JPH04214667A - マスタースライス方式半導体集積回路装置 - Google Patents
マスタースライス方式半導体集積回路装置Info
- Publication number
- JPH04214667A JPH04214667A JP40183590A JP40183590A JPH04214667A JP H04214667 A JPH04214667 A JP H04214667A JP 40183590 A JP40183590 A JP 40183590A JP 40183590 A JP40183590 A JP 40183590A JP H04214667 A JPH04214667 A JP H04214667A
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- Pending
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
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- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はマスタースライス方式の
半導体集積回路装置の改良に関する。
半導体集積回路装置の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体集積回路装置は、多品種少
量生産の傾向にあると共に、開発や製造期間の短縮が求
められている。このため、半導体基板上へのトランジス
タ素子の形成工程までを済ませた,いわゆるマスターを
予め準備しておき、その後の配線工程のみを行って所望
の半導体集積回路装置を構成している。つまり、マスタ
ースライス方式の半導体集積回路装置の需要が拡大して
来ている。
量生産の傾向にあると共に、開発や製造期間の短縮が求
められている。このため、半導体基板上へのトランジス
タ素子の形成工程までを済ませた,いわゆるマスターを
予め準備しておき、その後の配線工程のみを行って所望
の半導体集積回路装置を構成している。つまり、マスタ
ースライス方式の半導体集積回路装置の需要が拡大して
来ている。
【0003】ところで、従来の一般的なマスタースライ
ス方式の半導体集積回路装置は、トランジスタ素子形成
工程までを済ませたマスタースライス上に、セルを任意
に配置し、配線を行うことによって所望の半導体集積回
路装置を得ていた。
ス方式の半導体集積回路装置は、トランジスタ素子形成
工程までを済ませたマスタースライス上に、セルを任意
に配置し、配線を行うことによって所望の半導体集積回
路装置を得ていた。
【0004】上記従来のマスタースライス方式によって
任意の半導体集積回路を実現する配線例を第2図に示す
。同図において、1は半導体基板、2は基本セル領域、
3は配線領域、4〜11は論理機能セル、4a〜4c、
5a〜8a、10a〜10cは上記論理機能セル4〜1
1上の端子、12は論理機能セル4〜11内のフィード
スルー、13〜30は配線ピッチ、31〜34は配線で
ある。上記第2図では、半導体基板1上に基本セル領域
2と配線領域3とを交互に配置している。また、例えば
配線32は、2つの論理機能セル4及び10を相互に接
続する場合に、その間に位置する2つの論理機能セル6
及び8内のフィードスルー12を使用して、論理機能セ
ル4,10の端子4aと端子10aとを接続している。 更に、配線34は、2つの論理機能セル5及び10を相
互に接続する場合に、その間に位置する2つの論理機能
セル7及び8内のフィードスルー12を使用して、論理
機能セル5,10の端子5aと端子10bとを接続して
いる。
任意の半導体集積回路を実現する配線例を第2図に示す
。同図において、1は半導体基板、2は基本セル領域、
3は配線領域、4〜11は論理機能セル、4a〜4c、
5a〜8a、10a〜10cは上記論理機能セル4〜1
1上の端子、12は論理機能セル4〜11内のフィード
スルー、13〜30は配線ピッチ、31〜34は配線で
ある。上記第2図では、半導体基板1上に基本セル領域
2と配線領域3とを交互に配置している。また、例えば
配線32は、2つの論理機能セル4及び10を相互に接
続する場合に、その間に位置する2つの論理機能セル6
及び8内のフィードスルー12を使用して、論理機能セ
ル4,10の端子4aと端子10aとを接続している。 更に、配線34は、2つの論理機能セル5及び10を相
互に接続する場合に、その間に位置する2つの論理機能
セル7及び8内のフィードスルー12を使用して、論理
機能セル5,10の端子5aと端子10bとを接続して
いる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の構成では、次に端子6aと端子8aとを接続する場
合には、配線領域3の配線ピッチ27は既に配線32に
より使用され、配線ピッチ28は既に配線34により使
用されているので、その接続が困難である。また、フィ
ードスルー12の位置が各論理機能セル4〜11で異な
るために、配線が遠回りして配線長が長くなり、配線作
業のスピード性能が悪くなるという問題がある。さらに
、配線数が多い場合には、未配線が生じるという問題が
ある。
来の構成では、次に端子6aと端子8aとを接続する場
合には、配線領域3の配線ピッチ27は既に配線32に
より使用され、配線ピッチ28は既に配線34により使
用されているので、その接続が困難である。また、フィ
ードスルー12の位置が各論理機能セル4〜11で異な
るために、配線が遠回りして配線長が長くなり、配線作
業のスピード性能が悪くなるという問題がある。さらに
、配線数が多い場合には、未配線が生じるという問題が
ある。
【0006】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
であり、その目的は、配線数が増加しても未配線が起り
難いと共に配線作業の能率化を図ったマスタースライス
方式の半導体集積回路装置を提供することにある。
であり、その目的は、配線数が増加しても未配線が起り
難いと共に配線作業の能率化を図ったマスタースライス
方式の半導体集積回路装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、基本セル内のフィードスルーの位置を各
論理機能セルで共通にすることとする。
め、本発明は、基本セル内のフィードスルーの位置を各
論理機能セルで共通にすることとする。
【0008】つまり、本発明の具体的な解決手段は、単
一又は複数の基本セルを基準に少くとも2層配線を付加
して複数の論理機能セルを作成する場合に、上記各基本
セルに、該各基本セルの潜在的なトランジスタと平行す
る方向の配線トラックの一部に2層目の金属配線を使用
しないフィードスルートラックを設け、該各フィードス
ルートラックの上記各基本セル内の位置を、各論理機能
セル間で共通にする構成としている。
一又は複数の基本セルを基準に少くとも2層配線を付加
して複数の論理機能セルを作成する場合に、上記各基本
セルに、該各基本セルの潜在的なトランジスタと平行す
る方向の配線トラックの一部に2層目の金属配線を使用
しないフィードスルートラックを設け、該各フィードス
ルートラックの上記各基本セル内の位置を、各論理機能
セル間で共通にする構成としている。
【0009】
【作用】上記の構成により、本発明では、各論理機能セ
ルのフィードスルーが直線上に並んでいるので、複数の
セル列を跨いで配線する場合に、フィードスルーを通る
配線を途中で折り曲げる必要がなくなる。このことによ
り、途中の直交方向の配線チャネルを無駄に使用するこ
となく配線できるので、配線長を短縮できると共に、配
線数が多い場合にも未配線を起し難く、また配線作業を
短期間で行い得てその能率化を図ることができる。
ルのフィードスルーが直線上に並んでいるので、複数の
セル列を跨いで配線する場合に、フィードスルーを通る
配線を途中で折り曲げる必要がなくなる。このことによ
り、途中の直交方向の配線チャネルを無駄に使用するこ
となく配線できるので、配線長を短縮できると共に、配
線数が多い場合にも未配線を起し難く、また配線作業を
短期間で行い得てその能率化を図ることができる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基いて説明す
る。第1図は本発明のマスタースライス方式半導体集積
回路装置の配線を示す。同図において、1は半導体基板
、2は基本セル列領域、3は配線領域、36,36…は
基本セル、4〜11は論理機能セルであって、その一部
の論理機能セル4,7,8及び10は2個の基本セル3
6を基準に作成され、他の論理機能セル5,6,9及び
11は単一の基本セル36を基準に作成されている。 また、同図において、4a〜4c,5a〜8a,10a
〜10cは論理機能セル4〜11上の端子、12…は各
基本セル36…の潜在的なトランジスタと平行する方向
の配線トラックの一部に設けられた,2層目の金属配線
を使用しないフィードスルートラックである。さらに、
13〜30は各基本セル36毎に2層配線を採るように
設けた配線グリッド、31〜35は配線である。
る。第1図は本発明のマスタースライス方式半導体集積
回路装置の配線を示す。同図において、1は半導体基板
、2は基本セル列領域、3は配線領域、36,36…は
基本セル、4〜11は論理機能セルであって、その一部
の論理機能セル4,7,8及び10は2個の基本セル3
6を基準に作成され、他の論理機能セル5,6,9及び
11は単一の基本セル36を基準に作成されている。 また、同図において、4a〜4c,5a〜8a,10a
〜10cは論理機能セル4〜11上の端子、12…は各
基本セル36…の潜在的なトランジスタと平行する方向
の配線トラックの一部に設けられた,2層目の金属配線
を使用しないフィードスルートラックである。さらに、
13〜30は各基本セル36毎に2層配線を採るように
設けた配線グリッド、31〜35は配線である。
【0011】上記各基本セル36…のフィードスルート
ラック12の位置は固定されている。つまり、各基本セ
ル36において、基本セル36内の基本トランジスタ形
成部である図中右端とされていて、各フィードスルート
ラック12の位置は、各論理機能セル4〜11の間で共
通となっている。
ラック12の位置は固定されている。つまり、各基本セ
ル36において、基本セル36内の基本トランジスタ形
成部である図中右端とされていて、各フィードスルート
ラック12の位置は、各論理機能セル4〜11の間で共
通となっている。
【0012】次に、以上のように構成されたマスタース
ライス方式半導体集積回路装置の配線について、その構
成を説明する。
ライス方式半導体集積回路装置の配線について、その構
成を説明する。
【0013】論理機能セル4上の端子4aは、配線グリ
ッド15,26及び18を通る配線31によって論理機
能セル7上の端子7aと接続されている。また、論理機
能セル4上の端子4bは、配線グリッド16,25,1
7,30及び15を順に通って論理機能セル6及び8の
フィードスルートラック12を一直線上に通過する配線
32によって論理機能セル10上の端子10aと接続さ
れている。同様にして、論理機能セル5上の端子5aは
配線グリッド21,25,20,29及び18を順に通
って論理機能セル7と8のフィードスルートラック12
を一直線上に通過する配線34によって論理機能セル1
0上の端子10bと接続されている。加えて、論理機能
セル4上の端子4cも、配線グリッド19,26,23
,30及び19を順に通って論理機能セル7及び9のフ
ィードスルートラック12を一直線上に通過する配線3
3によって論理機能セル10上の端子10cと接続され
ている。また、論理機能セル6上の端子6aも、配線グ
リッド15,27及び19を順に通って論理機能セル8
上の端子8aと接続されている。
ッド15,26及び18を通る配線31によって論理機
能セル7上の端子7aと接続されている。また、論理機
能セル4上の端子4bは、配線グリッド16,25,1
7,30及び15を順に通って論理機能セル6及び8の
フィードスルートラック12を一直線上に通過する配線
32によって論理機能セル10上の端子10aと接続さ
れている。同様にして、論理機能セル5上の端子5aは
配線グリッド21,25,20,29及び18を順に通
って論理機能セル7と8のフィードスルートラック12
を一直線上に通過する配線34によって論理機能セル1
0上の端子10bと接続されている。加えて、論理機能
セル4上の端子4cも、配線グリッド19,26,23
,30及び19を順に通って論理機能セル7及び9のフ
ィードスルートラック12を一直線上に通過する配線3
3によって論理機能セル10上の端子10cと接続され
ている。また、論理機能セル6上の端子6aも、配線グ
リッド15,27及び19を順に通って論理機能セル8
上の端子8aと接続されている。
【0014】ここに、各基本セル内36…のフィードス
ルートラック12の位置が各論理機能セル4〜11で共
通となっているので、各論理機能セル4〜11のフィー
ドスルートラック12が一直線上に並ぶ。このことによ
り、フィードスルートラック12を通る配線が一直線と
なるので、使用する配線グリッドの数が低減されるとと
もに、配線長も短く未配線が起り難いマスタースライス
方式の半導体集積回路装置が実現できる。
ルートラック12の位置が各論理機能セル4〜11で共
通となっているので、各論理機能セル4〜11のフィー
ドスルートラック12が一直線上に並ぶ。このことによ
り、フィードスルートラック12を通る配線が一直線と
なるので、使用する配線グリッドの数が低減されるとと
もに、配線長も短く未配線が起り難いマスタースライス
方式の半導体集積回路装置が実現できる。
【0015】尚、上記実施例では、フィードスルートラ
ック12の位置を基本セル36の右端としたが、各論理
機能セル4〜11で共通であれば基本セル36内のフィ
ードスルートラック12の位置は任意でよい。また、上
記実施例では、基本セル36の単位を3グリッド当てと
し、その1グリッド分をフィードスルートラックとした
が、基本セルの単位をn(n≧2,nは整数)グリッド
分とし、その中の1グリッド分をフィードスルートラッ
クとしても上記と同様の効果が得られる。
ック12の位置を基本セル36の右端としたが、各論理
機能セル4〜11で共通であれば基本セル36内のフィ
ードスルートラック12の位置は任意でよい。また、上
記実施例では、基本セル36の単位を3グリッド当てと
し、その1グリッド分をフィードスルートラックとした
が、基本セルの単位をn(n≧2,nは整数)グリッド
分とし、その中の1グリッド分をフィードスルートラッ
クとしても上記と同様の効果が得られる。
【0016】さらに、上記実施例では、全ての論理機能
セル4〜11においてフィードスルートラック12の位
置を共通として説明したが、必ずしも全ての論理機能セ
ル4〜11で共通である必要はなく、使用頻度の高い論
理機能セルに対して共通にする等の実施例においても同
様の効果が得られる。
セル4〜11においてフィードスルートラック12の位
置を共通として説明したが、必ずしも全ての論理機能セ
ル4〜11で共通である必要はなく、使用頻度の高い論
理機能セルに対して共通にする等の実施例においても同
様の効果が得られる。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基本セル内のフィードスルートラックの位置を各論理機
能セル間で共通にしたので、未配線を起こし難いと共に
、配線長が短くて済んで横方向配線チャネルを低減する
ことができる。よって、短期間でハイスピード且つ確実
な開発が可能となると共に、チップサイズが小さく且つ
低コストなマスタースライス方式半導体集積回路装置を
実現できるという効果を有する。
基本セル内のフィードスルートラックの位置を各論理機
能セル間で共通にしたので、未配線を起こし難いと共に
、配線長が短くて済んで横方向配線チャネルを低減する
ことができる。よって、短期間でハイスピード且つ確実
な開発が可能となると共に、チップサイズが小さく且つ
低コストなマスタースライス方式半導体集積回路装置を
実現できるという効果を有する。
【図1】本発明の実施例を示すマスタースライス方式半
導体集積回路装置の配線の平面図である。
導体集積回路装置の配線の平面図である。
【図2】従来のマスタースライス半導体集積回路装置の
配線の平面図である。
配線の平面図である。
2 基本セル列領域3
配線領域 4〜11 論理機能セル 12 フィードスルートラック13
〜30 配線グリッド 31〜35 配線 36 基本セル
配線領域 4〜11 論理機能セル 12 フィードスルートラック13
〜30 配線グリッド 31〜35 配線 36 基本セル
Claims (2)
- 【請求項1】単一又は複数の基本セルを基準に少くとも
2層配線が付加されて作成された複数の論理機能セルを
備え、上記各基本セルには、該各基本セルの潜在的なト
ランジスタと平行する方向の配線トラックの一部に2層
目の金属配線を使用しないフィードスルートラックが設
けられていて、該各フィードスルートラックの上記各基
本セル内の位置は、各論理機能セル間で共通であること
を特徴とするマスタースライス方式半導体集積回路装置
。 - 【請求項2】フィードスルートラックは、基本セル内の
基本トランジスタ形成部に設けられていることを特徴と
する請求項1記載のマスタースライス方式半導体集積回
路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40183590A JPH04214667A (ja) | 1990-12-13 | 1990-12-13 | マスタースライス方式半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40183590A JPH04214667A (ja) | 1990-12-13 | 1990-12-13 | マスタースライス方式半導体集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04214667A true JPH04214667A (ja) | 1992-08-05 |
Family
ID=18511658
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP40183590A Pending JPH04214667A (ja) | 1990-12-13 | 1990-12-13 | マスタースライス方式半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04214667A (ja) |
-
1990
- 1990-12-13 JP JP40183590A patent/JPH04214667A/ja active Pending
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