JP2016076654A - 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 - Google Patents
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Abstract
Description
10 描画部
12 電子ビーム鏡筒
14 電子銃
16 照明レンズ
18 アパーチャ部材
20 ブランキングプレート
22 縮小レンズ
24 制限アパーチャ部材
26 対物レンズ
28 偏向器
30 描画室
32 XYステージ
34 マスクブランク
36 ミラー
50 制御部
52 制御計算機
54、56 偏向制御回路
58 ステージ位置検出器
70 変換装置
80 パターン検査装置
Claims (5)
- マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データをコンピュータに生成させるプログラムであって、
設計データに含まれている多角形図形を、それぞれ少なくとも1組の対辺が第1方向に沿って平行であり、該第1方向と平行な辺を共通辺として該第1方向と直交する第2方向に沿って連結する複数の台形図形に分割するステップと、
第1台形と該第1台形に隣接する第2台形との共通の頂点の位置を、該第2台形と該第2台形に隣接する第3台形との共通の頂点の位置からの前記第1方向及び前記第2方向の変位で表現して、前記描画データを生成するステップと、
を前記コンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。 - 前記描画データは、各台形に対応する属性情報を含むことを特徴とする請求項1に記載のプログラム。
- マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データを生成する描画データ生成方法であって、
設計データに含まれている多角形図形を、それぞれ少なくとも1組の対辺が第1方向に沿って平行であり、該第1方向と平行な辺を共通辺として該第1方向と直交する第2方向に沿って連結する複数の台形図形に分割し、
第1台形と該第1台形に隣接する第2台形との共通の頂点の位置を、該第2台形と該第2台形に隣接する第3台形との共通の頂点の位置からの前記第1方向及び前記第2方向の変位で表現して、前記描画データを生成することを特徴とする描画データ生成方法。 - 複数の荷電粒子ビームからなるマルチビームを形成し、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対して個別にビームのオン/オフを行い、対象物上に荷電粒子ビームを照射してパターンを描画する描画部と、
設計データに含まれている多角形図形を、それぞれ少なくとも1組の対辺が第1方向に沿って平行であり、該第1方向と平行な辺を共通辺として該第1方向と直交する第2方向に沿って連結する複数の台形図形に分割し、第1台形と該第1台形に隣接する第2台形との共通の頂点の位置を、該第2台形と該第2台形に隣接する第3台形との共通の頂点の位置からの前記第1方向及び前記第2方向の変位で表現して描画データを生成し、該描画データに基づいて前記描画部を制御する制御部と、
を備えるマルチ荷電粒子ビーム描画装置。 - 設計データに含まれている多角形図形を、それぞれ少なくとも1組の対辺が第1方向に沿って平行であり、該第1方向と平行な辺を共通辺として該第1方向と直交する第2方向に沿って連結する複数の台形図形に分割し、第1台形と該第1台形に隣接する第2台形との共通の頂点の位置を、該第2台形と該第2台形に隣接する第3台形との共通の頂点の位置からの前記第1方向及び前記第2方向の変位で表現して第1描画データを生成する変換部と、
前記第1描画データと、対象物上に荷電粒子ビームが照射されて描画されたパターンに基づいて作成された第2描画データとを比較し、該パターンの検査を行う検査部と、
を備えるパターン検査装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014207332A JP2016076654A (ja) | 2014-10-08 | 2014-10-08 | 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 |
US14/794,060 US9558315B2 (en) | 2014-10-08 | 2015-07-08 | Method of generating write data, multi charged particle beam writing apparatus, and pattern inspection apparatus |
TW104129795A TWI596642B (zh) | 2014-10-08 | 2015-09-09 | A drawing data generation method, a multi-charged particle beam drawing apparatus, and a pattern inspection apparatus |
KR1020150134579A KR101782335B1 (ko) | 2014-10-08 | 2015-09-23 | 묘화 데이터 생성 방법, 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 및 패턴 검사 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014207332A JP2016076654A (ja) | 2014-10-08 | 2014-10-08 | 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019084261A Division JP6717406B2 (ja) | 2019-04-25 | 2019-04-25 | 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016076654A true JP2016076654A (ja) | 2016-05-12 |
JP2016076654A5 JP2016076654A5 (ja) | 2017-08-31 |
Family
ID=55655622
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014207332A Pending JP2016076654A (ja) | 2014-10-08 | 2014-10-08 | 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9558315B2 (ja) |
JP (1) | JP2016076654A (ja) |
KR (1) | KR101782335B1 (ja) |
TW (1) | TWI596642B (ja) |
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- 2014-10-08 JP JP2014207332A patent/JP2016076654A/ja active Pending
-
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- 2015-07-08 US US14/794,060 patent/US9558315B2/en active Active
- 2015-09-09 TW TW104129795A patent/TWI596642B/zh active
- 2015-09-23 KR KR1020150134579A patent/KR101782335B1/ko active IP Right Grant
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20160041765A (ko) | 2016-04-18 |
US9558315B2 (en) | 2017-01-31 |
TWI596642B (zh) | 2017-08-21 |
TW201626422A (zh) | 2016-07-16 |
KR101782335B1 (ko) | 2017-09-27 |
US20160103945A1 (en) | 2016-04-14 |
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