JPH04204602A - プラスチックレンズ - Google Patents
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高屈折率でかつ吸水性が低い光学材料及びレン
ズ更には耐傷付き性、反射防止効果に優れたプラスチッ
クレンズに関するものである。
ズ更には耐傷付き性、反射防止効果に優れたプラスチッ
クレンズに関するものである。
従来、有機光学材料にはポリスチレン系樹脂、ポリメチ
ルメタクリレート系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジエ
チレングリコールジアリルカーボネートの重合体等が利
用されており、これらは軽量性、安全性、加工性、染色
性等に優れていることから近年その需要が増大している
。
ルメタクリレート系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジエ
チレングリコールジアリルカーボネートの重合体等が利
用されており、これらは軽量性、安全性、加工性、染色
性等に優れていることから近年その需要が増大している
。
しかし、従来の有機光学材料は、例えばポリメチルメタ
クリレート系樹脂の場合、その樹脂特性として吸湿性が
大きいため形、状や屈折率が変化し、光学材料としては
不安定である。また、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂の場合は、光学的な複屈折、散乱光の発生、
経時変化による透明度の低下等の欠点を有している。さ
らにジエチレングリコールジアリルカーボネートの重合
体は、屈折率が低い(屈折率= ]、 499)ために
光学材料としての応用範囲に自ずから制限があった。
クリレート系樹脂の場合、その樹脂特性として吸湿性が
大きいため形、状や屈折率が変化し、光学材料としては
不安定である。また、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂の場合は、光学的な複屈折、散乱光の発生、
経時変化による透明度の低下等の欠点を有している。さ
らにジエチレングリコールジアリルカーボネートの重合
体は、屈折率が低い(屈折率= ]、 499)ために
光学材料としての応用範囲に自ずから制限があった。
これらの欠点を改善するために種々の光学材料用樹脂が
提案されている。これらの例としては、例えば特開昭5
7−211115号公報、同57−28116号公報、
同59−184210号公報、同60−7314号公報
、同60−179406号公報、同6G −21730
1号公報、同60−186514号公報、同60−16
6307号公報、同6〇−103301号公報、同60
−124607号公報、同62−2324+4号公報、
同62−235901号公報、同62−267316号
公報、同63−15811号公報、同83−462]3
号公報、同63−727(17号公報、同63−750
22号公報、同63−113012号公報、同63−1
30614号公報、同63−130615号公報、同6
3−170401号公報、同63−17(1404号公
報、同63−191813号公報、同63−24881
1号公報、同63−2514(18号公報、同63−2
68707号公報、同64−54021号公報等をあげ
ることができる。しかし、これら先行技術によって得ら
れる硬化物は光学的に不均一であったり、耐候着色が著
しかったり、寸法安定性に欠けたりする等、光学材料と
して必すしも満足すべき材料ではなかった。
提案されている。これらの例としては、例えば特開昭5
7−211115号公報、同57−28116号公報、
同59−184210号公報、同60−7314号公報
、同60−179406号公報、同6G −21730
1号公報、同60−186514号公報、同60−16
6307号公報、同6〇−103301号公報、同60
−124607号公報、同62−2324+4号公報、
同62−235901号公報、同62−267316号
公報、同63−15811号公報、同83−462]3
号公報、同63−727(17号公報、同63−750
22号公報、同63−113012号公報、同63−1
30614号公報、同63−130615号公報、同6
3−170401号公報、同63−17(1404号公
報、同63−191813号公報、同63−24881
1号公報、同63−2514(18号公報、同63−2
68707号公報、同64−54021号公報等をあげ
ることができる。しかし、これら先行技術によって得ら
れる硬化物は光学的に不均一であったり、耐候着色が著
しかったり、寸法安定性に欠けたりする等、光学材料と
して必すしも満足すべき材料ではなかった。
これらの欠点を解決するための方法が特開平2−113
027に示されているが、実用的なプラスチックレンズ
とするには耐傷付き性、光透過性等が不十分、製造過程
における中間生成物の貯蔵安定性の問題があった。
027に示されているが、実用的なプラスチックレンズ
とするには耐傷付き性、光透過性等が不十分、製造過程
における中間生成物の貯蔵安定性の問題があった。
本発明の目的は、前記従来の光学材料用樹脂の欠点を克
服させるとともに、高屈折率でかつ吸水性が低く、耐傷
付き性、反射防止効果に優れたプラスチックレンズ、特
に眼鏡用プラスチックレンズを提供することにある。
服させるとともに、高屈折率でかつ吸水性が低く、耐傷
付き性、反射防止効果に優れたプラスチックレンズ、特
に眼鏡用プラスチックレンズを提供することにある。
上記課題を解決するために検討した結果、(A) 式
(I) で表オ)される4、4′−ビス(メタクリロイルチオ)
ジフェニルスルフィドおよび (B) 式(II) R4SH)n (II’)(式中
、Rは多価の脂肪族または芳香族炭化水素からなる有機
基を示し、nは2以上の整数を示す。) で表わされるポリチオール類とを付加反応させて得られ
るポリチオエーテル骨格を有するプレポリマーと他の重
合性モノマーとからなる硬化性組成物を重合して得られ
る材料を用いたプラスチックレンズの表面に 00.1〜30μmの膜厚のアクリル系プライマー層0
式(III)で表わされる有機ケイ素化合物の1種また
は2種以上の加水分解物及び/またはその部分縮合物か
らなる0、5〜6.04mの膜厚のシリコン系ハードコ
ート層 (式中R1及びR2は炭化水素基であり特に限定はなく
、アミノ基、エポキシ基、アリール基、ハロゲン、エポ
キシ基から選ばれる置換基を有していても良い。R3は
アルコキシ、ハロゲン、アシロキシ、フェノキシ基から
選ばれる加水分解性基てあり、a及びbは0または1で
ある)■無機化合物の反射防止層 を順次設けることにより特にプラスチックレンズに好適
な光学材料が得られることがわかった。
(I) で表オ)される4、4′−ビス(メタクリロイルチオ)
ジフェニルスルフィドおよび (B) 式(II) R4SH)n (II’)(式中
、Rは多価の脂肪族または芳香族炭化水素からなる有機
基を示し、nは2以上の整数を示す。) で表わされるポリチオール類とを付加反応させて得られ
るポリチオエーテル骨格を有するプレポリマーと他の重
合性モノマーとからなる硬化性組成物を重合して得られ
る材料を用いたプラスチックレンズの表面に 00.1〜30μmの膜厚のアクリル系プライマー層0
式(III)で表わされる有機ケイ素化合物の1種また
は2種以上の加水分解物及び/またはその部分縮合物か
らなる0、5〜6.04mの膜厚のシリコン系ハードコ
ート層 (式中R1及びR2は炭化水素基であり特に限定はなく
、アミノ基、エポキシ基、アリール基、ハロゲン、エポ
キシ基から選ばれる置換基を有していても良い。R3は
アルコキシ、ハロゲン、アシロキシ、フェノキシ基から
選ばれる加水分解性基てあり、a及びbは0または1で
ある)■無機化合物の反射防止層 を順次設けることにより特にプラスチックレンズに好適
な光学材料が得られることがわかった。
本発明に係る硬化性組成物は、溶媒中で塩基触媒存在下
(A)成分と(B)成分を反応させた後溶媒を除去し、
その後他の重合性モノマーと混合するか、または他の重
合性モノマー中で塩基触媒の存在下、付加反応させて得
ることができる。
(A)成分と(B)成分を反応させた後溶媒を除去し、
その後他の重合性モノマーと混合するか、または他の重
合性モノマー中で塩基触媒の存在下、付加反応させて得
ることができる。
本発明に用いられる重合性モノマーのうち式(I)で表
わされる4、4′−ビス(メタクリロイルチオ)ジフェ
ニルスルフィドは、他の有機化合物との混合が容易であ
る上、水との親和性が極めて低く、かつその硬化物は高
い屈折率(屈折率−]、 6B9)を有するという特徴
がある。
わされる4、4′−ビス(メタクリロイルチオ)ジフェ
ニルスルフィドは、他の有機化合物との混合が容易であ
る上、水との親和性が極めて低く、かつその硬化物は高
い屈折率(屈折率−]、 6B9)を有するという特徴
がある。
本発明において(B)成分として使用される前記式(n
)で表わされるポリチオール類としては、nが2以上、
好ましくはnが2〜5の整数である脂肪族ポリチオール
類または芳香族ポリチオール類が用いられる。このよう
なポリチオール類の代表例としては、例えば、9.10
−アントラセンジメタンチオール、1,11−ウンデカ
ンジチオール、4−エチルベンゼン−1,3−ジチオー
ル、1,2−エタンジチオール、1.8−オクタンジチ
オール、1.18−オクタデカンジチオール、2,5−
ジクロロベンゼン−1,3−ジチオール、1.3−(4
−クロロフェニル)プロパン−2,2−ジチオール、1
.1−シクロヘキサンジチオール、1,2−シクロヘキ
サンジチオール、1,4−シクロヘキサンジチオール、
1.1−シクロへブタンジチオール、1,1−シクロペ
ンタンジチオール、4.8−ジチアウンデカン−1,1
1−ジチオール、ジチオペンタエリスリトール、ジチオ
スレイトール、1,3−ジフェニルプロパン−2,2−
ジチオール、1,3−ジヒドロキシ−2−プロピル−2
’、3’−ジメルカプトプロピルエーテル、2.3−ジ
ヒドロキシプロピル−2’、3’−ジメルカプトプロピ
ルエーテル、2,6−シメチルオクタンー2.6−シチ
オーノ12.6−シメチルオクタンー3,7−ジチオー
ル、2.4−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、
4.5−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、3.
3−ジメチルブタン−2,2−ジチオール、2.2−ジ
メチルプロパン−1,3−ジチオール、1,3−ジ(4
−メトキシフェニル)プロパン−2,2−ジチオール、
3.4−ジメトキシブタン−1,2−ジチオール、IO
,]iジメルカプトウンデカン酸、6,8−ジメルカプ
トオクタン酸、2.5−ジメルカプト−1,3,4−チ
アジアゾール、2.2′−ジメルカプトビフェニル、
4.4′−ジメルカプトビフェニル、4.4’−ジメル
カプトビフェニル、3,4−ジメルカプトブタノール、
3,4−ジメルカプトブチルアセテート、2,3−ジメ
ルカプト−1−プロパツール、1,2−ジメルカプト用
、3−ブタンジオール、2,3−ジメルカプトプロピオ
ン酸、1.2−ジメルカプトプロピルメチルエーテル、
2.3−ジメルカプトプロピル−2’、3’−ジメトキ
シプロピルエーテル、3,4−チオフェンジチオール、
1.10−デカンジチオール、1.12−ドデカンジチ
オール、3、5.5− )リフチルヘキサン−1,1−
ジチオール、2、5− トルエンジチオール、3.4−
)ルエンジチオール、1,4−ナフタレンジチオール
、1,5−ナフタレンジチオール、2,6−ナフタレン
ジチオール、1.9−ノナンジチオール、ノルボルネン
−2,3−ジチオール、ビス(2−メルカプトイソプロ
ピル)エーテル、ビス(11−メルカプトウンデシル)
スルフィド、ビス(2−メルカプトエチル)エーテル、
ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、ビス(18
−メルカプトオクタデシル)スルフィド、ビス(8−メ
ルカプトオクチル)スルフィド、ビス(+2−メルカプ
トデシル)スルフィト、ビス(9−メルカプトノニル)
スルフィド、ビス(4−メルカプトブチル)スルフィド
、ビス(3−メルカプトプロピル)エーテル、ビス(3
−メルカプトプロピル)スルフィド、ビス(6−メルカ
プトヘキシル)スルフィド、ヒス(7−メルカプトへブ
チル)スルフィド、ビス(5−メルカプトペンチル)ス
ルフィド、2.2’ビス(メルカプトメチル)酢酸、1
.1’−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、ビ
ス(メルカプトメチル)ヂュレン、フェニルメタン−1
,1−ジチオール、1.2−ブタンジチオール、1.4
−ブタンジチオール、2.3−ブタンジチオール、2.
2−ブタンジチオール、1.2−プロパンジチオール、
1.3−プロパンジチオール、2,2−プロパンジチオ
ール、112−ヘキサンジチオール、j、6−ヘキサン
ジチオール、2.5−ヘキサンジチオール、1,7−ペ
ンタンジチオール、2.6−ペンタンジチオール、1.
5−ペンタンジチオール、2.4−ペンタンジチオ−/
l、、3.3−ペンタンジチオール、7,8−ヘプタン
デカンジチオール、1.2−ベンゼンジチオール、1.
3−ベンゼンジチオール、1.4−ベンゼンジチオール
、2−メチルシクロヘキサン−1,1−ジチオール、2
−メチルブタン−2,3−ジチオール、エチレングリコ
ールジチオグリコレート、エチレングリコールビス(3
−メルカプトプロピオナート)等のジチオール類の他、
l、 2.3−プロパントリチオール、1゜2,4−ブ
タントリチオール、トリメチロールプロパントリチオグ
リコラート、トリメチロールプロパントリス(3−メル
カプトプロピオナート)、ペンタエリスリトールトリチ
オグリコラート、ペンタエリスリトールトリス(3−メ
ルカプトプロピオナート)、1.3.5−ベンゼントリ
チオール、2.4.6−メジチレントリチオール等のト
リチオール類、及びネオペンタンテトラチオール、2.
2’−ビス(メルカプトメチル)−1,3−プロパンジ
チオール、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メル
カプトプロピオナート)、1、3.5−ベンゼントリチ
オール、2.4.6− )ルエントリチオール、2,4
.6−メジチレントリチオ〜ル等があげられる。以上の
ように例示された(B)成分のポリチオール類は1種ま
たは2種以上の混合物として用いることもできる。
)で表わされるポリチオール類としては、nが2以上、
好ましくはnが2〜5の整数である脂肪族ポリチオール
類または芳香族ポリチオール類が用いられる。このよう
なポリチオール類の代表例としては、例えば、9.10
−アントラセンジメタンチオール、1,11−ウンデカ
ンジチオール、4−エチルベンゼン−1,3−ジチオー
ル、1,2−エタンジチオール、1.8−オクタンジチ
オール、1.18−オクタデカンジチオール、2,5−
ジクロロベンゼン−1,3−ジチオール、1.3−(4
−クロロフェニル)プロパン−2,2−ジチオール、1
.1−シクロヘキサンジチオール、1,2−シクロヘキ
サンジチオール、1,4−シクロヘキサンジチオール、
1.1−シクロへブタンジチオール、1,1−シクロペ
ンタンジチオール、4.8−ジチアウンデカン−1,1
1−ジチオール、ジチオペンタエリスリトール、ジチオ
スレイトール、1,3−ジフェニルプロパン−2,2−
ジチオール、1,3−ジヒドロキシ−2−プロピル−2
’、3’−ジメルカプトプロピルエーテル、2.3−ジ
ヒドロキシプロピル−2’、3’−ジメルカプトプロピ
ルエーテル、2,6−シメチルオクタンー2.6−シチ
オーノ12.6−シメチルオクタンー3,7−ジチオー
ル、2.4−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、
4.5−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、3.
3−ジメチルブタン−2,2−ジチオール、2.2−ジ
メチルプロパン−1,3−ジチオール、1,3−ジ(4
−メトキシフェニル)プロパン−2,2−ジチオール、
3.4−ジメトキシブタン−1,2−ジチオール、IO
,]iジメルカプトウンデカン酸、6,8−ジメルカプ
トオクタン酸、2.5−ジメルカプト−1,3,4−チ
アジアゾール、2.2′−ジメルカプトビフェニル、
4.4′−ジメルカプトビフェニル、4.4’−ジメル
カプトビフェニル、3,4−ジメルカプトブタノール、
3,4−ジメルカプトブチルアセテート、2,3−ジメ
ルカプト−1−プロパツール、1,2−ジメルカプト用
、3−ブタンジオール、2,3−ジメルカプトプロピオ
ン酸、1.2−ジメルカプトプロピルメチルエーテル、
2.3−ジメルカプトプロピル−2’、3’−ジメトキ
シプロピルエーテル、3,4−チオフェンジチオール、
1.10−デカンジチオール、1.12−ドデカンジチ
オール、3、5.5− )リフチルヘキサン−1,1−
ジチオール、2、5− トルエンジチオール、3.4−
)ルエンジチオール、1,4−ナフタレンジチオール
、1,5−ナフタレンジチオール、2,6−ナフタレン
ジチオール、1.9−ノナンジチオール、ノルボルネン
−2,3−ジチオール、ビス(2−メルカプトイソプロ
ピル)エーテル、ビス(11−メルカプトウンデシル)
スルフィド、ビス(2−メルカプトエチル)エーテル、
ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、ビス(18
−メルカプトオクタデシル)スルフィド、ビス(8−メ
ルカプトオクチル)スルフィド、ビス(+2−メルカプ
トデシル)スルフィト、ビス(9−メルカプトノニル)
スルフィド、ビス(4−メルカプトブチル)スルフィド
、ビス(3−メルカプトプロピル)エーテル、ビス(3
−メルカプトプロピル)スルフィド、ビス(6−メルカ
プトヘキシル)スルフィド、ヒス(7−メルカプトへブ
チル)スルフィド、ビス(5−メルカプトペンチル)ス
ルフィド、2.2’ビス(メルカプトメチル)酢酸、1
.1’−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、ビ
ス(メルカプトメチル)ヂュレン、フェニルメタン−1
,1−ジチオール、1.2−ブタンジチオール、1.4
−ブタンジチオール、2.3−ブタンジチオール、2.
2−ブタンジチオール、1.2−プロパンジチオール、
1.3−プロパンジチオール、2,2−プロパンジチオ
ール、112−ヘキサンジチオール、j、6−ヘキサン
ジチオール、2.5−ヘキサンジチオール、1,7−ペ
ンタンジチオール、2.6−ペンタンジチオール、1.
5−ペンタンジチオール、2.4−ペンタンジチオ−/
l、、3.3−ペンタンジチオール、7,8−ヘプタン
デカンジチオール、1.2−ベンゼンジチオール、1.
3−ベンゼンジチオール、1.4−ベンゼンジチオール
、2−メチルシクロヘキサン−1,1−ジチオール、2
−メチルブタン−2,3−ジチオール、エチレングリコ
ールジチオグリコレート、エチレングリコールビス(3
−メルカプトプロピオナート)等のジチオール類の他、
l、 2.3−プロパントリチオール、1゜2,4−ブ
タントリチオール、トリメチロールプロパントリチオグ
リコラート、トリメチロールプロパントリス(3−メル
カプトプロピオナート)、ペンタエリスリトールトリチ
オグリコラート、ペンタエリスリトールトリス(3−メ
ルカプトプロピオナート)、1.3.5−ベンゼントリ
チオール、2.4.6−メジチレントリチオール等のト
リチオール類、及びネオペンタンテトラチオール、2.
2’−ビス(メルカプトメチル)−1,3−プロパンジ
チオール、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メル
カプトプロピオナート)、1、3.5−ベンゼントリチ
オール、2.4.6− )ルエントリチオール、2,4
.6−メジチレントリチオ〜ル等があげられる。以上の
ように例示された(B)成分のポリチオール類は1種ま
たは2種以上の混合物として用いることもできる。
(A)成分として使用される前記式(I)で表わされる
4,4′−ビス(メタクリロイルチオ)ジフェニルス
ルフィドと(B)成分として使用される前記式(II)
で表わされるポリチオール類とを付加反応させるに際し
ては、(A)成分のメタクリロイル基に対する(B)成
分のメルカプト基の官能基当量比が、002〜1.01
の範囲内であることが好ましく、特に0.05〜0.6
0の範囲であることが望ましい。(A)成分のメタクリ
ロイル基に対する(B)成分のメルカプト基の官能基当
量比が0.02未満の場合は、硬化物は一般に脆く、十
分な耐衝撃性を得ることはできない。また、(A)成分
のメタクリロイル基に対する(B)成分のメルカプト基
の官能当量比が101よりも大きい場合は、未反応のメ
ルカプト基による組成物の安定性の低下、組成物粘度の
過剰な上昇、重合反応の不均一化による硬化物の不均質
性等の問題点を有する。
4,4′−ビス(メタクリロイルチオ)ジフェニルス
ルフィドと(B)成分として使用される前記式(II)
で表わされるポリチオール類とを付加反応させるに際し
ては、(A)成分のメタクリロイル基に対する(B)成
分のメルカプト基の官能基当量比が、002〜1.01
の範囲内であることが好ましく、特に0.05〜0.6
0の範囲であることが望ましい。(A)成分のメタクリ
ロイル基に対する(B)成分のメルカプト基の官能基当
量比が0.02未満の場合は、硬化物は一般に脆く、十
分な耐衝撃性を得ることはできない。また、(A)成分
のメタクリロイル基に対する(B)成分のメルカプト基
の官能当量比が101よりも大きい場合は、未反応のメ
ルカプト基による組成物の安定性の低下、組成物粘度の
過剰な上昇、重合反応の不均一化による硬化物の不均質
性等の問題点を有する。
(A)成分と(B)成分を付加反応させる時に溶媒を用
いる場合は特に限定はないが、(A)成分と(B)成分
をよく溶解するものが望ましい。
いる場合は特に限定はないが、(A)成分と(B)成分
をよく溶解するものが望ましい。
このような溶媒としては、ジエチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン等の
エーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素系溶媒、ジクロロメタン、四塩化炭素等の塩素系溶媒
等の比較的低沸点の溶媒が挙げられる。
グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン等の
エーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素系溶媒、ジクロロメタン、四塩化炭素等の塩素系溶媒
等の比較的低沸点の溶媒が挙げられる。
(A)成分と(B)成分の付加反応において、高沸点の
溶媒を使用すると、溶媒除去の際、加熱を伴う方法を採
用した場合、(A)成分が残っていると、(A)成分の
単独重合によるゲル化を招き易いため、好ましくない。
溶媒を使用すると、溶媒除去の際、加熱を伴う方法を採
用した場合、(A)成分が残っていると、(A)成分の
単独重合によるゲル化を招き易いため、好ましくない。
ゲル化に対しては、フェノール系あるいはアミン系の禁
止剤を次段階の他の重合性モノマー間の重合を阻害しな
い範囲で添加することが可能である。また、付加反応用
塩基触媒の除去を必要とする場合には、公知の吸着、抽
出、真空吸引等の方法を次段階の重合に影響しない範囲
で適用しうる。特に、アミン系化合物の除去については
、中性、酸性アルミナ、酸性イオン交換樹脂による吸着
除去方法を適用することかでき、低沸点のアミン系化合
物の場合には真空吸引による除去方法をも利用すること
ができる。
止剤を次段階の他の重合性モノマー間の重合を阻害しな
い範囲で添加することが可能である。また、付加反応用
塩基触媒の除去を必要とする場合には、公知の吸着、抽
出、真空吸引等の方法を次段階の重合に影響しない範囲
で適用しうる。特に、アミン系化合物の除去については
、中性、酸性アルミナ、酸性イオン交換樹脂による吸着
除去方法を適用することかでき、低沸点のアミン系化合
物の場合には真空吸引による除去方法をも利用すること
ができる。
付加反応を行なう際の温度は、(B)成分の種類、配合
量、あるいは使用する塩基触媒の種類および量により異
なるため一概に規定できないが、一般には0〜100℃
、好ましくは20〜60℃である。
量、あるいは使用する塩基触媒の種類および量により異
なるため一概に規定できないが、一般には0〜100℃
、好ましくは20〜60℃である。
付加反応温度が100℃を越えても、使用する塩基触媒
の種類および量によっては(A)成分の単独重合を防止
できる場合もあるが、しばしばゲル化を起すので好まし
くない。一方、0℃未満ても付加反応は進むが、反応速
度が極めて遅く、生産上好ましくない。
の種類および量によっては(A)成分の単独重合を防止
できる場合もあるが、しばしばゲル化を起すので好まし
くない。一方、0℃未満ても付加反応は進むが、反応速
度が極めて遅く、生産上好ましくない。
付加反応用塩基触媒としては、塩基性イオン交換樹脂、
カリウム−t−ブトキサイド、フォスフイン系化合物、
アミン系化合物を使用することが可能であるが、特にフ
ォスフイン系化合物またはアミン系化合物の使用が好ま
しい。
カリウム−t−ブトキサイド、フォスフイン系化合物、
アミン系化合物を使用することが可能であるが、特にフ
ォスフイン系化合物またはアミン系化合物の使用が好ま
しい。
フォスフイン系化合物の例としては、トリフェニルフォ
スフイン、トリn−ブチルフォスフイン、トリエチルフ
ォスフイン等があげられる。また、アミン系化合物の例
としては、ピリジン、N、N−ジメチルアニリン、N、
N−ジエチルアニリン、トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリ (n−プロピル)アミン、トリ(iso
−プロピル)アミン、トリ(n−ブチル)アミン、トリ
(ISO−ブチル)アミン、トリ(sec−ブチル)ア
ミン、ジメチルエチルアミン、ジエチルメチルアミン、
ジエチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルエタ
ノールアミン、モノメチルジェタノールアミン等があげ
られる。
スフイン、トリn−ブチルフォスフイン、トリエチルフ
ォスフイン等があげられる。また、アミン系化合物の例
としては、ピリジン、N、N−ジメチルアニリン、N、
N−ジエチルアニリン、トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリ (n−プロピル)アミン、トリ(iso
−プロピル)アミン、トリ(n−ブチル)アミン、トリ
(ISO−ブチル)アミン、トリ(sec−ブチル)ア
ミン、ジメチルエチルアミン、ジエチルメチルアミン、
ジエチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルエタ
ノールアミン、モノメチルジェタノールアミン等があげ
られる。
これらの塩基触媒は、単独でも組合わせて用いてもよく
、その使用量は、使用する(B)成分の種類およびその
使用量によって異なるため一概には規定できないが、一
般には(A)成分および(B)成分の総量に対して0.
01〜3重量%、好ましくは0.03〜1重量%である
。塩基触媒の使用量が0.01重量%未満では、実質的
には触媒の作用を果さず、しばしば(A)成分のメタク
リロイル基の単独重合が起る。一方、塩基触媒の使用量
が3重量%を越えた場合は、大量に用いる効果が認めら
れないばかりでなく、重合の際に着色を起すため好まし
くない。また、反応後の塩基触媒を除去するにしても、
除去剤を多量に必要とすることから却って好ましくない
。
、その使用量は、使用する(B)成分の種類およびその
使用量によって異なるため一概には規定できないが、一
般には(A)成分および(B)成分の総量に対して0.
01〜3重量%、好ましくは0.03〜1重量%である
。塩基触媒の使用量が0.01重量%未満では、実質的
には触媒の作用を果さず、しばしば(A)成分のメタク
リロイル基の単独重合が起る。一方、塩基触媒の使用量
が3重量%を越えた場合は、大量に用いる効果が認めら
れないばかりでなく、重合の際に着色を起すため好まし
くない。また、反応後の塩基触媒を除去するにしても、
除去剤を多量に必要とすることから却って好ましくない
。
付加反応に際しては、(B)成分の自動酸化によるジス
ルフィドの生成を防ぐために付加反応は不活性ガス雰囲
気中で行うことが好ましい。
ルフィドの生成を防ぐために付加反応は不活性ガス雰囲
気中で行うことが好ましい。
付加反応終了後は、溶媒を除去することによってポリチ
オエーテル骨格を有するプレポリマーを得ることができ
る。
オエーテル骨格を有するプレポリマーを得ることができ
る。
かくして得られるポリチオエーテル骨格を有するプレポ
リマーは、分子末端が重合性ビニル基でキャッピングさ
れた構造を有し、貯蔵安定性に優れている。
リマーは、分子末端が重合性ビニル基でキャッピングさ
れた構造を有し、貯蔵安定性に優れている。
上記のごとくして得られたポリチオエーテル骨格を有す
るプレポリマーは、他の重合性モノマーと混合される。
るプレポリマーは、他の重合性モノマーと混合される。
他の重合性モノマーとしては、ポリチオエーテル骨格を
有するプレポリマーと共重合可能なものであればいずれ
でもよく、例えば、不飽和脂肪酸エステル、芳香族ビニ
ル化合物、不飽和脂肪酸およびその誘導体、不飽和二塩
基酸およびその誘導体、(メタ)アクリルニトリル等の
シアン化ビニル化合物等があげられる。不飽和脂肪酸エ
ステルとしては、メチル(メタ)アクリレート(本明細
書においてはメチルアクリレートおよびメチルメタアク
リレートの両者を指す。他の場合も同じ)、エチル(メ
タ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−
エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ
)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、オク
タデシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ
)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリ
レート、(イソ)ボルニル(メタ)アクリレート、アダ
マンチル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)ア
クリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル
(メタ)アクリレート、1−ナフチル(メタ)アクリレ
ート、フルオロフェニル(メタ)アクリレート、クロロ
フェニル(メタ)アクリレート、ブロモフェニル(メタ
)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレ
ート、メトキシフェニル(メタ)アクリレート、シアノ
フェニル(メタ)アクリレート、ビフェニル(メタ)ア
クリレート、ブロモペンシル(メタ)アクリレート等の
アクリル酸芳香族エステル、フルオロメチル(メタ)ア
クリレート、クロロメチル(メタ)アクリレート、ブロ
モエチル(メタ)アクリレート、トリクロ0メチル(メ
タ)アクリレート等のハロアルキル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メ
タ)アクリル酸ポリエチレングリコールエステル等の他
、グリシジル(メタ)アクリレート、アルキルアミノ
(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル
があげられる。また、α−フルオロアクリル酸エステル
、α−シアノアクリル酸エステル等のα−置換アクリル
酸エステル等があげられる。
有するプレポリマーと共重合可能なものであればいずれ
でもよく、例えば、不飽和脂肪酸エステル、芳香族ビニ
ル化合物、不飽和脂肪酸およびその誘導体、不飽和二塩
基酸およびその誘導体、(メタ)アクリルニトリル等の
シアン化ビニル化合物等があげられる。不飽和脂肪酸エ
ステルとしては、メチル(メタ)アクリレート(本明細
書においてはメチルアクリレートおよびメチルメタアク
リレートの両者を指す。他の場合も同じ)、エチル(メ
タ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−
エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ
)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、オク
タデシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ
)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリ
レート、(イソ)ボルニル(メタ)アクリレート、アダ
マンチル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)ア
クリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル
(メタ)アクリレート、1−ナフチル(メタ)アクリレ
ート、フルオロフェニル(メタ)アクリレート、クロロ
フェニル(メタ)アクリレート、ブロモフェニル(メタ
)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレ
ート、メトキシフェニル(メタ)アクリレート、シアノ
フェニル(メタ)アクリレート、ビフェニル(メタ)ア
クリレート、ブロモペンシル(メタ)アクリレート等の
アクリル酸芳香族エステル、フルオロメチル(メタ)ア
クリレート、クロロメチル(メタ)アクリレート、ブロ
モエチル(メタ)アクリレート、トリクロ0メチル(メ
タ)アクリレート等のハロアルキル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メ
タ)アクリル酸ポリエチレングリコールエステル等の他
、グリシジル(メタ)アクリレート、アルキルアミノ
(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル
があげられる。また、α−フルオロアクリル酸エステル
、α−シアノアクリル酸エステル等のα−置換アクリル
酸エステル等があげられる。
芳香族ビニル化合物としては、スチレン、またはα−メ
チルスチレン、α−エチルスチレン、α−クロルスチレ
ン等のα−置換スチレン、フルオロスチレン、クロロス
チレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、メト
キシスチレン等の核置換スチレンがあげられる。
チルスチレン、α−エチルスチレン、α−クロルスチレ
ン等のα−置換スチレン、フルオロスチレン、クロロス
チレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、メト
キシスチレン等の核置換スチレンがあげられる。
不飽和脂肪酸およびその誘導体としては、(メタ)アク
リルアミド、N、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド
、N、N−ジエチル(メタ)アクリルアミド等の(メタ
)アクリルアミド類、 (メタ)アクリル酸等かあげら
れる。
リルアミド、N、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド
、N、N−ジエチル(メタ)アクリルアミド等の(メタ
)アクリルアミド類、 (メタ)アクリル酸等かあげら
れる。
不飽和二塩基酸およびその誘導体としては、N−メチル
マレイミド、N−エチルマレイミド、N−ブチルマレイ
ミド、N−シクロへキシルマレイミド、N−フェニルマ
レイミド、N−メチルフェニルマレイミド、N−クロロ
フェニルマレイミド、N−カルボキシフェニルマレイミ
ド等のN−置換マレイミド、マレイン酸、無水マレイン
酸、フマル酸等があげられる。
マレイミド、N−エチルマレイミド、N−ブチルマレイ
ミド、N−シクロへキシルマレイミド、N−フェニルマ
レイミド、N−メチルフェニルマレイミド、N−クロロ
フェニルマレイミド、N−カルボキシフェニルマレイミ
ド等のN−置換マレイミド、マレイン酸、無水マレイン
酸、フマル酸等があげられる。
能モノマーがあげられる。例えば、エチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1.3−ブチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1.4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレ
ート、1.5−ペンタジオールジ(メタ)アクリレート
、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヒド
ロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジ(
メタ)アクリレート、オリゴエステルジ(メタ)アクリ
レート、ポリブタジエンジ(メタ)アクリレート、2.
2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)
プロパン、2.2−ビス(4−(ω−(メタ)アクリロ
イルオキシポリエトキシ)フェニル)プロパン、2.2
−ビス(4−(ω−(メタ)アクリロイルオキシポリエ
トキシ)ジブロモフェニル)プロパン、2.2−ビス(
4−(ω−(メタ)アクリロイルオキシポリプロポキシ
)フェニル)プロパン、ビス(4−(ω−(メタ)アク
リロイルオキシポリエトキシ)フェニル)メタン等のジ
(メタ)アクリレートや、ジアリルベンゼン、ジビニル
ビフェニル、N、 N’ m−フェニレンビスマレイミ
ド等の二官能性の架橋性モノマー、トリメチロールエタ
ントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ (メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ (メタ)アクリレート、トリ (メタ)アリルイソ
シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジアリルベ
ンゼンデート等の三官能性の架橋性モノマー、ペンタエ
リスリトールテトラ(メタ)アクリレートのごとき四官
能性の架橋性モノマー等があげられる。以上の他の重合
性モノマーは、2種以上混合して使用してもよい。
ジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1.3−ブチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1.4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレ
ート、1.5−ペンタジオールジ(メタ)アクリレート
、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヒド
ロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジ(
メタ)アクリレート、オリゴエステルジ(メタ)アクリ
レート、ポリブタジエンジ(メタ)アクリレート、2.
2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)
プロパン、2.2−ビス(4−(ω−(メタ)アクリロ
イルオキシポリエトキシ)フェニル)プロパン、2.2
−ビス(4−(ω−(メタ)アクリロイルオキシポリエ
トキシ)ジブロモフェニル)プロパン、2.2−ビス(
4−(ω−(メタ)アクリロイルオキシポリプロポキシ
)フェニル)プロパン、ビス(4−(ω−(メタ)アク
リロイルオキシポリエトキシ)フェニル)メタン等のジ
(メタ)アクリレートや、ジアリルベンゼン、ジビニル
ビフェニル、N、 N’ m−フェニレンビスマレイミ
ド等の二官能性の架橋性モノマー、トリメチロールエタ
ントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ (メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ (メタ)アクリレート、トリ (メタ)アリルイソ
シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジアリルベ
ンゼンデート等の三官能性の架橋性モノマー、ペンタエ
リスリトールテトラ(メタ)アクリレートのごとき四官
能性の架橋性モノマー等があげられる。以上の他の重合
性モノマーは、2種以上混合して使用してもよい。
ポリチオエーテル骨格を有するプレポリマーと他の重合
性モノマーとの配合割合は、ポリチオエーテル骨格を有
するプレポリマー30〜90重量%と他の重合性モノマ
ー70〜10重量%、好ましくはポリチオエーテル骨格
を有するプレポリマー50〜85重量%と他の重合性モ
ノマー50〜15重量%からなることが望ましい。ポリ
チオエーテル骨格を有するプレポリマーの配合量か30
重量%未満ては、最大の特色である高屈折率という物性
か生かされなくなるので好ましくない。
性モノマーとの配合割合は、ポリチオエーテル骨格を有
するプレポリマー30〜90重量%と他の重合性モノマ
ー70〜10重量%、好ましくはポリチオエーテル骨格
を有するプレポリマー50〜85重量%と他の重合性モ
ノマー50〜15重量%からなることが望ましい。ポリ
チオエーテル骨格を有するプレポリマーの配合量か30
重量%未満ては、最大の特色である高屈折率という物性
か生かされなくなるので好ましくない。
またポリチオエーテル骨格を有するプレポリマーの配合
量が90重量%より多い場合は、組成物か高粘度となっ
て取り扱い難く、工業化の際の生産土好ましくない1、 以上溶媒中で付加反応を行う場合について説明したが、
(A)成分と(B)成分を他の重合性上2ツマ−中てf
4加反応させる場合には、(A)成分として使用される
前記式(1)で表わされる4、4′−ヒス(メタクリロ
イルチオ)ジフェニルスルフィドと(B)成分として使
用される前記式(II)で表オ)されるポリチオール類
とを、他の重合性モノマー中、塩基触媒の存在下に付加
反応を行えばよい。
量が90重量%より多い場合は、組成物か高粘度となっ
て取り扱い難く、工業化の際の生産土好ましくない1、 以上溶媒中で付加反応を行う場合について説明したが、
(A)成分と(B)成分を他の重合性上2ツマ−中てf
4加反応させる場合には、(A)成分として使用される
前記式(1)で表わされる4、4′−ヒス(メタクリロ
イルチオ)ジフェニルスルフィドと(B)成分として使
用される前記式(II)で表オ)されるポリチオール類
とを、他の重合性モノマー中、塩基触媒の存在下に付加
反応を行えばよい。
上記方法において使用される(A)成分、(B)成分、
塩基触媒および塩基触媒の使用量は、前記の予め溶媒中
で付加反応を行いポリチオエーテル骨格を有−4るブl
/ポリマーを合成する場合と同様である。
塩基触媒および塩基触媒の使用量は、前記の予め溶媒中
で付加反応を行いポリチオエーテル骨格を有−4るブl
/ポリマーを合成する場合と同様である。
(A)成分と(B)成分とを付加反応させるに際しては
、前記の予め溶媒中で付加反応を行いポリチオエーテル
骨格を有するプレポリマーを合成する場合と同様に、(
A)成分のメタクリロイル基に対する(B)成分のメル
カプト基の官能基当量比か、002・〜1.01の範囲
内であることが好ましく、特に005〜060の範囲で
あることが望ま]7い。、(A)成分のメタクリロイル
基に対する(B)成分のメルカプト基の官能基当量比が
002未満の場合は、一般に硬化物は脆く、十分な耐衝
撃性を得ることはできない。また、(A)成分のメタク
リロイル基に対する(B)成分のメルカプト基の官能当
量比が101よりも大きい場合は、未反応のメルカプト
基による組成物の安定性の低下、組成物粘度の過剰な−
1,昇、重合反応の不均一化による硬化物の不均質性等
の問題点を有する。
、前記の予め溶媒中で付加反応を行いポリチオエーテル
骨格を有するプレポリマーを合成する場合と同様に、(
A)成分のメタクリロイル基に対する(B)成分のメル
カプト基の官能基当量比か、002・〜1.01の範囲
内であることが好ましく、特に005〜060の範囲で
あることが望ま]7い。、(A)成分のメタクリロイル
基に対する(B)成分のメルカプト基の官能基当量比が
002未満の場合は、一般に硬化物は脆く、十分な耐衝
撃性を得ることはできない。また、(A)成分のメタク
リロイル基に対する(B)成分のメルカプト基の官能当
量比が101よりも大きい場合は、未反応のメルカプト
基による組成物の安定性の低下、組成物粘度の過剰な−
1,昇、重合反応の不均一化による硬化物の不均質性等
の問題点を有する。
(A)成分と(B)成分を付加反応させる際に使用され
る他の重合性モノマー吉は、通常のラジカル重合開始剤
の存在下で重合するものであれば特に制限はないか、反
応制御の観点から、常温で液体であって、塩基触媒の存
在下で(L’()成分と反応しないかもしくは反応(2
に<<、すなわち(B)成分と実質的に反応性を有せず
、一般的なラジカル重合開始剤で硬化可能なものか好ま
しく、具体例としては、メチIノン、α−メチルスチレ
ン、α エチルスチレン、メチノドスチレン、エチルス
チレン、クロロスチしノン、ブロモスチレン、2.4−
ジクロロスヂレン、2−クロロ−4−メチルスチレン、
ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル等のごとき芳香
族系ビニルモノマーがあげられる。
る他の重合性モノマー吉は、通常のラジカル重合開始剤
の存在下で重合するものであれば特に制限はないか、反
応制御の観点から、常温で液体であって、塩基触媒の存
在下で(L’()成分と反応しないかもしくは反応(2
に<<、すなわち(B)成分と実質的に反応性を有せず
、一般的なラジカル重合開始剤で硬化可能なものか好ま
しく、具体例としては、メチIノン、α−メチルスチレ
ン、α エチルスチレン、メチノドスチレン、エチルス
チレン、クロロスチしノン、ブロモスチレン、2.4−
ジクロロスヂレン、2−クロロ−4−メチルスチレン、
ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル等のごとき芳香
族系ビニルモノマーがあげられる。
これらの芳香族系ビニルモノマーは、2種以上を混合し
て用いてもよい。
て用いてもよい。
他の重合性モノマーの使用量は、(A)成分と(B)成
分とを付加反応させる際、(A)成分、(B)成分およ
び他の重合性モノマーの総量中、10〜70重量%、好
ましくは15〜50重量%であるこ吉が好ましい。他の
重合性モノマーの使用量が10重量%未満では、高粘度
の組成物となり、取り扱い上、工業化の際の生産上好ま
しくなく、また70重量%より多い場合は(A)成分が
有する高屈折性が生かされないので好ましくない。
分とを付加反応させる際、(A)成分、(B)成分およ
び他の重合性モノマーの総量中、10〜70重量%、好
ましくは15〜50重量%であるこ吉が好ましい。他の
重合性モノマーの使用量が10重量%未満では、高粘度
の組成物となり、取り扱い上、工業化の際の生産上好ま
しくなく、また70重量%より多い場合は(A)成分が
有する高屈折性が生かされないので好ましくない。
他の重合性モノマー中で付加反応させて調製する場合に
おいて、付加反応温度等の付加反応条件や付加反応用塩
基触媒の除去を必要とする場合の条件は、前記の予め溶
媒中で付加反応を行いポリチオエーテル骨格を有するプ
レポリマーを合成する場合と同様に行なわれる。
おいて、付加反応温度等の付加反応条件や付加反応用塩
基触媒の除去を必要とする場合の条件は、前記の予め溶
媒中で付加反応を行いポリチオエーテル骨格を有するプ
レポリマーを合成する場合と同様に行なわれる。
かくして得られるポリチオエーテル4格を有するブ1ノ
ボリマーを含む硬化性組成物は、組成物中のプレポリマ
ーの分子末端が重合性ビニル基でキャッピングされた構
造を有し、貯蔵安定性に優れている。
ボリマーを含む硬化性組成物は、組成物中のプレポリマ
ーの分子末端が重合性ビニル基でキャッピングされた構
造を有し、貯蔵安定性に優れている。
この硬化性組成物には、前記ポリチオエーテル骨格を有
するプレポリマーと共重合可能な他の重合性モノマーを
さらに配合して使用してもよい。
するプレポリマーと共重合可能な他の重合性モノマーを
さらに配合して使用してもよい。
他の重合性モノマー中で付加反応させるときに使用され
る重合性モノマーより反応性の高い重合性モノマーも併
用する場合には特にこの方法は有用である。
る重合性モノマーより反応性の高い重合性モノマーも併
用する場合には特にこの方法は有用である。
4.4′−ビス(メタクリロイルチオ)ジフェニルスル
フィド、ポリチオール類および他の重合性モノマーを単
に混合した組成物は、安定性が十分でなく、それから得
られる硬化物は均質性に劣るという問題かあるのに対し
、本発明に係る硬化性組成物は室温で20時間以上放置
してもゲル化せず、粘度が上昇することはほとんどなく
極めて安定であり、硬化性組成物を硬化して得られる硬
化物は光学的均一性に優れている。
フィド、ポリチオール類および他の重合性モノマーを単
に混合した組成物は、安定性が十分でなく、それから得
られる硬化物は均質性に劣るという問題かあるのに対し
、本発明に係る硬化性組成物は室温で20時間以上放置
してもゲル化せず、粘度が上昇することはほとんどなく
極めて安定であり、硬化性組成物を硬化して得られる硬
化物は光学的均一性に優れている。
本発明に係る硬化性組成物は、ラジカル重合によって硬
化させることができる。ラジカル重合において用いられ
るラジカル重合開始剤は、熱、マイクロ波、赤外線、ま
たは紫外線によってラジカルを生成し得るものであれば
いずれのラジカル重合開始剤の使用も可能であり、硬化
性組成物の用途、目的に応じて適宜選択することができ
る。
化させることができる。ラジカル重合において用いられ
るラジカル重合開始剤は、熱、マイクロ波、赤外線、ま
たは紫外線によってラジカルを生成し得るものであれば
いずれのラジカル重合開始剤の使用も可能であり、硬化
性組成物の用途、目的に応じて適宜選択することができ
る。
熱、マイクロ波、赤外線による重合に際して使用できる
ラジカル開始剤としては、例えば2.2’アゾビスイソ
ブチロニトリル、2.2′−アゾビスイソバレロニトリ
ル、2.2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニト
リル)等のアゾ系化合物、メチルエチルケトンパーオキ
シド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘ
キサノンパーオキシド、アセチルアセトンパーオキシド
等のケトンパーオキシド類、イソブチリルパーオキシド
、2.4−ジクロロベンゾイルパーオキシド、0−メチ
ルベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、
p−クロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオ
キシド類、2.4.41リメチルペンチルー2−ヒドロ
パーオキシド、ジイソプロピルベンゼンパーオキシド、
クメンヒドロパーオキシド、t−ブチルパーオキシド等
のヒドロパーオキシド類、ジクミルパーオキシド、t−
ブチルクミルパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシ
ド、トリス(t−ブチルパーオキシ)トリアジン等のジ
アルキルパーオキシド類、1.1−ジ−t−ブチルパー
オキシシクロヘキサン、2.2−ジ(t−ブチルパーオ
キシ)ブタン等のパーオキシケタール類、t−ブチルパ
ーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチ
ルヘキサノエート、1−ブチルパーオキシイソブチレー
ト、ジ−t−ブチルパーオキシへキサヒドロテレフタレ
ート、ジ−t−ブチルパーオキシアゼレート、t〜ブチ
ルパーオキシ−3,5,5−1リメチルヘキサノエート
、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオ
キシベンゾエート、ジーt−プチルパーオ紫外線による
重合に際して使用できるラジカル重合開始剤としては、
例えばアセトフェノン、2.2−ジメトキシ−2−フェ
ニルアセトフェノン、2.2−ジェトキシアセトフェノ
ン、4′−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチル
アントラキノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオ
フェノン、4.4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフ
ェノン、ベンゾフェノン、メチル(0−ベンゾイル)ベ
ンゾエート、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−
2−(0−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニ
ル−1,2−プロパンジオン−2−(o−ベンゾイル)
オキシム、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオク
チルエーテル、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、
ベンジルジエチルケタール、ジアセチル等のカルボニル
化合物、メチルアントラキノン、クロロアントラキノン
、クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、
2−イソプロピルチオキサントン等のアントラキノンま
たはチオキサントン誘導体、ジフェニルジスルフィド、
ジチオカーバメート等の硫黄化合物があげられる。
ラジカル開始剤としては、例えば2.2’アゾビスイソ
ブチロニトリル、2.2′−アゾビスイソバレロニトリ
ル、2.2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニト
リル)等のアゾ系化合物、メチルエチルケトンパーオキ
シド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘ
キサノンパーオキシド、アセチルアセトンパーオキシド
等のケトンパーオキシド類、イソブチリルパーオキシド
、2.4−ジクロロベンゾイルパーオキシド、0−メチ
ルベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、
p−クロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオ
キシド類、2.4.41リメチルペンチルー2−ヒドロ
パーオキシド、ジイソプロピルベンゼンパーオキシド、
クメンヒドロパーオキシド、t−ブチルパーオキシド等
のヒドロパーオキシド類、ジクミルパーオキシド、t−
ブチルクミルパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシ
ド、トリス(t−ブチルパーオキシ)トリアジン等のジ
アルキルパーオキシド類、1.1−ジ−t−ブチルパー
オキシシクロヘキサン、2.2−ジ(t−ブチルパーオ
キシ)ブタン等のパーオキシケタール類、t−ブチルパ
ーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチ
ルヘキサノエート、1−ブチルパーオキシイソブチレー
ト、ジ−t−ブチルパーオキシへキサヒドロテレフタレ
ート、ジ−t−ブチルパーオキシアゼレート、t〜ブチ
ルパーオキシ−3,5,5−1リメチルヘキサノエート
、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオ
キシベンゾエート、ジーt−プチルパーオ紫外線による
重合に際して使用できるラジカル重合開始剤としては、
例えばアセトフェノン、2.2−ジメトキシ−2−フェ
ニルアセトフェノン、2.2−ジェトキシアセトフェノ
ン、4′−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチル
アントラキノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオ
フェノン、4.4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフ
ェノン、ベンゾフェノン、メチル(0−ベンゾイル)ベ
ンゾエート、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−
2−(0−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニ
ル−1,2−プロパンジオン−2−(o−ベンゾイル)
オキシム、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオク
チルエーテル、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、
ベンジルジエチルケタール、ジアセチル等のカルボニル
化合物、メチルアントラキノン、クロロアントラキノン
、クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、
2−イソプロピルチオキサントン等のアントラキノンま
たはチオキサントン誘導体、ジフェニルジスルフィド、
ジチオカーバメート等の硫黄化合物があげられる。
ラジカル重合開始剤の使用量は、ラジカル重合開始剤の
種類、仕込モノマーの種類および組成比により変化する
ので一概には決められないが、通常はポリチオエーテル
骨格を有するプレポリマーを含む硬化性組成物の総量に
対して0.001〜20モル%の範囲、好ましくは0.
01〜10モル%の範囲である。ラジカル重合開始剤の
使用量がO,[101モル%未満では、重合が実質的に
進まず、また20モル%を越える使用量では、経済的で
ないばかりか場合によっては重合中に発泡したり、重合
によって得られる硬化物の分子量が著しく小さくなるた
めに好ましくない。
種類、仕込モノマーの種類および組成比により変化する
ので一概には決められないが、通常はポリチオエーテル
骨格を有するプレポリマーを含む硬化性組成物の総量に
対して0.001〜20モル%の範囲、好ましくは0.
01〜10モル%の範囲である。ラジカル重合開始剤の
使用量がO,[101モル%未満では、重合が実質的に
進まず、また20モル%を越える使用量では、経済的で
ないばかりか場合によっては重合中に発泡したり、重合
によって得られる硬化物の分子量が著しく小さくなるた
めに好ましくない。
また、本発明に係る硬化性組成物には、必要に応じて重
合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、離型剤、帯電防
止剤およびその他の添加剤を添加することができる。
合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、離型剤、帯電防
止剤およびその他の添加剤を添加することができる。
硬化性組成物の硬化に際しての重合温度および重合時間
については、使用するラジカル重合開始剤の種類および
その使用量により異なるため一概には規定てきないか、
重合温度については通常0〜200℃の範囲が好ましく
、重合時間については通常05〜50時間の範囲が好ま
しい。
については、使用するラジカル重合開始剤の種類および
その使用量により異なるため一概には規定てきないか、
重合温度については通常0〜200℃の範囲が好ましく
、重合時間については通常05〜50時間の範囲が好ま
しい。
次にプラスチックレンズの製造方法について説明する。
プラスチックレンズは柔軟性を有する環状の合成樹脂性
カスケラトを介して隔て合わされた曲率半径の異なる2
個のガラス製モールドを組み合わせた空隙内に、ラジカ
ル開始剤及び紫外線開始剤等の添加剤を溶解混合させた
プレポリマーを注入し2、加熱炉中て硬化させる。重合
温度については製造するレンズの厚さ、使用するラジカ
ル開始剤により異なるか通常30°C〜+50℃の範囲
が好まし7く、重合時間については生産性の点から05
〜20時間の範囲が好ましい。加熱硬化後、環状ガスケ
ットを取り除き、次いてガラスモールドを熱衝撃または
モール1間に楔を打ち込む等の手段で取外すことによっ
てレンズを得ることかできる。
カスケラトを介して隔て合わされた曲率半径の異なる2
個のガラス製モールドを組み合わせた空隙内に、ラジカ
ル開始剤及び紫外線開始剤等の添加剤を溶解混合させた
プレポリマーを注入し2、加熱炉中て硬化させる。重合
温度については製造するレンズの厚さ、使用するラジカ
ル開始剤により異なるか通常30°C〜+50℃の範囲
が好まし7く、重合時間については生産性の点から05
〜20時間の範囲が好ましい。加熱硬化後、環状ガスケ
ットを取り除き、次いてガラスモールドを熱衝撃または
モール1間に楔を打ち込む等の手段で取外すことによっ
てレンズを得ることかできる。
次に、コーティングされたレンズにつき、特にレンズ表
面に設けるプライマー層、ハードコート層、反射防止層
について以下説明する。
面に設けるプライマー層、ハードコート層、反射防止層
について以下説明する。
アクリル系ブライマー層はレンズ基材とバートコ−1・
層との密着性を向トさせるために設けるものである。プ
ライマー層の主成分となる(メタ)アクリル系重合体と
してはアクリル酸及びメタクリル酸とメタノール、エタ
ノール、n−プロピルアルコール、n−ブチルアルコー
ル等の低級アルコールとのエステルの1種または2種以
上の共重合体からなり、必要に応して他のビニル系モノ
マーヲ含んでいてもよい。他のビニル系モノマーとして
は(メタ)アクリロイル基と重合可能なものであれば特
に限定はないが、芳香族性ビニル化合物との共重合体は
レンズ基材上の親和性が向上するため好適である。
層との密着性を向トさせるために設けるものである。プ
ライマー層の主成分となる(メタ)アクリル系重合体と
してはアクリル酸及びメタクリル酸とメタノール、エタ
ノール、n−プロピルアルコール、n−ブチルアルコー
ル等の低級アルコールとのエステルの1種または2種以
上の共重合体からなり、必要に応して他のビニル系モノ
マーヲ含んでいてもよい。他のビニル系モノマーとして
は(メタ)アクリロイル基と重合可能なものであれば特
に限定はないが、芳香族性ビニル化合物との共重合体は
レンズ基材上の親和性が向上するため好適である。
共重合体の調製方法としては有機溶媒内でラジカル重合
させるか、または水中てノニオン系、或いは、アニオン
系界面活性剤を用いラジカル重合させてエマルジョンと
する方法がある。ラジカル重合を有機溶媒中で行うか、
或いは水中で行いエマルジョンとするかは使用する基材
レンズの濡れ性、或いは基材レンズとの密着性等により
選択し使用することかできる。有機溶媒中でラジカル重
合を行う場合の溶媒としては重合物が溶解するものであ
れば特に限定はない。このような溶媒の代表例としては
、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、エチ
レングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、四塩化炭素等の
塩基系溶媒が挙げられる。このようにして得られたポリ
マー溶液は、更に、蒸発速度、粘度の調整のため前述の
ような溶媒によって希釈して使うことが好適である。
させるか、または水中てノニオン系、或いは、アニオン
系界面活性剤を用いラジカル重合させてエマルジョンと
する方法がある。ラジカル重合を有機溶媒中で行うか、
或いは水中で行いエマルジョンとするかは使用する基材
レンズの濡れ性、或いは基材レンズとの密着性等により
選択し使用することかできる。有機溶媒中でラジカル重
合を行う場合の溶媒としては重合物が溶解するものであ
れば特に限定はない。このような溶媒の代表例としては
、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、エチ
レングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、四塩化炭素等の
塩基系溶媒が挙げられる。このようにして得られたポリ
マー溶液は、更に、蒸発速度、粘度の調整のため前述の
ような溶媒によって希釈して使うことが好適である。
また必要に応じて、シリコン系或いは、フッ素系界面活
性剤を添加して塗装性を改良させることも有用である。
性剤を添加して塗装性を改良させることも有用である。
更に基材の耐候性を改善させる目的で紫外線吸収剤を溶
液中に添加しておくことも有用である。ラジカル重合を
水中で行いエマルジョンとする場合には、重合液蒸発速
度、粘度の調整のためメタノール、エタノール、1−プ
ロピルアルコール等のアルコール類やメチルセロソルブ
、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、さらにジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等の水溶性溶媒で希釈して用い
ることかできる。また有機溶媒中でラジカル重合を行う
場合同様に塗装性改善の為にシリコン系、或いはフッ素
系界面活性剤を加えることや、或いは耐候性改善の為紫
外線吸収剤を添加してもよい。ブライマーの塗布方法と
しては浸漬法、スピンコード法、スプレー法から任意の
方法を選んで使用することか可能である。プライマー層
の厚みは01〜30μmの間で任意に使用することがで
きる。より好ましくは02〜30μmの厚さてあり、0
1μm未満であると密着性か充分てなく、3.0μmを
越えると均一に塗布することか難しい。プライマー層を
厚くするためには、プライマー液の濃度をあげるか、ま
たは引き上げ速度を速くすればよい。また乾燥はプライ
マー液の溶媒により異なるが、60〜150℃の温度で
2〜60分間加熱させることにより均一な膜とすること
ができる。乾燥温度が60℃以下であると十分な乾燥を
行うためには長時間かかり、また150℃以上では基材
レンズが黄色に変色してしまう。また乾燥時間について
は2分以下では乾燥が不十分になりハードコート塗布の
際白化生じやすく、また乾燥時間が60分以上であると
生産性の点から効率的ではない。
液中に添加しておくことも有用である。ラジカル重合を
水中で行いエマルジョンとする場合には、重合液蒸発速
度、粘度の調整のためメタノール、エタノール、1−プ
ロピルアルコール等のアルコール類やメチルセロソルブ
、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、さらにジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等の水溶性溶媒で希釈して用い
ることかできる。また有機溶媒中でラジカル重合を行う
場合同様に塗装性改善の為にシリコン系、或いはフッ素
系界面活性剤を加えることや、或いは耐候性改善の為紫
外線吸収剤を添加してもよい。ブライマーの塗布方法と
しては浸漬法、スピンコード法、スプレー法から任意の
方法を選んで使用することか可能である。プライマー層
の厚みは01〜30μmの間で任意に使用することがで
きる。より好ましくは02〜30μmの厚さてあり、0
1μm未満であると密着性か充分てなく、3.0μmを
越えると均一に塗布することか難しい。プライマー層を
厚くするためには、プライマー液の濃度をあげるか、ま
たは引き上げ速度を速くすればよい。また乾燥はプライ
マー液の溶媒により異なるが、60〜150℃の温度で
2〜60分間加熱させることにより均一な膜とすること
ができる。乾燥温度が60℃以下であると十分な乾燥を
行うためには長時間かかり、また150℃以上では基材
レンズが黄色に変色してしまう。また乾燥時間について
は2分以下では乾燥が不十分になりハードコート塗布の
際白化生じやすく、また乾燥時間が60分以上であると
生産性の点から効率的ではない。
次にシリコン系ハードコート層について説明する。成分
は前記式(II[)で表わされる有機ケイ素化合物の1
種または2種以上の加水分解物である。
は前記式(II[)で表わされる有機ケイ素化合物の1
種または2種以上の加水分解物である。
有機ケイ素化合物の具体例としてはテトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラn−ブトキシシラン
等のテトラアルコキシシラン類、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシ
ラン類、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン等のトリアセトキシシラン類、ジメチルジメ
トキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のジアル
コキシシラン類等が上げられる。特に耐傷付き性向上の
目的には加水分解性基の多いテトラアルコキシシラン、
トリアルコキシシラン等の使用が望ましく、また耐衝撃
性向上の目的には加水分解性基の少ない有機ケイ素化合
物を使用するとともに、エポキシ基を含む有機ケイ素化
合物の使用が望ましい。加水分解性基は通常加水分解後
脱水縮合して硬化させる。そのため水、アルコール、セ
ロソルブ等の溶媒中で鉱酸、有機酸を触媒として加水と
の密着性向上の目的でコロイダルシリカを添加してもよ
い。使用されるコロイダルシリカの粒径としては1〜I
00nm、さらに望ましくは10〜+110nmが好適
である。粒径か]Onm以下であると耐傷付き性向上の
効果か小さく、また1100n以上であると透明性の低
下がおこり使用に適さなくなる。使用量としてはハード
コート液の固形分に対し10〜80重量%さらに望まし
くは30〜60重量%である。
ン、テトラエトキシシラン、テトラn−ブトキシシラン
等のテトラアルコキシシラン類、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシ
ラン類、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン等のトリアセトキシシラン類、ジメチルジメ
トキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のジアル
コキシシラン類等が上げられる。特に耐傷付き性向上の
目的には加水分解性基の多いテトラアルコキシシラン、
トリアルコキシシラン等の使用が望ましく、また耐衝撃
性向上の目的には加水分解性基の少ない有機ケイ素化合
物を使用するとともに、エポキシ基を含む有機ケイ素化
合物の使用が望ましい。加水分解性基は通常加水分解後
脱水縮合して硬化させる。そのため水、アルコール、セ
ロソルブ等の溶媒中で鉱酸、有機酸を触媒として加水と
の密着性向上の目的でコロイダルシリカを添加してもよ
い。使用されるコロイダルシリカの粒径としては1〜I
00nm、さらに望ましくは10〜+110nmが好適
である。粒径か]Onm以下であると耐傷付き性向上の
効果か小さく、また1100n以上であると透明性の低
下がおこり使用に適さなくなる。使用量としてはハード
コート液の固形分に対し10〜80重量%さらに望まし
くは30〜60重量%である。
30重量%未満であると反射防止層との密着性の点で効
果が小さく、また60重量%をこえるとクラックが発生
しやすくなる。分散媒としてはメタノール、エタノール
、j−プロピルアルコール等のアルコール類、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類または水
が望ましい。塗布方法としては浸漬法、スピンコード法
、スプレー法等が可能である。塗布後60°C〜80℃
で乾燥後を行いまたは行わず、80℃〜150℃の温度
で20〜120分間加熱することにより硬化させること
ができる。
果が小さく、また60重量%をこえるとクラックが発生
しやすくなる。分散媒としてはメタノール、エタノール
、j−プロピルアルコール等のアルコール類、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類または水
が望ましい。塗布方法としては浸漬法、スピンコード法
、スプレー法等が可能である。塗布後60°C〜80℃
で乾燥後を行いまたは行わず、80℃〜150℃の温度
で20〜120分間加熱することにより硬化させること
ができる。
硬化温度が80℃以下では十分な硬化のためには長時間
を要し、150℃以上では基材レンズが黄色に着色して
しまう。硬化時間は20分以下では硬化が十分でなく、
120分以上では生産性の点で効果的ではない。ハード
コート液においてもプライマー層と同様に基材の耐候性
改善の目的で紫外線吸収剤を用いることができる。
を要し、150℃以上では基材レンズが黄色に着色して
しまう。硬化時間は20分以下では硬化が十分でなく、
120分以上では生産性の点で効果的ではない。ハード
コート液においてもプライマー層と同様に基材の耐候性
改善の目的で紫外線吸収剤を用いることができる。
続いて反射防止層について遵明する。無機反射防止層は
真空蒸着法、ビオ−1バツタリング法により形成され、
S r O2B a o、 vo、 V203 。
真空蒸着法、ビオ−1バツタリング法により形成され、
S r O2B a o、 vo、 V203 。
VOV ONbO,NbO2,Nb2O5゜2’
2 5’ 良 Too Ta OCro、 Cr203 、 C
r O3。
2 5’ 良 Too Ta OCro、 Cr203 、 C
r O3。
2° 2 5゜
M o OlM o O1M o O3、WO,W2
03 。
03 。
WOMnO,Mn、、03.MnO2,Mn3O4゜3
゜ Mn O、Fed、Fe2O3,Fe3O4゜Coo
、Co OCo ONip、Cu2O。
゜ Mn O、Fed、Fe2O3,Fe3O4゜Coo
、Co OCo ONip、Cu2O。
23’34’
Cub、ZnO,ZnOGa O,Ga、、03゜2
′2 In O,I no、 I n203. Gem、
G e 02 。
′2 In O,I no、 I n203. Gem、
G e 02 。
SnO,SnO,、、PbO,Pb3O4,Pb2O3
゜PbOSin、S1o、、、ZnO,、、A/ 20
3゜2′ TiO、Ti2O3,MgO等の無機化合物特にS+0
.S+0 、ZrO2,AA203゜TiO、Ti2
O3,MgO等の単層、或いは多層膜として用いる。反
射防止効果の点から屈折率の異なるλ/4−λ/4−λ
/4の膜厚の3層膜、或いは3層以上の多層膜が効果的
である。
゜PbOSin、S1o、、、ZnO,、、A/ 20
3゜2′ TiO、Ti2O3,MgO等の無機化合物特にS+0
.S+0 、ZrO2,AA203゜TiO、Ti2
O3,MgO等の単層、或いは多層膜として用いる。反
射防止効果の点から屈折率の異なるλ/4−λ/4−λ
/4の膜厚の3層膜、或いは3層以上の多層膜が効果的
である。
このようにして得られる高屈折率レンズは吸水性が低く
、耐傷付き性に優れ、反射防止効果の高い実用的なレン
ズである。
、耐傷付き性に優れ、反射防止効果の高い実用的なレン
ズである。
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明する。
説明する。
なお下記の実施例によって得られた高屈折率レンズにつ
いての評価は下記の方法によって行った。
いての評価は下記の方法によって行った。
1、硬化性組成物の評価法
(1) モノマー粘度
B型粘度計(東京計器製、BL型)を用い、25℃にお
ける粘度を測定した。
ける粘度を測定した。
(2) モノマーの貯蔵安定性
空気中、40℃て静置保存した時に、ゲル分が発生する
までの時間か20時間以上の場合のものを◎、10〜2
0時間のものを○、10時間以下のものを×とした。
までの時間か20時間以上の場合のものを◎、10〜2
0時間のものを○、10時間以下のものを×とした。
2、硬化物の評価法
(1) 硬化物の屈折率
アツベ屈折計(島津製作所製、3L型)を用いて、20
℃における屈折率を測定した。
℃における屈折率を測定した。
(2) 光透過率
分光光度計(日立製作新製、 +50−20型)を用い
て、波長500nmの光による厚さ3IIII11の平
板の透過率の測定を行った。
て、波長500nmの光による厚さ3IIII11の平
板の透過率の測定を行った。
(3) ガラス転移温度(Tg)
粘弾性測定装置(オリエンチック社製、レオパイブロン
DDV −II −E P型)を用いて厚さ01mmの
試料について測定しtanδのピーク温度をガラス転移
温度(Tg)とした。
DDV −II −E P型)を用いて厚さ01mmの
試料について測定しtanδのピーク温度をガラス転移
温度(Tg)とした。
(4)吸水率
JIS−に−7209の試験片を用い、50℃で5日間
減圧乾燥させたサンプルを100℃の水中に2時間浸漬
した際の重量増加の割合を乾燥重量を基準に17で示し
た。
減圧乾燥させたサンプルを100℃の水中に2時間浸漬
した際の重量増加の割合を乾燥重量を基準に17で示し
た。
3、ブライマー、ハードコート、反射防止層を設けたレ
ンズ形状での評価 (1) 耐傷付き性 #00θスチールウールを用い荷重5[10g/’cn
?て50往復させた後の表面の状態を透過て傷の本数を
観察し以下の基準に従った。
ンズ形状での評価 (1) 耐傷付き性 #00θスチールウールを用い荷重5[10g/’cn
?て50往復させた後の表面の状態を透過て傷の本数を
観察し以下の基準に従った。
A まったく傷か観察されない。
B:1〜3本の傷が観察される
C:4〜10本の傷が観察される
D : lf1本以上の傷が観察される(2)密着性
サンシャインウニサオメータ(スガ試験機製)を用い2
40時間後にクロスハツチテスト(レンズ表面にナイフ
で1 mm間隔て100個のマスをつくりセロハンテー
プで接着後剥離する)を行ない密着しているマス目の数
で示した。
40時間後にクロスハツチテスト(レンズ表面にナイフ
で1 mm間隔て100個のマスをつくりセロハンテー
プで接着後剥離する)を行ない密着しているマス目の数
で示した。
(3) 光透過率
分光光度計(日立製作新製、 +50−20型)を用
い、波長500nmの光により中心厚1.2mmの一2
Dレンズの中心部で測定した。
い、波長500nmの光により中心厚1.2mmの一2
Dレンズの中心部で測定した。
実施例 ]
(1) レンズ基材の調製
21のセパラブルフラスコに、撹拌機、滴下ロートをセ
ットし、室温で4.4′−ビス(メタクリロイルチオ)
ジフェニルスルフ4ト500み、蒸留ジクロロメタン6
00m1に溶解させた。窒素気流下、撹拌を続けながら
、室温にてジエチルアミン0.8gを添加し、次にエヂ
レングリコールジチオグリコレート50gを滴下しなが
ら加えた。
ットし、室温で4.4′−ビス(メタクリロイルチオ)
ジフェニルスルフ4ト500み、蒸留ジクロロメタン6
00m1に溶解させた。窒素気流下、撹拌を続けながら
、室温にてジエチルアミン0.8gを添加し、次にエヂ
レングリコールジチオグリコレート50gを滴下しなが
ら加えた。
反応温度は、25℃〜35℃に制御した。その後、さら
に3時間撹拌を続け、反応を完結させた。反応の終結は
〜’olhatd法によるメルカプト基の分析において
メルカプト基の消失を確認することによって判断した。
に3時間撹拌を続け、反応を完結させた。反応の終結は
〜’olhatd法によるメルカプト基の分析において
メルカプト基の消失を確認することによって判断した。
反応終了後、強塩基吸着用無機吸着剤(協和化学工業■
製,キョーワード700SL)を50g添加して、ジエ
チルアミンを除去した。吸着剤をp別後、減圧濃縮し、
高粘度シロップ状の液体を得た。この液体400gをス
チレン182gで希釈し、低粘度の組成物を得た。
製,キョーワード700SL)を50g添加して、ジエ
チルアミンを除去した。吸着剤をp別後、減圧濃縮し、
高粘度シロップ状の液体を得た。この液体400gをス
チレン182gで希釈し、低粘度の組成物を得た。
得られた硬化性組成物100重量部にアゾビスイソブチ
ロニトリル0.3重量部を混合、溶解し7たものを、2
枚漆鋏ラスの間隔が3mm及びO.Immに設定された
モールドおよび硬化後に中心1’¥1.2mm、度数−
2.[lODとなるように設計されたレンズ成形用ガラ
スモールド内へ注入した。これらの注型物を熱風炉中で
35℃,6時間保持後、5時間かけて80℃まで昇温し
、その後、80℃で2時間保持して硬化させた。脱型後
、100℃で2時間アニーリング処理した。
ロニトリル0.3重量部を混合、溶解し7たものを、2
枚漆鋏ラスの間隔が3mm及びO.Immに設定された
モールドおよび硬化後に中心1’¥1.2mm、度数−
2.[lODとなるように設計されたレンズ成形用ガラ
スモールド内へ注入した。これらの注型物を熱風炉中で
35℃,6時間保持後、5時間かけて80℃まで昇温し
、その後、80℃で2時間保持して硬化させた。脱型後
、100℃で2時間アニーリング処理した。
(2) プライマー液の調製及び塗布撹拌機を付けた
11のセパラブルフラスコに、メチルメタクリレ−)5
0g、n〜ブチルアクリレート50g1溶媒としてエチ
ルセロソルブ200 g 。
11のセパラブルフラスコに、メチルメタクリレ−)5
0g、n〜ブチルアクリレート50g1溶媒としてエチ
ルセロソルブ200 g 。
ラジカル開始剤としてベンゾイルパーオキサイド0.5
gを加え撹拌溶解し窒素雰囲気下で85℃、4時間、つ
いで]H0C3(1分加熱撹拌し共重合させた。
gを加え撹拌溶解し窒素雰囲気下で85℃、4時間、つ
いで]H0C3(1分加熱撹拌し共重合させた。
この溶液50gにエチルセロソルブ200gを加え希釈
し、さらにシリコン系界面活性剤Y−7001(日本ユ
ニカ■製)0.05gを加えてプライマー液とした。
し、さらにシリコン系界面活性剤Y−7001(日本ユ
ニカ■製)0.05gを加えてプライマー液とした。
このプライマー液を3.0μm孔のガラスフィルターで
濾過しだ後(1)で調製した基材レンズに引き上げ速度
30 cm /分でディッピングを行った。
濾過しだ後(1)で調製した基材レンズに引き上げ速度
30 cm /分でディッピングを行った。
ディッピング後直ちに1011℃、5分の乾燥を行い均
一な膜を得ることができた。なお接触式表面荒さ計によ
り膜厚を測定したところ04μmであった。
一な膜を得ることができた。なお接触式表面荒さ計によ
り膜厚を測定したところ04μmであった。
(3) ハードコート液の調製及び塗布撹拌機を付け
たIIのセパラブルフラスコにイソプロピルアルコール
分散コロイダルシリカ(日産化学工業■製、固形分30
%)300g及び4−エトキシケイ素65.7g、メチ
ルトリエトキシケイ素33、4 gを加え更にイソプロ
ピルアルコール70g。
たIIのセパラブルフラスコにイソプロピルアルコール
分散コロイダルシリカ(日産化学工業■製、固形分30
%)300g及び4−エトキシケイ素65.7g、メチ
ルトリエトキシケイ素33、4 gを加え更にイソプロ
ピルアルコール70g。
0.05N塩酸30gを加え室温で撹拌し加水分解を行
った後24時間以上熟成する。さらにこの液100gに
n−ブタノール80g1酢酸40g1酢酸ナトリウム0
.4gを添加しハードコート液とした。
った後24時間以上熟成する。さらにこの液100gに
n−ブタノール80g1酢酸40g1酢酸ナトリウム0
.4gを添加しハードコート液とした。
このハードコート液を30μm孔のガラスフィルターで
濾過した液に(2)で得られたレンズを引き上げ速度3
0an/分でディッピングした。引き上げ後直ちに12
0℃、2時間加熱硬化させ、均一なハードコート膜を得
ることができた。接触式表面荒さ計により膜厚を測定し
たところ先のプライマー層と合わせ3.0μmであった
。
濾過した液に(2)で得られたレンズを引き上げ速度3
0an/分でディッピングした。引き上げ後直ちに12
0℃、2時間加熱硬化させ、均一なハードコート膜を得
ることができた。接触式表面荒さ計により膜厚を測定し
たところ先のプライマー層と合わせ3.0μmであった
。
(4)反射防止層の調製
(3)で得られたレンズを1. OX 1O−51or
rの真空中でレンズ側から5I02(第1層)、Zr0
2(第2層)、SiO(第3層)、ZrO2(第4層)
、3102(第5層)の計5層の蒸着膜を設けた。それ
ぞれの膜厚はl/4λ(第1層)、1/4λ(第2層と
第3層の合計膜厚) 、l/4λ(第4層) 、]/4
λ(第5層)である。なお設計波長λは520nmで行
った。
rの真空中でレンズ側から5I02(第1層)、Zr0
2(第2層)、SiO(第3層)、ZrO2(第4層)
、3102(第5層)の計5層の蒸着膜を設けた。それ
ぞれの膜厚はl/4λ(第1層)、1/4λ(第2層と
第3層の合計膜厚) 、l/4λ(第4層) 、]/4
λ(第5層)である。なお設計波長λは520nmで行
った。
実施例1の評価結果は第2表に示した。第2表に示すよ
うにこの処方によって得られたレンズは透過率が高く、
耐傷付き性も良好であった。
うにこの処方によって得られたレンズは透過率が高く、
耐傷付き性も良好であった。
実施例 2
(1) レンズ基材の調製
21のセパラブルフラスコに、撹拌機、滴下ロートをセ
ットし、室温で4.4′−ビス(メタクリロイルチオ)
ジフェニルスルフィド500gおよびスチレン250g
を仕込み、強く撹拌して溶解させた。窒素気流下、撹拌
を続けながら、室温にてジエチルメチルアミン0,8g
を添加し、次に、エチレングリコールジチオグリコレー
ト50gを滴下ロートで滴下しながら加えた。反応温度
は、25℃〜35℃に制御した。その後、さらに3時間
撹拌を続け、反応を完結させた。反応の終結はVolh
ard法によるメルカプト基の分析においてメルカプト
基の消失を確認することによって判断した。反応終了後
、強塩基吸着用無機吸着剤(協和化学工業■製、キョー
ワード700SL)を40g添加して、ジエチルメチル
アミンを除去した。吸着剤を炉別し、液状の硬化性組成
物を得た。得られた硬化性組成物は実施例1と同様にガ
ラスモールド内で加熱硬化させ、硬化物及びレンズ基材
を得た。
ットし、室温で4.4′−ビス(メタクリロイルチオ)
ジフェニルスルフィド500gおよびスチレン250g
を仕込み、強く撹拌して溶解させた。窒素気流下、撹拌
を続けながら、室温にてジエチルメチルアミン0,8g
を添加し、次に、エチレングリコールジチオグリコレー
ト50gを滴下ロートで滴下しながら加えた。反応温度
は、25℃〜35℃に制御した。その後、さらに3時間
撹拌を続け、反応を完結させた。反応の終結はVolh
ard法によるメルカプト基の分析においてメルカプト
基の消失を確認することによって判断した。反応終了後
、強塩基吸着用無機吸着剤(協和化学工業■製、キョー
ワード700SL)を40g添加して、ジエチルメチル
アミンを除去した。吸着剤を炉別し、液状の硬化性組成
物を得た。得られた硬化性組成物は実施例1と同様にガ
ラスモールド内で加熱硬化させ、硬化物及びレンズ基材
を得た。
(2) プライマー液の調製及び塗布アクリル系エマ
ルジョンとして市販されているポリゾールF341C昭
和高分子■製、固形分40%)を用いた。即ち、該水性
エマルジョン40gに撹拌下メタノール100 g 、
イソプロピルアルコール60g1メチルセロソルブ60
g1プロピレングリコールモノメチルエーテル20gを
この順に加えた。更にシリコン系界面活性剤Y−700
1(日本ユニカ■製)0、Ig加えてプライマー液とし
た。
ルジョンとして市販されているポリゾールF341C昭
和高分子■製、固形分40%)を用いた。即ち、該水性
エマルジョン40gに撹拌下メタノール100 g 、
イソプロピルアルコール60g1メチルセロソルブ60
g1プロピレングリコールモノメチルエーテル20gを
この順に加えた。更にシリコン系界面活性剤Y−700
1(日本ユニカ■製)0、Ig加えてプライマー液とし
た。
このプライマー液を3.0μmのガラスフィルターで濾
過した液に(1)で調製した基材レンズを引き上げ速度
30■/分でディッピングした。デイ、。
過した液に(1)で調製した基材レンズを引き上げ速度
30■/分でディッピングした。デイ、。
ピング後直ちに100°C910分の乾燥を行い均一な
膜とした。実施例1と同様の方法で膜厚を測定したとこ
ろ0.3μmであった。
膜とした。実施例1と同様の方法で膜厚を測定したとこ
ろ0.3μmであった。
(3) ハードコート液の調製及び塗布撹拌機を付け
た11のセパラブルフラスコにメタノールシリカゾル(
日産化学工業■製、固形分30%9粒子径10〜20n
m) 300gにγグリシドキシプロビルトリメトキシ
ケイ素100gを加え室温下撹拌溶解させ、更に0.0
5N塩酸を滴下し加水分解する。滴下終了後更にイソプ
ロピルアルコール1(log、紫外線吸収剤として2.
2’ 、 4.4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン
2.0gを加え撹拌し室温にて24時間熟成させハード
コート液とした。
た11のセパラブルフラスコにメタノールシリカゾル(
日産化学工業■製、固形分30%9粒子径10〜20n
m) 300gにγグリシドキシプロビルトリメトキシ
ケイ素100gを加え室温下撹拌溶解させ、更に0.0
5N塩酸を滴下し加水分解する。滴下終了後更にイソプ
ロピルアルコール1(log、紫外線吸収剤として2.
2’ 、 4.4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン
2.0gを加え撹拌し室温にて24時間熟成させハード
コート液とした。
このハードコート液を3.0μm孔のガラスフィルター
で濾過した後、実施例1と同様の方法で(2)で得られ
たレンズに塗布及び硬化を行った。この時の膜厚はブラ
イマー層と合オ〕ゼて2.5μmであった。
で濾過した後、実施例1と同様の方法で(2)で得られ
たレンズに塗布及び硬化を行った。この時の膜厚はブラ
イマー層と合オ〕ゼて2.5μmであった。
(4) 反射防止層の調製
反射防止層は実施例1とすべて同様に調製した。
実施例2の評価結果は第2表に示した。第2表に示すよ
うにこの処方によって得られたレンズは透過率が高く、
耐傷付き性も良好であった。
うにこの処方によって得られたレンズは透過率が高く、
耐傷付き性も良好であった。
実施例 3
(1) レンズ基材の調製
レンズ基材の調製は実施例2とすべて同様に行った。
(2) プライマー液の調製及び塗布アクリル系水性
エマルジョンとして市販されているポリゾールF34]
(昭和高分子■製、固形分40%)を用いた。即ち、該
水性エマルション40gにイソプロピルアルコール20
0 g 、メチルエチルケトン80g1メチルセロソル
ブ120gをこの順に撹拌下加えた。更にシリコン系界
面活性剤Y−7001(日本ユニ力@))0.2g加え
プライマー液とした。
エマルジョンとして市販されているポリゾールF34]
(昭和高分子■製、固形分40%)を用いた。即ち、該
水性エマルション40gにイソプロピルアルコール20
0 g 、メチルエチルケトン80g1メチルセロソル
ブ120gをこの順に撹拌下加えた。更にシリコン系界
面活性剤Y−7001(日本ユニ力@))0.2g加え
プライマー液とした。
このプライマー液を30μmのカラスフィルターで濾過
した液に(1)で調製した基材レンズを引き上げ速度3
Qan/分でディッピングした。ディッピング後直ちに
100℃、3分の乾燥を行い均一な膜とした。実施例1
と同様の方法で膜厚を測定したところ0.5I1mであ
った。
した液に(1)で調製した基材レンズを引き上げ速度3
Qan/分でディッピングした。ディッピング後直ちに
100℃、3分の乾燥を行い均一な膜とした。実施例1
と同様の方法で膜厚を測定したところ0.5I1mであ
った。
(3) ハードコート液の調製及び塗布ハードコート
液としては市販の81コート−2(第八化学工業所■製
)を使用した。即ち、該ハードコート液500 gに紫
外線吸収剤として2、2’ 、 4.4’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノンを1.0gを加えハードコート液
とした。
液としては市販の81コート−2(第八化学工業所■製
)を使用した。即ち、該ハードコート液500 gに紫
外線吸収剤として2、2’ 、 4.4’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノンを1.0gを加えハードコート液
とした。
このハードコート液を30μmのガラスフィルターで濾
過した後実施例1と同様の方法でディッピングを行った
。なお膜厚は40μmであった。
過した後実施例1と同様の方法でディッピングを行った
。なお膜厚は40μmであった。
(4) 反射防止層の調製
反射防止層は実施例1とすべて同様に調製した。
実施例3の評価結果は第2表に示した。第2表に示すよ
うにこの処方によって得られたレンズは透過率が高く、
耐傷付き性も良好であった。
うにこの処方によって得られたレンズは透過率が高く、
耐傷付き性も良好であった。
実施例 4
レンズ基材の調製については(B)成分の種類及び量以
外すべて実施例1の条件に従った。なお(B)成分の種
類及び量は第1表に示した。
外すべて実施例1の条件に従った。なお(B)成分の種
類及び量は第1表に示した。
プライマー液の調製及び塗布、ハードコート液の調製及
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例1の条件で行
った。
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例1の条件で行
った。
実施例4の評価結果は第2表に示した。
実施例 5
レンズ基材の調製については(B)成分の種類及び量以
外すべて実施例1の条件に従った。なお(B)成分の種
類及び量は第1表に示した。
外すべて実施例1の条件に従った。なお(B)成分の種
類及び量は第1表に示した。
プライマー液の調製及び塗布、ハードコート液の調製及
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例1の条件で行
った。
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例1の条件で行
った。
実施例5の評価結果は第2表に示17た。
実施例 6
レンズ基材の調製については(B)成分の種類及び量以
外すべて実施例1の条件に従った3、なお(B)成分の
種類及び量は第1表に示した。
外すべて実施例1の条件に従った3、なお(B)成分の
種類及び量は第1表に示した。
プライマー液の調製及び塗布、ハートコート液の調製及
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例1の条件で行
った。
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例1の条件で行
った。
実施例6の評価結果は第2表に示した。
実施例 7
レンズ基材の調製については(B)成分の種類及び意思
外すべて実施例1の条件に従った。なお(B)成分の種
類及び量は第1表に示した。
外すべて実施例1の条件に従った。なお(B)成分の種
類及び量は第1表に示した。
プライマー液の調製及び塗布、ハードコート液の調製及
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例1の条件で行
った。
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例1の条件で行
った。
実施例7の評価結果は第2表に示した。
実施例 8
レンズ基材の調製については(B)成分の種類及び意思
外すべて実施例2の条件に従った。なお(B)成分の種
類及び量は第1表に示した。
外すべて実施例2の条件に従った。なお(B)成分の種
類及び量は第1表に示した。
プライマー液の調製及び塗布、ハードコート液の調製及
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例2の条件で行
った。
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例2の条件で行
った。
実施例8の評価結果は第2表に示した。
実施例 9
レンズ基材の調製については(B)成分の種類及び意思
外すべて実施例2の条件に従った。なお(B)成分の種
類及び量は第1表に示した。
外すべて実施例2の条件に従った。なお(B)成分の種
類及び量は第1表に示した。
プライマー液の調製及び塗布、ハードコート液の調製及
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例1の条件で行
った。
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例1の条件で行
った。
実施例9の評価結果は第2表に示した。
実施例 10
レンズ基材の調製については(B)成分の種類及び意思
外すべて実施例2の条件に従った。なお(B)成分の種
類及び量は第1表に示した。
外すべて実施例2の条件に従った。なお(B)成分の種
類及び量は第1表に示した。
プライマー液の調製及び塗布、ハードコート液の調製及
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例2の条件で行
った。
び塗布、反射防止層の調製はすべて実施例2の条件で行
った。
実施例10の評価結果は第2表に示した。
比較例 1
アミン触媒による付加反応を行わない以外は実施例2と
同様に行った。比較例1の評価結果は第2表に示した。
同様に行った。比較例1の評価結果は第2表に示した。
比較例 2
レンズ基材の調製については(B)成分の意思外すべて
実施例20条件に従った。なお(B)成分の量は第1表
に示した。
実施例20条件に従った。なお(B)成分の量は第1表
に示した。
プライマー液の調製及び塗布、ハードコート液の調製及
び塗布、反射防止層の調製は実施例2の条件で行った。
び塗布、反射防止層の調製は実施例2の条件で行った。
比較例2の評価結果は第2表に示した。
比較例 3
レンズ基材の調製、ハードコート液の調製及び塗布、反
射防止層の調製は実施例2の条件で行った。
射防止層の調製は実施例2の条件で行った。
プライマー液は実施例2で用いたプライマー液lugに
メタノール300gを加え希釈し使用した。
メタノール300gを加え希釈し使用した。
塗布条件は実施例2と同様にして行った。乾燥後のブラ
イマーの膜厚を測定したところ0.07μmであった。
イマーの膜厚を測定したところ0.07μmであった。
比較例3の評価結果は第2表に示した。
比較例 4
ブライマーの塗布を行わない以外はレンズ基材の調製、
ハードコート液の調製及び塗布、反射防止層の調製は実
施例2の条件で行った。比較例4の評価結果は第2表に
示した。
ハードコート液の調製及び塗布、反射防止層の調製は実
施例2の条件で行った。比較例4の評価結果は第2表に
示した。
比較例 5
レンズ基材の調製、プライマー液の調製及び塗布、反射
防止層の調製は実施例2の条件で行った。
防止層の調製は実施例2の条件で行った。
ハードコート液の調製については実施例2に用いたハー
ドコート液100gにメタノール500 gを加え希釈
して使用した。塗布条件は実施例2と同様にして行った
。乾燥、硬化後に膜厚を測定したところ04μmであっ
た。比較例5の評価結果は第2表に示した。
ドコート液100gにメタノール500 gを加え希釈
して使用した。塗布条件は実施例2と同様にして行った
。乾燥、硬化後に膜厚を測定したところ04μmであっ
た。比較例5の評価結果は第2表に示した。
本発明により屈折率が高く、かつ吸水率力(低く、耐傷
付き性、反射防止効果の優れたプラスチ・ツクレンズが
得られた。
付き性、反射防止効果の優れたプラスチ・ツクレンズが
得られた。
Claims (1)
- (1)(A)式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表わされる4,4′−ビス(メタクリロイルチオ)ジ
フェニルスルフィドおよび (B)式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Rは多価の脂肪族または芳香族炭化水素からな
る有機基を示し、nは2以上の整数を示す。) で表わされるポリチオール類とを付加反応させて得られ
るポリチオエーテル骨格を有するプレポリマーと他の重
合性モノマーとからなる硬化性組成物を重合して得られ
るプラスチックレンズの表面に (1)0.1〜3.0μmの膜厚のアクリル系プライマ
ー層(2)式(III)で表わされる有機ケイ素化合物の
1種または2種以上の加水分解物及び/またはその部分
縮合物からなる0.5〜6.0μmの膜厚のシリコン系
ハードコート層 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中R^1及びR^2は炭化水素基であり特に限定は
なく、アミノ基、エポキシ基、アリール基、ハロゲン、
エポキシ基から選ばれる置換基を有していても良い。R
^3はアルコキシ、ハロゲン、アシロキシ、フェノキシ
基から選ばれる加水分解性基であり、a及びbは0また
は1である)(3)無機化合物の反射防止層 を順次設けたプラスチックレンズ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2334622A JPH04204602A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | プラスチックレンズ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2334622A JPH04204602A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | プラスチックレンズ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04204602A true JPH04204602A (ja) | 1992-07-27 |
Family
ID=18279443
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2334622A Pending JPH04204602A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | プラスチックレンズ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04204602A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005338109A (ja) * | 2004-05-24 | 2005-12-08 | Mitsui Chemicals Inc | 硫黄原子含有樹脂光学材料 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2334622A patent/JPH04204602A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005338109A (ja) * | 2004-05-24 | 2005-12-08 | Mitsui Chemicals Inc | 硫黄原子含有樹脂光学材料 |
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