JPS6066427A - 二次元パタ−ン発生装置 - Google Patents
二次元パタ−ン発生装置Info
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- JPS6066427A JPS6066427A JP58175895A JP17589583A JPS6066427A JP S6066427 A JPS6066427 A JP S6066427A JP 58175895 A JP58175895 A JP 58175895A JP 17589583 A JP17589583 A JP 17589583A JP S6066427 A JPS6066427 A JP S6066427A
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- Japan
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は比較的低速のＤ／Ａコンバータニヨッても、
高速・高精度なパターンを発生することができる二次元
パターン発生装置に関するものである。
高速・高精度なパターンを発生することができる二次元
パターン発生装置に関するものである。
近年・半導体デバイスなどの製造において、光学的限界
を超えた微細なパターンを発生する手段として、電子ビ
ーム露光やイオンビーム露光などの荷電ビーム露光が用
いられる。このような露光方法においては所望のパター
ンデータに応じて荷電ビームを静電力または電磁力によ
り曲げ（偏向）たり、オン・オフ（ブランキング）を行
なって、二次元パターンを発生している。
を超えた微細なパターンを発生する手段として、電子ビ
ーム露光やイオンビーム露光などの荷電ビーム露光が用
いられる。このような露光方法においては所望のパター
ンデータに応じて荷電ビームを静電力または電磁力によ
り曲げ（偏向）たり、オン・オフ（ブランキング）を行
なって、二次元パターンを発生している。
しかしながら、従来の二次元パターン発生装置ではこの
パターン発生を高速かつ高精度に行なうため、高速・高
精度のＤ／Ａコンバータが必要である。このため、電子
回路も複雑で、かつ高価なものになる欠点があった。
パターン発生を高速かつ高精度に行なうため、高速・高
精度のＤ／Ａコンバータが必要である。このため、電子
回路も複雑で、かつ高価なものになる欠点があった。
したがって、この発明の目的は比較的低速なり／Ａコン
バータを用いて、簡単かつ安価に、高速・高精度なパタ
ーン発生を可能にする二次元パターン発生装置を提供す
るものである。
バータを用いて、簡単かつ安価に、高速・高精度なパタ
ーン発生を可能にする二次元パターン発生装置を提供す
るものである。
このような目的を達成するため、この発明は所定の形状
を複数本の線分に分割し、各線分の始点および終点の位
置を算出する演算回路と、その始点と終点の位置に見合
うだけのディジタル−量の範囲でカウントアツプまたは
カウントダウンを行なうカウンタと、このカウンタがカ
ウント動作している間だけビーム・オン信号を発生する
タイミング回路と、前記カウンタの出力信号を荷電ビー
ム偏向用アナログ信号に変換するＤ／Ａコンバータトを
備えるものであり、以下実施例を用いて詳細に説明する
。
を複数本の線分に分割し、各線分の始点および終点の位
置を算出する演算回路と、その始点と終点の位置に見合
うだけのディジタル−量の範囲でカウントアツプまたは
カウントダウンを行なうカウンタと、このカウンタがカ
ウント動作している間だけビーム・オン信号を発生する
タイミング回路と、前記カウンタの出力信号を荷電ビー
ム偏向用アナログ信号に変換するＤ／Ａコンバータトを
備えるものであり、以下実施例を用いて詳細に説明する
。
第１図はこの発明に係る二次元パターン発生装置の一実
施例を示すブロック図である。同図において、１は例え
ば第２゛図に示す台形を露光するため、所定の座標デー
タを出力する制御用コンピュータ、２はクロック周波数
データＦＱを出力する端子２ａ、スタート信号ＳＴを出
力する端子２ｂ。
施例を示すブロック図である。同図において、１は例え
ば第２゛図に示す台形を露光するため、所定の座標デー
タを出力する制御用コンピュータ、２はクロック周波数
データＦＱを出力する端子２ａ、スタート信号ＳＴを出
力する端子２ｂ。
Ｙ方向の位置データＤＹを出力する端子２Ｃ，Ｘ方向の
スキャン終了位置データＤＸＥを出力する端子２ｄ、Ｘ
方向のスキャン開始位置データＤＸ８を出力する端子２
ｅ、スキャン方向信号ＤＩＲＤＣを出力する端子２ｆを
備え、前記制御用コンピュータ１から送られてくる座標
データから上記各端子から偏向・ブランキングに必要な
信号を発生する演算回路、３はスキャン方向信号ＤＩＲ
ＥＣの入力によりアップ／ダウン動作し、Ｘ方向のディ
ジタル・スキャン信号を発生するカウンタ、４はＸ方向
のＤ／Ａコンバータ、５はＸ方向の偏向信号増幅器、６
はＸ方向の偏向装置、ＴはＹ方向のＤ／Ａコンバータ、
８はＹ方向の偏向信号増幅器、９はＹ方向の偏向装置、
１０はＸ方向のディジタル・スキャン信号とスキャン終
了位置データＤＸＥとを比較する比較回路、１１は演算
回路２から入力するスタート信号により、クロック信号
ＣＬＫを出力する端子１１ａ１ビーム・オン信号を出力
する端子１１ｂ、１スキャン分が終了した旨の終了信号
ＥＮを出力する端子１１ｂを備えたタイミング回路、１
２はブランキング信号を増幅するブランキング増幅器、
１３はブランキング装置である。
スキャン終了位置データＤＸＥを出力する端子２ｄ、Ｘ
方向のスキャン開始位置データＤＸ８を出力する端子２
ｅ、スキャン方向信号ＤＩＲＤＣを出力する端子２ｆを
備え、前記制御用コンピュータ１から送られてくる座標
データから上記各端子から偏向・ブランキングに必要な
信号を発生する演算回路、３はスキャン方向信号ＤＩＲ
ＥＣの入力によりアップ／ダウン動作し、Ｘ方向のディ
ジタル・スキャン信号を発生するカウンタ、４はＸ方向
のＤ／Ａコンバータ、５はＸ方向の偏向信号増幅器、６
はＸ方向の偏向装置、ＴはＹ方向のＤ／Ａコンバータ、
８はＹ方向の偏向信号増幅器、９はＹ方向の偏向装置、
１０はＸ方向のディジタル・スキャン信号とスキャン終
了位置データＤＸＥとを比較する比較回路、１１は演算
回路２から入力するスタート信号により、クロック信号
ＣＬＫを出力する端子１１ａ１ビーム・オン信号を出力
する端子１１ｂ、１スキャン分が終了した旨の終了信号
ＥＮを出力する端子１１ｂを備えたタイミング回路、１
２はブランキング信号を増幅するブランキング増幅器、
１３はブランキング装置である。
なお、パターンデータは所望の形状、例えば第２図に示
すように台形に分割しており、左下の頂点の座標を（ｘ
、ｙ）、底辺の幅をＷ、高さをＨとし、上底と下底の左
側の差をＸＩ、右側の差をＸ２とする。したがって、こ
の台形を露光する際の手順を第３図に示す。この場合、
第２図に示された各データをもとこ、ビームを位置ＰＩ
にもっていき、ビームをオンすると同時に指定された速
度でＸ方向ｌこ偏向を開始し、終点Ｐ２において、偏向
を停止すると同時にビームをオフする。次に、始点Ｐ３
まで移動し、反射方向に同様の要領で終点Ｐ４までビー
ムスキャンを行なう。この動作を順次くりかえしするこ
とにより、１つの台形の露光が行なわれる。すなわち、
１つの台形をＸ方向に１スキャン分ず°つ分解して順次
露光を行う。
すように台形に分割しており、左下の頂点の座標を（ｘ
、ｙ）、底辺の幅をＷ、高さをＨとし、上底と下底の左
側の差をＸＩ、右側の差をＸ２とする。したがって、こ
の台形を露光する際の手順を第３図に示す。この場合、
第２図に示された各データをもとこ、ビームを位置ＰＩ
にもっていき、ビームをオンすると同時に指定された速
度でＸ方向ｌこ偏向を開始し、終点Ｐ２において、偏向
を停止すると同時にビームをオフする。次に、始点Ｐ３
まで移動し、反射方向に同様の要領で終点Ｐ４までビー
ムスキャンを行なう。この動作を順次くりかえしするこ
とにより、１つの台形の露光が行なわれる。すなわち、
１つの台形をＸ方向に１スキャン分ず°つ分解して順次
露光を行う。
次１こ、上記構成による二次元パターン発生装置の動作
について説明する。まず、制御用コンピュータ１から露
光すべき台形（第２図参照）のデータ（座標データＸ、
Ｙ、Ｗ、Ｈ，Ｘｌ、Ｘ２およびクロック周波数など）を
演算回路２に出力する。
について説明する。まず、制御用コンピュータ１から露
光すべき台形（第２図参照）のデータ（座標データＸ、
Ｙ、Ｗ、Ｈ，Ｘｌ、Ｘ２およびクロック周波数など）を
演算回路２に出力する。
したがって、この演算回路２は端子２ａからクロック周
波数データＦＱを出力し、そして、各スキャンに対応し
て、端子２０〜端子２ｆからそれぞれ 。
波数データＦＱを出力し、そして、各スキャンに対応し
て、端子２０〜端子２ｆからそれぞれ 。
Ｙ方向の位置データＤＹ、Ｘ方向のスキャン終了位置デ
ータＤＸＥ、Ｘ方向のスキャン開始位置データＤＸ８．
スキャン方向信号ＤＩＲＥＩＣを出力する。したがって
、カウンタ３はこのＸ方向のスキャン開始位置データＤ
ＸＳの入力により、プリセットされると共に、スキャン
方向信号ＤＩＲＥＣの入力により、アップカウントにセ
ットされる。また、比較回路１０はその図示せぬレジス
タに、このＸ方向のスキャン終了位置データＤＸＥがセ
ットされる。
ータＤＸＥ、Ｘ方向のスキャン開始位置データＤＸ８．
スキャン方向信号ＤＩＲＥＩＣを出力する。したがって
、カウンタ３はこのＸ方向のスキャン開始位置データＤ
ＸＳの入力により、プリセットされると共に、スキャン
方向信号ＤＩＲＥＣの入力により、アップカウントにセ
ットされる。また、比較回路１０はその図示せぬレジス
タに、このＸ方向のスキャン終了位置データＤＸＥがセ
ットされる。
また、Ｙ方向のＤ／ＡコンバータＴはＹ方向の位置デー
タＤＹの入力により動作する。このため、このＤ／Ａコ
ンバータＴの出力信号はＹ方向の偏向信号増幅器８によ
り増幅されたのち、Ｙ方向の偏向装置９に入力するので
、ビームはＹ方向Ｊこ所望の偏向が行なわれる。一方、
Ｘ方向に対しては、カウンタ３にプリセットされたＸ方
向のスキャン開始信号データＤＩ８はＤ／Ａコンバータ
４によりアナログ信号に変換される。そして、このアナ
ログ信号はＸ方向の偏向信号増幅器５により増幅された
のち、Ｘ方向の偏向装置６により、ビームは偏向を受け
、スキャン開始位置まで移動する。そして、これらのデ
ータが演算回路２にセットされると、端子２ｂからスタ
ート信号ＳＴがタイミング回路１１に出力される。この
ため、タイミング回路１１はこのスタート信号ＳＴの入
力Ｉこより動作し、端子１１ａから定められた周波数の
クロック信号ＣＬＫをカウンタ３に出力すると共に、端
子１１ｂからビーム・オン信号を出力する。このため、
このカウンタ３はこのクロック信号ＣＬＫの入力によっ
て動作し、予め設定されたＸ方向のスキャン開始位置デ
ータＤＸＳからカウントアツプ（またはカウントダウン
）する。このため、ビームはスキャンを開始する。そし
て、このカウンタ３の出力値が比較回路１０にプリセッ
トされたＸ方向のスキャン終了位置データＤＸＢと等し
くなると、この比較回路１０は一致信号ＢＱを出力する
。したがって、タイミング回路１１はこの一致信号ＩＱ
の入力によって直ちにビーム・オフ信号を出力し、クロ
ック信号ＣＬＫを止め、演算回路２に終了信号ＥＮを出
力する。この演算回路２はこの終了信号ＢＮの入力によ
ってスキャン方向を逆（スキャン方向信号ＤＩＲＢＣを
変え）＃こし、次のスキャンデータを計算して、次のス
キャンを開始する。したがって、上述の動作を順次くり
返すことによって、第２図に示す台形を露光することが
できる。なお、上記Ｘ方向のＤ／人コンバータ４および
Ｙ方向のＤ／ＡコンバータＴの入力データは露光時には
必ず１ビツトずつしか変化しないために、動作周波数に
比し、比較的低動作のＤ／Ａコンバータを用いろことが
可能である。例えば、ＩＭＨｚで回路を動作させ、かつ
１ビツトの１７１０の精度を必要とするときｌこは、一
般的にフル・スケール１０ ｒ） ｎ５ｅｃの変換時間
を持つＤ／Ａコンバータを必要とするが、第１図の実施
例では上述したよう４こ、Ｄ／Ａコンバータの入力値が
１ビツトずつしか変化しないために、１ビット当りの変
換時間が１００ ｎ５ｅｃあるＤ／Ａコンバータを用い
れば同等の性能を出ずことができる。
タＤＹの入力により動作する。このため、このＤ／Ａコ
ンバータＴの出力信号はＹ方向の偏向信号増幅器８によ
り増幅されたのち、Ｙ方向の偏向装置９に入力するので
、ビームはＹ方向Ｊこ所望の偏向が行なわれる。一方、
Ｘ方向に対しては、カウンタ３にプリセットされたＸ方
向のスキャン開始信号データＤＩ８はＤ／Ａコンバータ
４によりアナログ信号に変換される。そして、このアナ
ログ信号はＸ方向の偏向信号増幅器５により増幅された
のち、Ｘ方向の偏向装置６により、ビームは偏向を受け
、スキャン開始位置まで移動する。そして、これらのデ
ータが演算回路２にセットされると、端子２ｂからスタ
ート信号ＳＴがタイミング回路１１に出力される。この
ため、タイミング回路１１はこのスタート信号ＳＴの入
力Ｉこより動作し、端子１１ａから定められた周波数の
クロック信号ＣＬＫをカウンタ３に出力すると共に、端
子１１ｂからビーム・オン信号を出力する。このため、
このカウンタ３はこのクロック信号ＣＬＫの入力によっ
て動作し、予め設定されたＸ方向のスキャン開始位置デ
ータＤＸＳからカウントアツプ（またはカウントダウン
）する。このため、ビームはスキャンを開始する。そし
て、このカウンタ３の出力値が比較回路１０にプリセッ
トされたＸ方向のスキャン終了位置データＤＸＢと等し
くなると、この比較回路１０は一致信号ＢＱを出力する
。したがって、タイミング回路１１はこの一致信号ＩＱ
の入力によって直ちにビーム・オフ信号を出力し、クロ
ック信号ＣＬＫを止め、演算回路２に終了信号ＥＮを出
力する。この演算回路２はこの終了信号ＢＮの入力によ
ってスキャン方向を逆（スキャン方向信号ＤＩＲＢＣを
変え）＃こし、次のスキャンデータを計算して、次のス
キャンを開始する。したがって、上述の動作を順次くり
返すことによって、第２図に示す台形を露光することが
できる。なお、上記Ｘ方向のＤ／人コンバータ４および
Ｙ方向のＤ／ＡコンバータＴの入力データは露光時には
必ず１ビツトずつしか変化しないために、動作周波数に
比し、比較的低動作のＤ／Ａコンバータを用いろことが
可能である。例えば、ＩＭＨｚで回路を動作させ、かつ
１ビツトの１７１０の精度を必要とするときｌこは、一
般的にフル・スケール１０ ｒ） ｎ５ｅｃの変換時間
を持つＤ／Ａコンバータを必要とするが、第１図の実施
例では上述したよう４こ、Ｄ／Ａコンバータの入力値が
１ビツトずつしか変化しないために、１ビット当りの変
換時間が１００ ｎ５ｅｃあるＤ／Ａコンバータを用い
れば同等の性能を出ずことができる。
すなわち、フル・スケール当りの変換時間が２００ｎｓ
ｅｃ以上の比較的低速のＤ／Ａコンバータでも十分性能
を保証できる。このため、回路が簡単で、かつ安価な高
速・高精度の二次元パターンを発生することができる。
ｅｃ以上の比較的低速のＤ／Ａコンバータでも十分性能
を保証できる。このため、回路が簡単で、かつ安価な高
速・高精度の二次元パターンを発生することができる。
以上、詳細に説明したように、この発明に係る二次元パ
ターン発生装置によれば動作周波数に比し１．比較的低
速動作のＤ／Ａコンバータを用いても、高速・高精度の
パターン発生・）Ｓ可能ｉこなるなどの効果がある。
ターン発生装置によれば動作周波数に比し１．比較的低
速動作のＤ／Ａコンバータを用いても、高速・高精度の
パターン発生・）Ｓ可能ｉこなるなどの効果がある。
第１図はこの発明に係る二次元パターン発生装置の一実
施例を示むブロク・り図、第２図は第１図１こおける露
光すべき台形およびその座標データを示す図、第３図は
第１図におけるビームスキャンの方向を示す図である。 １・・・・制御用コンピュータ、２・・・・演算回路、
２ａ〜２ｆ・・・・端子、３・・・・カウンタ、４・・
・・Ｄ／Ａコンバータ、５・・・・偏向信号増幅器、６
・・・・偏向装置、７・・・−Ｄ／Ａコンバータ、８・
・・・偏向信号増幅器、９・・・・偏向装置、１０・・
・・比較回路、１１・・・・タイミング回路。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大岩増堆
施例を示むブロク・り図、第２図は第１図１こおける露
光すべき台形およびその座標データを示す図、第３図は
第１図におけるビームスキャンの方向を示す図である。 １・・・・制御用コンピュータ、２・・・・演算回路、
２ａ〜２ｆ・・・・端子、３・・・・カウンタ、４・・
・・Ｄ／Ａコンバータ、５・・・・偏向信号増幅器、６
・・・・偏向装置、７・・・−Ｄ／Ａコンバータ、８・
・・・偏向信号増幅器、９・・・・偏向装置、１０・・
・・比較回路、１１・・・・タイミング回路。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大岩増堆
Claims (1)
- 所定の形状を複数本の線分に分割し、各線分の始点およ
び終点の位置を算出する演算回路と、その始点と終点の
位置に見合うだけのディジタル量の範囲でカウントアツ
プまたはカウントダウンを行なうカウンタと、このカウ
ンタがカウント動作している間だけビーム・オン信号を
発生するタイミング回路と、前記カウンタの出力信号を
荷電ビーム偏向用アナログ信号に変換するＤ／Ａコンバ
ータとを備えたことを特徴とする二次元パターン発生装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58175895A JPS6066427A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 二次元パタ−ン発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58175895A JPS6066427A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 二次元パタ−ン発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6066427A true JPS6066427A (ja) | 1985-04-16 |
Family
ID=16004099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58175895A Pending JPS6066427A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 二次元パタ−ン発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6066427A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016076654A (ja) * | 2014-10-08 | 2016-05-12 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 |
| JP2019117961A (ja) * | 2019-04-25 | 2019-07-18 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 |
-
1983
- 1983-09-21 JP JP58175895A patent/JPS6066427A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016076654A (ja) * | 2014-10-08 | 2016-05-12 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 |
| JP2019117961A (ja) * | 2019-04-25 | 2019-07-18 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 |
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