ＡＤ変換器の精
度内にＤＡ変換器８の出力が到達するまでの時間を与え
れば良い。ただし、本実施例においては、以降のｔｌが
らｔ２までの時間がむだ時間とならないようにするため
に、ＡＤ変換器の精度はＤＡ変換器８の精度の１／２と
し、ＤＡ変換器８が所定の精度以内に到達するまえに、
ＡＤ変換を開始させるようにしている。つぎに、変換装
置６からのＡＤ変換終了（ＩＯＣ出力）信号を受けて比
較装置５が偏向データ・レジスタ１５のデータと変換装
置６のＡＤ変換結果のデータとを比較する。ただし、前
述の如（ＡＤ変換器の精度はＤＡ変換器８の精度の１／
２であるため、変換装置はＡＤ変換器の出力データを１
ビツトだけシフトさせてこれを比較装置に向けて出力す
る。比較動作の結果、その差が設定した許容値内であれ
ば、この場合、ビーム偏向装置としての動作は正常であ
るとして、その情報は比較装置５からビーム照射信号発
生装置３に送られ、ビーム照射を可能とする条件の一つ
を与える。
度内にＤＡ変換器８の出力が到達するまでの時間を与え
れば良い。ただし、本実施例においては、以降のｔｌが
らｔ２までの時間がむだ時間とならないようにするため
に、ＡＤ変換器の精度はＤＡ変換器８の精度の１／２と
し、ＤＡ変換器８が所定の精度以内に到達するまえに、
ＡＤ変換を開始させるようにしている。つぎに、変換装
置６からのＡＤ変換終了（ＩＯＣ出力）信号を受けて比
較装置５が偏向データ・レジスタ１５のデータと変換装
置６のＡＤ変換結果のデータとを比較する。ただし、前
述の如（ＡＤ変換器の精度はＤＡ変換器８の精度の１／
２であるため、変換装置はＡＤ変換器の出力データを１
ビツトだけシフトさせてこれを比較装置に向けて出力す
る。比較動作の結果、その差が設定した許容値内であれ
ば、この場合、ビーム偏向装置としての動作は正常であ
るとして、その情報は比較装置５からビーム照射信号発
生装置３に送られ、ビーム照射を可能とする条件の一つ
を与える。
ビーム照射信号発生装置３はＤＡ変換器８の出力が所定
の精度内に到達する時刻ｔ４に至って、ビーム照射信号
を発生する。ｔｌからｔ５までの時間は別途設定されて
いるビーム照射時間であシ、これはビーム電流密度と試
料面に塗布されているレジストの感度とで定まる。かく
して、ＤＡ変換器８が正常な電圧を出力する限シビーム
照射は実行され、パターン描画が行われる。上記の動作
において、比較装置５での比較の結果、その差が設定し
た許容値を超えている場合には、その情報は制御用計算
機に送られるとともに、描画動作は一時中断され、その
時の偏向データ発生装置１５のデータと変換装置６の出
力データはメモリ７に記憶される。メモリ７の内容は、
適時計算機で読みだし、誤動作の解析に用いることがで
きる。なお、本実施例では、比較装置５における比較の
結果、両データの差が許容値を超えていてもそれらの内
容をメモリ７に記憶するのみで、描画動作をそのまま続
けるようにビーム偏向装置の動作モードを設定できる。
の精度内に到達する時刻ｔ４に至って、ビーム照射信号
を発生する。ｔｌからｔ５までの時間は別途設定されて
いるビーム照射時間であシ、これはビーム電流密度と試
料面に塗布されているレジストの感度とで定まる。かく
して、ＤＡ変換器８が正常な電圧を出力する限シビーム
照射は実行され、パターン描画が行われる。上記の動作
において、比較装置５での比較の結果、その差が設定し
た許容値を超えている場合には、その情報は制御用計算
機に送られるとともに、描画動作は一時中断され、その
時の偏向データ発生装置１５のデータと変換装置６の出
力データはメモリ７に記憶される。メモリ７の内容は、
適時計算機で読みだし、誤動作の解析に用いることがで
きる。なお、本実施例では、比較装置５における比較の
結果、両データの差が許容値を超えていてもそれらの内
容をメモリ７に記憶するのみで、描画動作をそのまま続
けるようにビーム偏向装置の動作モードを設定できる。
この他、第１図には記憶されていないが、本発明は偏向
を主副２段構成で行い、可変成形ビーム偏向装置に本発
明が適用されているほか、ビーム成形用のビーム偏向装
置に対しても本発明を適用している。すたわち、ビーム
成形用データをＤＡ変換器でビーム成形用信号に変換し
、このビーム成形用信号をＡＤ変換器で比較のためのデ
ータに変換し、この比較のためのデータと前記ビーム成
形用データとを比較装置で比較する。
を主副２段構成で行い、可変成形ビーム偏向装置に本発
明が適用されているほか、ビーム成形用のビーム偏向装
置に対しても本発明を適用している。すたわち、ビーム
成形用データをＤＡ変換器でビーム成形用信号に変換し
、このビーム成形用信号をＡＤ変換器で比較のためのデ
ータに変換し、この比較のためのデータと前記ビーム成
形用データとを比較装置で比較する。
この比較装置での比較の結果、その差が設定した許容値
を超過した場合には、その時点でのデータをメモリに記
憶し、一方、その差が設定した許容値内にある場合にの
みビーム照射を可能とする信号を発生させる。なお、比
較データの差が許容値を超えていてもそれらの内容をメ
モリに記憶するのみで、描画動作をそのまま続けるよう
にしてもよい。さらに、比較装置５における比較の結果
、データ間の差が許容値を超えている場合には、その時
点で既にビーム照射信号発生装置３に設定されているビ
ーム照射時間を定めるデータについてもメモリ７に記憶
できるようにしている、とのように、本発明の適用対象
が多数となる場合、変換装置６０入力部分にマルチプレ
クサを設けて、比較用のデータを切９換えられるように
して、回路の規模を小さくすることも可能である。
を超過した場合には、その時点でのデータをメモリに記
憶し、一方、その差が設定した許容値内にある場合にの
みビーム照射を可能とする信号を発生させる。なお、比
較データの差が許容値を超えていてもそれらの内容をメ
モリに記憶するのみで、描画動作をそのまま続けるよう
にしてもよい。さらに、比較装置５における比較の結果
、データ間の差が許容値を超えている場合には、その時
点で既にビーム照射信号発生装置３に設定されているビ
ーム照射時間を定めるデータについてもメモリ７に記憶
できるようにしている、とのように、本発明の適用対象
が多数となる場合、変換装置６０入力部分にマルチプレ
クサを設けて、比較用のデータを切９換えられるように
して、回路の規模を小さくすることも可能である。
以上説明したように、本発明では従来偏向ｆ−夕を垂れ
流し的に送り出しながらビーム偏向をし、パターン描画
を行っていたところを、偏向出力電圧を実時間で測定し
ながら・ぐターン描画をするようにしたため、大幅な信
頼性の向上が図られ、偏向回数の多い生産性の高い露光
装置に必要とされる信頼性が実現できるという利点を有
している。
流し的に送り出しながらビーム偏向をし、パターン描画
を行っていたところを、偏向出力電圧を実時間で測定し
ながら・ぐターン描画をするようにしたため、大幅な信
頼性の向上が図られ、偏向回数の多い生産性の高い露光
装置に必要とされる信頼性が実現できるという利点を有
している。
第１図は本発明の一実施例を示す構成説明図、第２図は
第１図の動作を説明するための図である。 ｌ・・・制御用計算機、２・・・ＬＳＩパターン設計設
計データ色に偏向データを発生する装置、３・・・ビー
ム照射信号発生装置、４・・・ブランキング・アンプ、
５・・・比較装置、６・・・ＡＤ変換器等から成る変換
装置、７・・・メモリ、８・・・ＤＡ変換器（出力アン
プも含む）、９・・・ビーム・ブランカ、ｌθ・・・ビ
ーム軌道、１１・・・電子光学系鏡体、１２・・・偏向
器、１３・・・試料、１５・・・偏向データ・レジスタ
。
第１図の動作を説明するための図である。 ｌ・・・制御用計算機、２・・・ＬＳＩパターン設計設
計データ色に偏向データを発生する装置、３・・・ビー
ム照射信号発生装置、４・・・ブランキング・アンプ、
５・・・比較装置、６・・・ＡＤ変換器等から成る変換
装置、７・・・メモリ、８・・・ＤＡ変換器（出力アン
プも含む）、９・・・ビーム・ブランカ、ｌθ・・・ビ
ーム軌道、１１・・・電子光学系鏡体、１２・・・偏向
器、１３・・・試料、１５・・・偏向データ・レジスタ
。
Claims (4)
- （１）荷電ビームを用いてノ４ターンを描画する荷電ビ
ーム露光装置において、荷電ビームを偏向するためのデ
ータを荷電ビーム偏向用信号に変換する装置゛と、この
装置で変換して得た荷電ビーム偏向用信号を比較のため
データに変換する装置と、この装置で変換して得たデー
タと前記荷電ビームを偏向するためのデータを比較する
比較装置とを具備することを特徴とする荷電ビーム露光
装置。 - （２）荷電ビームとして、可変成形ビームを用いた特許
請求の範囲第１項記載の荷電ビーム露光装置において、
ビーム成形用データをビーム成形用信号に変換する装置
と、この装置で変換して得たビーム成形用信号を比較の
ためのデータに変換する装置と、この装置で変換して得
たデータと前記ビーム成形用データとを比較する比較装
置とを具備することを特徴とする荷電ビーム露光装置。 - （３）特許請求の範囲第１項または第２項記載の荷電ビ
ーム露光装置において、比較装置での比較の結果、その
差が設定した許容値を超過した場合には、その時点での
データを記憶することを特徴とする荷電ビーム露光装置
。 - （４）特許請求の範囲第１項または第２項記載の荷電ビ
ーム露光装置において、比較装置での比較の結果、その
差が設定した許容値内にある場合にのみビーム照射を可
能とする信号を発生させることを特徴とする荷電ビーム
露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57205247A JPS5994822A (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | 荷電ビ−ム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57205247A JPS5994822A (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | 荷電ビ−ム露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5994822A true JPS5994822A (ja) | 1984-05-31 |
Family
ID=16503824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57205247A Pending JPS5994822A (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | 荷電ビ−ム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5994822A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04219920A (ja) * | 1990-12-20 | 1992-08-11 | Fujitsu Ltd | 露光装置 |
-
1982
- 1982-11-22 JP JP57205247A patent/JPS5994822A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04219920A (ja) * | 1990-12-20 | 1992-08-11 | Fujitsu Ltd | 露光装置 |
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