JPH04211263A - 現像方法 - Google Patents
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- JPH04211263A JPH04211263A JP2328891A JP2328891A JPH04211263A JP H04211263 A JPH04211263 A JP H04211263A JP 2328891 A JP2328891 A JP 2328891A JP 2328891 A JP2328891 A JP 2328891A JP H04211263 A JPH04211263 A JP H04211263A
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は感光材料の現像方法に関
し、更に詳しくは、液体により現像される感光材料の解
像度、画像精度等を向上させる現像方法に関する。
し、更に詳しくは、液体により現像される感光材料の解
像度、画像精度等を向上させる現像方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】感光性樹脂組成物等の感光材料から形成
される皮膜は、フォトレジストとしてプリント配線板製
造に使用されたり、レリーフとして印刷刷版に使用され
ている。これら感光材料は、基板上に液体として塗布さ
れたり、フィルムとして積層された後、活性光により画
像的に露光され、次いで、液体を用い現像されて残存し
た像を所望の用途に用いている。
される皮膜は、フォトレジストとしてプリント配線板製
造に使用されたり、レリーフとして印刷刷版に使用され
ている。これら感光材料は、基板上に液体として塗布さ
れたり、フィルムとして積層された後、活性光により画
像的に露光され、次いで、液体を用い現像されて残存し
た像を所望の用途に用いている。
【０００３】感光材料としては、活性光照射により現像
液に不溶化するネガ型、活性光照射により現像液に溶解
するポジ型があり、また現像液として有機溶剤を用いる
溶剤現像型アルカリ水溶液を用いるアルカリ現像型、有
機溶剤とアルカリ水溶液の混合液を用いる半溶剤現像型
等、各種の感光材料がある。
液に不溶化するネガ型、活性光照射により現像液に溶解
するポジ型があり、また現像液として有機溶剤を用いる
溶剤現像型アルカリ水溶液を用いるアルカリ現像型、有
機溶剤とアルカリ水溶液の混合液を用いる半溶剤現像型
等、各種の感光材料がある。
【０００４】従来、この現像方法としては、現像液に浸
漬する方法、更に浸漬中に揺動や超音波を加えたりする
方法、あるいは極く一般的な方法として現像液とスプレ
ー噴射する方法がある。
漬する方法、更に浸漬中に揺動や超音波を加えたりする
方法、あるいは極く一般的な方法として現像液とスプレ
ー噴射する方法がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、近年、特にフ
ォトレジストの分野では形成されるフォトレジスト像は
、プリント配線板の高密度化に伴い非常に高精度である
ことが要求されており、従来の現像方法では、高解像度
の像が得にくく対応が困難な状況になってきている。 例えば、細い間隙の部分を現像で除去しようとした場合
に除去しきれなかったり、あるいは、像の壁と基体の接
点において、像の壁は基体に対し直角であるのが望まし
いのに対し、像にすそ引きを生じたりする。
ォトレジストの分野では形成されるフォトレジスト像は
、プリント配線板の高密度化に伴い非常に高精度である
ことが要求されており、従来の現像方法では、高解像度
の像が得にくく対応が困難な状況になってきている。 例えば、細い間隙の部分を現像で除去しようとした場合
に除去しきれなかったり、あるいは、像の壁と基体の接
点において、像の壁は基体に対し直角であるのが望まし
いのに対し、像にすそ引きを生じたりする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な従来現像法の問題点を改善するため検討した結果、感
光材料の解像度を向上させ、画像精度と向上させる現像
方法を見い出し本発明に至った。
な従来現像法の問題点を改善するため検討した結果、感
光材料の解像度を向上させ、画像精度と向上させる現像
方法を見い出し本発明に至った。
【０００７】即ち本発明は、液体により現像される感光
材料の現像において、現像工程において気体を現像面に
噴流させることを特徴とする現像方法に関する。
材料の現像において、現像工程において気体を現像面に
噴流させることを特徴とする現像方法に関する。
【０００８】以下、本発明を詳述する。本発明における
液体は、感光材料を現像する現像液である。現像液は、
感光材料に対応する公知のものを用いることができるが
、環境面等からアルカリ性水溶液が好ましい。
液体は、感光材料を現像する現像液である。現像液は、
感光材料に対応する公知のものを用いることができるが
、環境面等からアルカリ性水溶液が好ましい。
【０００９】本発明における現像とは、一般にフォトレ
ジスト分野で言う現像と同じ意味であり、ネガ型の感光
材料においては、未露光部を除去し、露光部の像を形成
することであり、一方、ポジ型の感光材料においては、
逆に、露光部を除去し、未露光部の像を形成することで
ある。
ジスト分野で言う現像と同じ意味であり、ネガ型の感光
材料においては、未露光部を除去し、露光部の像を形成
することであり、一方、ポジ型の感光材料においては、
逆に、露光部を除去し、未露光部の像を形成することで
ある。
【００１０】本発明において現像は、感光材料の現像液
への浸漬、感光材料への現像液のスプレー噴射等の公知
の手段によって行う現像工程において、気体を現像面に
噴流させて行われる。スプレー噴射現像中に、気体を現
像面に噴流させて行うことが好ましい。気体としては、
得に制限はないが、空気、窒素ガス、炭酸ガス、ヘリウ
ムガス、アルゴンガス等があげられ、経済面から空気が
好ましい。
への浸漬、感光材料への現像液のスプレー噴射等の公知
の手段によって行う現像工程において、気体を現像面に
噴流させて行われる。スプレー噴射現像中に、気体を現
像面に噴流させて行うことが好ましい。気体としては、
得に制限はないが、空気、窒素ガス、炭酸ガス、ヘリウ
ムガス、アルゴンガス等があげられ、経済面から空気が
好ましい。
【００１１】気体を現像面に噴流させることが、気体が
現像面に当たる際の温度が０℃〜８０℃となるようにし
て行なわれることが好ましく、５℃〜４０℃となるよう
にして行なわれることがより好ましい。
現像面に当たる際の温度が０℃〜８０℃となるようにし
て行なわれることが好ましく、５℃〜４０℃となるよう
にして行なわれることがより好ましい。
【００１２】この温度が低すぎたり高すぎたりすると、
感光皮膜がダメージを受けることがある。またこの温度
が０℃未満の場合は、現像液中の、水分の氷結が起こり
やすくなる。この温度を所望の温度に調整するには、例
えば、室温（２３℃）の気体（例えば、空気）を噴流す
ること、熱交換機を用いて一定の温度とした気体（例え
ば、空気）を噴流すること等により行うことができる。 所望の温度であることの確認は、現像面の表面温度ある
いは現像面直前の温度を各種温度計（例えば、赤外温度
計）で測定し行うことができる。
感光皮膜がダメージを受けることがある。またこの温度
が０℃未満の場合は、現像液中の、水分の氷結が起こり
やすくなる。この温度を所望の温度に調整するには、例
えば、室温（２３℃）の気体（例えば、空気）を噴流す
ること、熱交換機を用いて一定の温度とした気体（例え
ば、空気）を噴流すること等により行うことができる。 所望の温度であることの確認は、現像面の表面温度ある
いは現像面直前の温度を各種温度計（例えば、赤外温度
計）で測定し行うことができる。
【００１３】気体を現像面に噴流させることが、気体の
圧力が０．１ｋｇｆ／ｃｍ２〜６ｋｇｆ／ｃｍ２となる
ようにして行われることが好ましく、０．５ｋｇｆ／ｃ
ｍ２〜４ｋｇｆ／ｃｍ２となるようにして行われること
がより好ましい。この圧力が、低すぎると、本発明の効
果が発現しないことがあり、一方、高すぎると感光皮膜
がダメージを受けることがある。ここで、気体の圧力と
は、ノズル等から噴流として出る直前の気体の圧力をい
い、これを所望の圧力とすることは、気体源にボンベを
使う場合、気体源がコンプレッサーで圧縮された空気等
の場合等において減圧調整弁等によって行うことができ
る。 所望の圧力であるかどうかの確認は、ノズル等とボンベ
、コンプレッサー等との間に圧力計を設けることにより
容易に行うことができる。
圧力が０．１ｋｇｆ／ｃｍ２〜６ｋｇｆ／ｃｍ２となる
ようにして行われることが好ましく、０．５ｋｇｆ／ｃ
ｍ２〜４ｋｇｆ／ｃｍ２となるようにして行われること
がより好ましい。この圧力が、低すぎると、本発明の効
果が発現しないことがあり、一方、高すぎると感光皮膜
がダメージを受けることがある。ここで、気体の圧力と
は、ノズル等から噴流として出る直前の気体の圧力をい
い、これを所望の圧力とすることは、気体源にボンベを
使う場合、気体源がコンプレッサーで圧縮された空気等
の場合等において減圧調整弁等によって行うことができ
る。 所望の圧力であるかどうかの確認は、ノズル等とボンベ
、コンプレッサー等との間に圧力計を設けることにより
容易に行うことができる。
【００１４】この所望の圧力とした気体の噴流は、気体
の噴出口（例えば、ノズル等）から現像面までの距離を
５ｃｍ〜５０ｃｍとして行われることが好ましく、１０
ｃｍ〜３０ｃｍとして行われることがより好ましい。
の噴出口（例えば、ノズル等）から現像面までの距離を
５ｃｍ〜５０ｃｍとして行われることが好ましく、１０
ｃｍ〜３０ｃｍとして行われることがより好ましい。
【００１５】気体を現像面に噴流させることは、現像面
が乾燥しないように行われることが好ましい。気体を現
像面に噴流させることは感光材料が現像液に浸漬されて
いる間あるいは感光材料に現像液がスプレー噴射されて
いる間に同時に行われてもよく、また、感光材料が現像
液への浸漬あるいは、現像液のスプレー噴射が終了し、
水洗等の次の工程に行く前に行われてもよい。気体を現
像面に噴流させることは、何回かに分けて行われてもよ
い。気体を現像面に噴流させることは、総計で１秒間〜
３０秒間行うことが好ましく、２秒間〜１５秒間行うこ
とがより好ましい。
が乾燥しないように行われることが好ましい。気体を現
像面に噴流させることは感光材料が現像液に浸漬されて
いる間あるいは感光材料に現像液がスプレー噴射されて
いる間に同時に行われてもよく、また、感光材料が現像
液への浸漬あるいは、現像液のスプレー噴射が終了し、
水洗等の次の工程に行く前に行われてもよい。気体を現
像面に噴流させることは、何回かに分けて行われてもよ
い。気体を現像面に噴流させることは、総計で１秒間〜
３０秒間行うことが好ましく、２秒間〜１５秒間行うこ
とがより好ましい。
【００１６】本発明の好ましい一つの態様は、現像液と
してのアルカリ性液体（例えば、炭酸ナトリウムの水溶
液）により現像される。感光材料の現像において、現像
中に気体が現像面に当たる際の温度及び気体の圧力がそ
れぞれ０℃〜８０℃及び０．１ｋｇｆ／ｃｍ２〜６ｋｇ
ｆ／ｃｍ２となるようにし、気体の噴流のタイミングを
感光材料の最少現像時間のスプレー噴射の後１秒間〜３
０秒間、気体を現像面に噴流させ、ついで、前記最少現
像時間の１／４〜１／２の時間再度スプレー噴射させる
現像方法である（すなわち、スプレー噴射−気体噴流−
スプレー噴射の工程を行う方法）。
してのアルカリ性液体（例えば、炭酸ナトリウムの水溶
液）により現像される。感光材料の現像において、現像
中に気体が現像面に当たる際の温度及び気体の圧力がそ
れぞれ０℃〜８０℃及び０．１ｋｇｆ／ｃｍ２〜６ｋｇ
ｆ／ｃｍ２となるようにし、気体の噴流のタイミングを
感光材料の最少現像時間のスプレー噴射の後１秒間〜３
０秒間、気体を現像面に噴流させ、ついで、前記最少現
像時間の１／４〜１／２の時間再度スプレー噴射させる
現像方法である（すなわち、スプレー噴射−気体噴流−
スプレー噴射の工程を行う方法）。
【００１７】本発明の別の好ましい一つの態様としては
、前記の現像法において噴流のタイミングを最少現像時
間のスプレー噴射と同時に、１回につき２秒間〜５秒間
で２〜３回と変更した、時間の短縮された現像方法であ
る。
、前記の現像法において噴流のタイミングを最少現像時
間のスプレー噴射と同時に、１回につき２秒間〜５秒間
で２〜３回と変更した、時間の短縮された現像方法であ
る。
【００１８】ここで、最少現像時間とは、ネガ型の感光
材料を用いた場合、未露光部の広い部分（１０ｍｍ×１
０ｍｍ以上）が浸漬あるいはスプレー噴射等（気体噴流
を除く）により除去できるのに最少限必要な時間を意味
し、ポジ型の感光材料を用いた場合、露光部の広い部分
（１０ｍｍ×１０ｍｍ）が浸漬あるいはスプレー噴射等
（気体噴流を除く）により除去できるのに最少限必要な
時間を意味する。
材料を用いた場合、未露光部の広い部分（１０ｍｍ×１
０ｍｍ以上）が浸漬あるいはスプレー噴射等（気体噴流
を除く）により除去できるのに最少限必要な時間を意味
し、ポジ型の感光材料を用いた場合、露光部の広い部分
（１０ｍｍ×１０ｍｍ）が浸漬あるいはスプレー噴射等
（気体噴流を除く）により除去できるのに最少限必要な
時間を意味する。
【００１９】
【実施例】以下、本発明を実施例によって更に詳しく説
明する。実施例１、２及び比較例１銅はく（厚さ３５μ
ｍ）を両面に積層したガラスエポキシ材である基板（日
立化成工業株式会社製、商標ＭＣＬ−Ｅ−６１）の銅表
面を＃８００のサンドペーパーで研磨し、水洗して空気
流で乾燥した。次いで基板を６０℃に加温し、その銅面
上に、感光性フィルム（日立化成工業株式会社製、商標
Ｐｈｏｔｅｃ８６５ＡＦＴ−５０、感光層５０μｍ厚、
アルカリ現像型、ネガ型）をラミネーター（日立化成工
業株式会社製、商標ＨＬＭ−１５００）でラミネートし
た（ラミネートロール温度１２０℃、エアシリンダ圧力
３．０ｋｇｆ／ｃｍ２、ラミネートスピード１．５ｍ／
分）。
明する。実施例１、２及び比較例１銅はく（厚さ３５μ
ｍ）を両面に積層したガラスエポキシ材である基板（日
立化成工業株式会社製、商標ＭＣＬ−Ｅ−６１）の銅表
面を＃８００のサンドペーパーで研磨し、水洗して空気
流で乾燥した。次いで基板を６０℃に加温し、その銅面
上に、感光性フィルム（日立化成工業株式会社製、商標
Ｐｈｏｔｅｃ８６５ＡＦＴ−５０、感光層５０μｍ厚、
アルカリ現像型、ネガ型）をラミネーター（日立化成工
業株式会社製、商標ＨＬＭ−１５００）でラミネートし
た（ラミネートロール温度１２０℃、エアシリンダ圧力
３．０ｋｇｆ／ｃｍ２、ラミネートスピード１．５ｍ／
分）。
【００２０】このようなサンプルを所定枚数つくり各々
、３ｋＷの高圧水銀灯（オーク製作所製、商標２０１Ｂ
）で、フォトレジストの解像度が評価できるような種々
のライン幅及びライン間隔（ライン幅＝ライン間隔）の
あるフォトマスクを介し、１２０ｍＪ／ｃｍ２で露光を
行った。次に表１に示すように３０℃、１．２％炭酸ナ
トリウム水溶液に揺動しながら浸漬及び室温（２３℃）
で４ｋｇ／ｃｍ２の圧力の空気噴流をあて現像を行った
。
、３ｋＷの高圧水銀灯（オーク製作所製、商標２０１Ｂ
）で、フォトレジストの解像度が評価できるような種々
のライン幅及びライン間隔（ライン幅＝ライン間隔）の
あるフォトマスクを介し、１２０ｍＪ／ｃｍ２で露光を
行った。次に表１に示すように３０℃、１．２％炭酸ナ
トリウム水溶液に揺動しながら浸漬及び室温（２３℃）
で４ｋｇ／ｃｍ２の圧力の空気噴流をあて現像を行った
。
【００２１】その後現像されたサンプルを２０℃の水道
水で４０秒間水洗し、乾燥し、解像度を評価した。尚、
比較例１は空気噴流を行わない場合であり、１００秒の
揺動浸漬で未露光部は完全に除去された。なお、現像工
程の後に、像が形成された最も狭いライン幅を解像度と
して示した。
水で４０秒間水洗し、乾燥し、解像度を評価した。尚、
比較例１は空気噴流を行わない場合であり、１００秒の
揺動浸漬で未露光部は完全に除去された。なお、現像工
程の後に、像が形成された最も狭いライン幅を解像度と
して示した。
【００２２】実施例３、４、５、６及び７実施例２と同
様にサンプルを作製し、露光、現像を行った。現像時に
おける空気噴流の圧力を表２に示すように行った。
様にサンプルを作製し、露光、現像を行った。現像時に
おける空気噴流の圧力を表２に示すように行った。
【００２３】実施例８、９、１０及び比較例２実施例１
と同様にサンプルを作製し、露光を行った。次に表３に
示すように１．２％炭酸ナトリウム水溶液を３０℃、ス
プレー圧１．５ｋｇｆ／ｃｍ２（現像面）、流量２ｌ／
ｍｉｎ（現像面）でスプレー噴流し、４ｋｇｆ／ｃｍ２
の圧力の空気噴流をあて現像を行いその後２０℃の水道
水で４０秒間水洗し乾燥し解像度及びレジスト像すそ引
き量（ｄ）を評価した。なお、すそ引き量（ｄ）を図１
として示した。図１において、１は感光被膜、２はすそ
引き量（ｄ）、３はライン幅である。
と同様にサンプルを作製し、露光を行った。次に表３に
示すように１．２％炭酸ナトリウム水溶液を３０℃、ス
プレー圧１．５ｋｇｆ／ｃｍ２（現像面）、流量２ｌ／
ｍｉｎ（現像面）でスプレー噴流し、４ｋｇｆ／ｃｍ２
の圧力の空気噴流をあて現像を行いその後２０℃の水道
水で４０秒間水洗し乾燥し解像度及びレジスト像すそ引
き量（ｄ）を評価した。なお、すそ引き量（ｄ）を図１
として示した。図１において、１は感光被膜、２はすそ
引き量（ｄ）、３はライン幅である。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【表２】
【００２６】
【表３】
【００２７】実施例１１、１２及び比較例３実施例１と
同様の基板に同様に溶剤現像型感光性フィルム（日立化
成工業株式会社製、商標Ｐｈｏｔｅｃ１４５Ｆ−４０）
をラミネートした。実施例１と同様のフォトマスクを介
在し、同様の露光機を用い、６０ｍＪ／ｃｍ２で露光を
行った。次に表４に示すように１８℃の１，１，１−ト
リクロルエタンをスプレー圧力２ｋｇ／ｃｍ２，ノズル
からの距離１５ｃｍ下で、スプレー噴射し、室温（２３
℃）の４ｋｇ／ｃｍ２の圧力の空気噴流をあて現像を行
い、その後２０℃の水道水で４０秒間水洗し、乾燥し、
解像度を評価した。尚比較例３は空気噴流を行わない場
合を示した。
同様の基板に同様に溶剤現像型感光性フィルム（日立化
成工業株式会社製、商標Ｐｈｏｔｅｃ１４５Ｆ−４０）
をラミネートした。実施例１と同様のフォトマスクを介
在し、同様の露光機を用い、６０ｍＪ／ｃｍ２で露光を
行った。次に表４に示すように１８℃の１，１，１−ト
リクロルエタンをスプレー圧力２ｋｇ／ｃｍ２，ノズル
からの距離１５ｃｍ下で、スプレー噴射し、室温（２３
℃）の４ｋｇ／ｃｍ２の圧力の空気噴流をあて現像を行
い、その後２０℃の水道水で４０秒間水洗し、乾燥し、
解像度を評価した。尚比較例３は空気噴流を行わない場
合を示した。
【００２８】
【表４】
【００２９】
【発明の効果】本発明の現像方法を用いることにより解
像度の良好な、すそ引きが少なく画像精度が優れた像（
レジストパターン）を形成することができる。
像度の良好な、すそ引きが少なく画像精度が優れた像（
レジストパターン）を形成することができる。
【図１】図１は、すそ引き量（ｄ）について示した模式
図である。
図である。
１…感光被膜（レジストパターン）
２…すそ引き量（ｄ）
３…ライン幅
Claims (5)
- 【請求項１】 液体により現像される感光材料の現像
において、現像工程において気体を現像面に噴流させる
ことを特徴とする現像方法。 - 【請求項２】 気体を現像面に噴流させることが、気
体が現像面に当たる際の温度が０℃〜８０℃となるよう
にして行われる請求項１記載の現像方法。 - 【請求項３】 気体を現像面に噴流させることが、気
体の圧力が０．１ｋｇｆ／ｃｍ２〜６ｋｇｆ／ｃｍ２と
なるようにして行われる請求項１又は２記載の現像方法
。 - 【請求項４】 液体がアルカリ性水溶液である請求項
１、２又は３記載の現像方法。 - 【請求項５】 気体が空気である請求項１、２、３又
は４記載の現像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3023288A JP2684854B2 (ja) | 1990-02-19 | 1991-02-18 | 現像方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3814490 | 1990-02-19 | ||
| JP2-38144 | 1990-02-19 | ||
| JP3023288A JP2684854B2 (ja) | 1990-02-19 | 1991-02-18 | 現像方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04211263A true JPH04211263A (ja) | 1992-08-03 |
| JP2684854B2 JP2684854B2 (ja) | 1997-12-03 |
Family
ID=26360620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3023288A Expired - Lifetime JP2684854B2 (ja) | 1990-02-19 | 1991-02-18 | 現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2684854B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05173336A (ja) * | 1990-11-28 | 1993-07-13 | Canon Inc | レジストの除去方法及び除去装置 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0246465A (ja) * | 1988-08-05 | 1990-02-15 | Nec Kyushu Ltd | 現像機 |
| JPH03270218A (ja) * | 1990-03-20 | 1991-12-02 | Fujitsu Ltd | 現像方法 |
| JPH0425115A (ja) * | 1990-05-18 | 1992-01-28 | Fujitsu Ltd | 現像装置 |
| JPH0440461A (ja) * | 1990-06-06 | 1992-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
| JPH04242741A (ja) * | 1991-01-08 | 1992-08-31 | Konica Corp | 感光材料の処理方法及び処理装置 |
| JPH04249259A (ja) * | 1991-02-05 | 1992-09-04 | Konica Corp | 感光性平版印刷版の処理方法 |
-
1991
- 1991-02-18 JP JP3023288A patent/JP2684854B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JPH05173336A (ja) * | 1990-11-28 | 1993-07-13 | Canon Inc | レジストの除去方法及び除去装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2684854B2 (ja) | 1997-12-03 |
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