JP2009111116A - 描画装置 - Google Patents

Abstract

【課題】描画データの示す描画パターンと設計データの示す描画パターンとの相違点を描画前に発見および修正し、両者の示す描画パターンが一致したことを確認した後に描画する描画装置を得る。
【解決手段】比較処理はステップＳ２０５からステップＳ２１６までのステップから成る。ステップＳ２０５では、描画データ変換装置が描画データを描画画像データに変換する。次にステップＳ２０６において自己比較か異種比較かが判断される。異種比較を行う場合、データ入力装置から入力された比較用設計データを第２の設計データ変換手段が変換して比較画像データを作成する。ステップＳ２１３では、表示画面上に表示された描画画像データおよび比較画像データをユーザが参照し、両者の相違点を修正することが必要であるとき、所望の描画パターンとなるように描画画像データを修正し、修正描画画像データを得る。
【選択図】図２

Description

本発明は、設計データを変換して得られる描画データを用いて被描画体に描画パターンを描画する描画装置及び描画方法に関する。

描画装置は描画データを用いて被描画体に描画パターンを描画する。描画データは、描画装置に入力された設計データを変換することにより作成される。ユーザは設計ソフトウェアを用いて設計データを作成する。設計データは設計ソフトウェアに応じたフォーマット（記述書式）で記述される。フォーマットには設計ソフトウェアに応じた様々な種類があるため、設計データから描画データへの変換は設計データのフォーマットに応じて行われる。

この変換において、設計データが想定外のフォーマットを使用している等の理由により変換ミスが生じて、描画データの示す描画パターンが設計データの示す描画パターンと完全に一致しない可能性がある。両者の描画パターンが一致しない被描画体は不良品として排除する必要がある。そのため、描画後に被描画体に描画済みの描画パターンと、設計データの示す描画パターンとを比較することにより、設計データの示す描画パターンと描画済みの描画パターンとが一致しているか否かを確認する構成が知られている（特許文献１）。
特開２００７−７１６２９号公報

しかし、このような構成において、描画済みの描画パターンが設計データの示す描画パターンと一致しないとき、描画済みの被描画体を廃棄して新しい被描画体に再度描画を行う必要がある。被描画体は高価であるため、被描画体の廃棄は極力抑制しなければならない。また、描画装置は一定時間当たり多くの描画を行うことが要求されるため、再度描画を行って時間当たりの描画枚数が減少することは好ましくない。

本発明はこの問題を解決するものであり、描画データの示す描画パターンと設計データの示す描画パターンとの相違点を描画前に発見および修正し、ユーザの意図する描画パターンを描画する描画装置を得ることを目的とする。

本願第１の発明による描画装置は、描画パターンを表す設計データに応じて描画データを作成する第１の設計データ変換手段と、描画データに応じて描画画像データを作成する描画データ変換手段と、設計データに応じて比較画像データを作成する第２の設計データ変換手段と、描画画像データと比較画像データとを比較する第１の比較手段と、描画データを用いて被描画体に描画パターンを描画する描画手段とを備え、第１の比較手段は、描画手段が描画する前に描画画像データと比較画像データとを比較することを特徴とする。

設計データは１つの描画パターンを各々異なるフォーマットを用いて表す複数の設計データからなり、第２の設計データ変換手段は、描画データが作成された設計データとは異なるフォーマットで同じ描画パターンを表した設計データに応じて比較画像データを作成するものであってもよい。異なるフォーマットの設計データから作成された画像データを用いて比較を行うことにより、比較精度の向上を図ることができる。

第１の比較手段は描画画像データと比較画像データとを表示する表示手段を備え、描画装置は、表示手段に表示された描画画像データを修正する第１の修正手段をさらに備えることが望ましい。これにより、描画画像データと比較画像データとの相違点を修正することが可能になる。

第１の比較手段は描画画像データと比較画像データとを表示する表示手段を備え、描画データ変換手段は、描画データをビットマップからなる描画画像データに変換し、第２の設計データ変換手段は、設計データをビットマップからなる比較画像データに変換し、第１の比較手段は表示手段に表示された描画画像データと比較画像データとを比較するものであってもよい。これによりユーザは相違点を自ら確認することができる。

第１の比較手段による比較の後かつ描画手段による描画の前に描画画像データと比較画像データとを比較する第２の比較手段と、第２の比較手段による比較の結果、描画画像データと比較画像データとが異なる場合、描画画像データにおける異なる部位が比較画像データと同じになるように、描画画像データを修正する第２の修正手段とをさらに備えてもよい。第１の比較手段による比較後にさらに比較を行うことによって、比較精度の向上を図ることができる。

第１の設計データ変換手段は、修正された描画画像データを描画データに変換することが好ましい。これにより、修正された描画画像データを描画に用いることが可能になる。

描画データ変換手段は、描画データをビットマップからなる描画画像データに変換し、第２の設計データ変換手段は、設計データをビットマップからなる比較画像データに変換するように構成されても良い。

本願第２の発明による描画方法は、描画パターンを表す設計データに応じて描画データを作成するステップと、描画データに応じて描画画像データを作成するステップと、設計データに応じて比較画像データを作成するステップと、描画画像データを比較画像データと比較する画像データ比較ステップと、画像データ比較ステップによる比較後に描画データを用いて被描画体に描画パターンを描画する描画ステップとを備えることを特徴とする。１種類のフォーマットによる設計データのみしか用意できない場合であっても、画像データの比較を行うことが可能になる。

本願第３の発明による描画方法は、１つの描画パターンを各々異なるフォーマットを用いて表す複数の設計データが供給されるステップと、設計データに応じて描画データを作成するステップと、描画データに応じて描画画像データを作成するステップと、描画データが作成された設計データとは異なる設計データに応じて比較画像データを作成するステップと、描画画像データを比較画像データと比較する画像データ比較ステップと、画像データ比較ステップによる比較後に描画データを用いて被描画体に描画パターンを描画する描画ステップとを備えることを特徴とする。異なるフォーマットの設計データから作成された画像データを用いて比較することにより、比較精度の向上を図ることができる。

本発明によれば、描画データの示す描画パターンと設計データの示す描画パターンとの相違点を描画前に発見および修正し、ユーザの意図する描画パターンを描画する描画装置を得る。

以下、本発明の一実施形態について添付図面を参照して説明する。図１は本発明のシステムの概略を示したブロック図である。図２は本発明の比較手段を備える描画装置の一実施形態を示した図である。

図１において、描画装置１０は、描画装置１０の動作を制御するシステムコントローラ１１と、システムコントローラ１１に接続される複数の装置、すなわちデータ入力装置１２、記憶装置１３、第１の設計データ変換装置１４、第２の設計データ変換装置１５、描画データ変換装置１６、描画部１７、操作装置１８、および表示装置２０から主に構成される。システムコントローラ１１は、データ入力装置１２に入力された描画用または比較用設計データを記憶装置１３に記憶する。描画実行時に、システムコントローラ１１は記憶装置１３から描画用設計データを読み出し、第１の設計データ変換装置１４に送信する。第１の設計データ変換装置１４は受信した描画用設計データを描画データに変換し、描画データをシステムコントローラ１１に送信する。描画部１７はシステムコントローラ１１から描画データを受け取り、被描画体に描画を行う。

第２の設計データ変換装置１５は、描画用または比較用設計データを比較画像データに変換する。描画データ変換装置１６は描画データを描画画像データに変換する。

システムコントローラ１１に接続された表示装置２０は、第１の設計データ変換装置１４、第２の設計データ変換装置１５、および描画データ変換装置１６が作成した画像データを表示する。操作装置１８は、例えばマウスやキーボードである。ユーザは、操作装置１８を操作して、表示装置２０に表示された画像を修正する指示をシステムコントローラ１１に送信する。システムコントローラ１１は受信した指示に従って画像データを修正する。

次に本発明による描画処理について、図２および３を用いて説明する。描画処理はユーザの指示により開始する。

ステップＳ２０１では、描画に用いられる描画用設計データがデータ入力装置１２に入力され、記憶装置１３に記憶される。この描画用設計データのフォーマットは、例えばＰＦＤ、ＤＰＦ、ＯＤＢ＋＋、ＲＳ２７４―Ｘ、ストリーム、ＤＸＦである。

ステップＳ２０２では、システムコントローラ１１が記憶装置１３から描画用設計データを読み出す。読み出された描画用設計データは第１の設計データ変換装置１４に送信される。第１の設計データ変換装置１４は描画用設計データを描画データに変換し、システムコントローラ１１に送信する。

ステップＳ２０３では、後述する比較処理を実行するか否かが選択される。例えば表示装置２０に比較処理を実行するか否かを選択するための表示がなされ、ユーザが操作装置１８を用いていずれかを選択する。比較処理を実行しないことが選択された場合、処理はステップＳ２０４に進み、ステップＳ２０２において作成された描画データを用いて描画が実行される。比較処理の実行が選択された場合、処理はステップＳ２０５に進む。

次に比較処理について説明する。比較処理はステップＳ２０５からステップＳ２１６までのステップから成る。

ステップＳ２０５では、描画データ変換装置１６が描画データを描画画像データに変換する。描画画像データは、例えば狭義のビットマップデータ（ＢＭＰフォーマットデータ）から成る。

次にステップＳ２０６において自己比較か異種比較かが判断される。自己比較は、１つのフォーマットで表された描画用設計データから作成された比較画像データと、その描画用設計データから作成された描画データを変換することにより作成された描画画像データとを比較するものである。異種比較は、１つの描画パターンを２種類のフォーマットで各々表した２つの設計データからそれぞれ作成された２つの画像データどうしを比較するものである。２つの設計データは描画用および比較用設計データから成り、描画用設計データから描画画像データが作成され、比較用設計データから比較画像データが作成される。

異種比較を行う場合、処理はステップＳ２２１に進む。ステップＳ２２１では、データ入力装置１２から比較用設計データが入力され、記憶装置１３に記憶される。比較用設計データは、描画用設計データと同じ描画パターンを描画用設計データと異なるフォーマットで表した設計データである。本発明による描画装置１０とは異なる装置（図示しない）が、描画用設計データとは別に作成、又はソフトウェア等を用いて描画用設計データを変換することにより比較用設計データを作成する。

なお、このとき、描画装置１０が描画用設計データを変換することにより比較用設計データを作成しても良い。

次のステップＳ２２２では、第２の設計データ変換手段１５が比較用設計データを変換して比較画像データを作成する。比較画像データは、例えば狭義のビットマップデータ（ＢＭＰフォーマットデータ）から成る。そして、処理はステップＳ２１２に進む。

ステップＳ２０６において自己比較が選択されたとき、処理はステップＳ２１１に進む。ステップＳ２１１では、第２の設計データ変換手段１５が描画用設計データを変換して比較画像データを作成する。そして、処理はステップＳ２１２に進む。

ステップＳ２１２では、描画画像データと比較画像データとが表示装置２０の表示画面２１上に同時に並べられて表示される（図３参照）。

ステップＳ２１３では、ユーザは表示画面２１上に表示された描画画像データ３１および比較画像データ３２を参照して、双方に相違点があるか否かを確認する。図３に示される描画画像データ３１と比較画像データ３２とを比較すると、描画画像データ３１において「×」により示される部分３３が欠落している点で両者は相違する。このように描画画像データ３１と比較画像データ３２とが相違し、その相違を修正することが必要であるとユーザが判断したとき、ユーザは操作装置１８を操作して次のステップに処理を進める。

ステップＳ２１４では、ユーザが操作装置１８を操作して、所望の描画パターンとなるように描画画像データ３１を修正し、修正描画画像データを得る。例えば、描画画像データ３１において欠落した部分３３をマウスでクリックすることにより描画パターンを補う。修正が終了すると、ユーザは操作手段を操作して次のステップＳ２１７に処理を進める。

次のステップＳ２１７では、システムコントローラ１１が修正描画画像データを第１の設計データ変換装置１４に送信する。第１の設計データ変換装置１４は修正描画画像データを受信して、修正描画画像データを描画データに変換する。そして、再度ステップＳ２０３から処理が反復される。

ステップＳ２１３において、ユーザが描画および比較画像データに相違点がないと判断したとき、処理はステップＳ２１５に進む。

ステップＳ２１５では、システムコントローラ１１が描画画像データと比較画像データとを比較して、相違点があるか否かを判断する。判断は、描画および比較画像データの各ピクセルが有するデータをピクセル毎に比較することによりなされる。相違点がない場合、処理はステップＳ２０４に進み、描画が実行される。相違点がある場合、処理はステップＳ２１６に進む。

ステップＳ２１６では、システムコントローラ１１が描画画像データにおける比較画像データとの相違点を修正し、修正描画画像データを得る。例えば、比較画像データに存在する描画パターンが描画画像データに存在しない場合、システムコントローラ１１は描画画像データにおいて対応する位置に描画パターンを補う。修正が終了すると、処理はステップＳ２１７に進む。

ステップＳ２１７では、システムコントローラ１１が修正描画画像データを第１の設計データ変換装置１４に送信する。第１の設計データ変換装置１４は修正描画画像データを受信して、修正描画画像データを描画データに変換する。そして、再度ステップＳ２０３から処理が反復される。

これにより、描画データの示す描画パターンと設計データの示す描画パターンとの相違点を描画前に発見および修正して、被描画体の無駄を抑えるとともに、描画装置の時間当たりの描画枚数を増やすことが可能となる。

なお、ステップＳ２０５およびＳ２２２において、描画画像データおよび比較画像データは、狭義のビットマップデータから成るものでなくても良く、ラスタデータから成るものでも良い。

本発明の一実施形態である描画装置の構成を示すブロック図である。 比較手段を示すフローチャートである。 表示画面上に表示された描画画像データと比較画像データとを示した図である。

符号の説明

１０ 描画装置
１１ システムコントローラ
１２ データ入力装置
１３ 記憶装置
１４ 第１の設計データ変換装置
１５ 第２の設計データ変換装置
１６ 描画データ変換装置
１７ 描画部
１８ 操作装置
２０ 表示装置
２１ 表示画面
３１ 描画画像データ
３２ 比較画像データ

Claims (9)

1. 描画パターンを表す設計データに応じて描画データを作成する第１の設計データ変換手段と、
   前記描画データに応じて描画画像データを作成する描画データ変換手段と、
   前記設計データに応じて比較画像データを作成する第２の設計データ変換手段と、
   前記描画画像データと前記比較画像データとを比較する第１の比較手段と、
   前記描画データを用いて被描画体に前記描画パターンを描画する描画手段とを備え、
   前記第１の比較手段は、前記描画手段が描画する前に前記描画画像データと前記比較画像データとを比較する描画装置。
2. 前記設計データは１つの描画パターンを各々異なるフォーマットを用いて表す複数の設計データからなり、
   前記第２の設計データ変換手段は、前記描画データが作成された設計データとは異なるフォーマットで同じ描画パターンを表した設計データに応じて比較画像データを作成する請求項１に記載の描画装置。
3. 前記第１の比較手段は前記描画画像データと前記比較画像データとを表示する表示手段を備え、
   前記描画装置は、前記表示手段に表示された前記描画画像データを修正する第１の修正手段をさらに備える請求項１に記載の描画装置。
4. 前記第１の比較手段は前記描画画像データと前記比較画像データとを表示する表示手段を備え、
   前記描画データ変換手段は、前記描画データをビットマップからなる前記描画画像データに変換し、
   前記第２の設計データ変換手段は、前記設計データをビットマップからなる前記比較画像データに変換し、
   前記第１の比較手段は前記表示手段に表示された前記描画画像データと前記比較画像データとを比較する請求項１に記載の描画装置。
5. 前記第１の比較手段による比較の後かつ前記描画手段による描画の前に前記描画画像データと前記比較画像データとを比較する第２の比較手段と、
   前記第２の比較手段による比較の結果、前記描画画像データと前記比較画像データとが異なる場合、前記描画画像データにおける異なる部位が前記比較画像データと同じになるように、前記描画画像データを修正する第２の修正手段とをさらに備える請求項１に記載の描画装置。
6. 前記第１の設計データ変換手段は、修正された前記描画画像データを描画データに変換する請求項３または５に記載の描画装置。
7. 前記描画データ変換手段は、前記描画データをビットマップからなる前記描画画像データに変換し、
   前記第２の設計データ変換手段は、前記設計データをビットマップからなる前記比較画像データに変換する請求項５に記載の描画装置。
8. 描画パターンを表す設計データに応じて描画データを作成するステップと、
   前記描画データに応じて描画画像データを作成するステップと、
   前記設計データに応じて比較画像データを作成するステップと、
   前記描画画像データを前記比較画像データと比較する画像データ比較ステップと、
   前記画像データ比較ステップによる比較後に前記描画データを用いて被描画体に前記描画パターンを描画する描画ステップとを備える描画方法。
9. １つの描画パターンを各々異なるフォーマットを用いて表す複数の設計データが供給されるステップと、
   前記設計データに応じて描画データを作成するステップと、
   前記描画データに応じて描画画像データを作成するステップと、
   前記描画データが作成された設計データとは異なる設計データに応じて比較画像データを作成するステップと、
   前記描画画像データを前記比較画像データと比較する画像データ比較ステップと、
   前記画像データ比較ステップによる比較後に前記描画データを用いて被描画体に前記描画パターンを描画する描画ステップとを備える描画方法。

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