JPH0418889B2 - - Google Patents
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- JPH0418889B2 JPH0418889B2 JP57107231A JP10723182A JPH0418889B2 JP H0418889 B2 JPH0418889 B2 JP H0418889B2 JP 57107231 A JP57107231 A JP 57107231A JP 10723182 A JP10723182 A JP 10723182A JP H0418889 B2 JPH0418889 B2 JP H0418889B2
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Classifications
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- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
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-
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- B01D71/06—Organic material
- B01D71/70—Polymers having silicon in the main chain, with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only
- B01D71/701—Polydimethylsiloxane
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Description
本発明は、混合ガスの分離性が良く、かつ気体
透過性もすぐれる選択性気体透過複合膜に関する
ものである。 混合ガスの膜による分離は高分子膜の選択率、
透過量が不十分であつたがために、ほとんどがか
えりみられることがなく、フイルムの気体透過現
象の応用としてはむしろ包装用としてのガスバリ
ヤーフイルムが中心となつていた。産業におい
て、また人間の社会生活上において最も分離が要
望されている混合ガスは空気である。大気の21%
をしめる酸素は生産上はもちろん内燃機関、燃焼
機器、製鉄工業、食品工業、廃棄物処理、医療機
器等産業上最も重要な原料であることは言をまた
ない。従つて、空気から酸素を効率よく安価に容
易に分離する方法が望まれてきる。 高分子膜を使用しないで空気中より酸素、また
は窒素を分離する方法としては、従来ゼオライト
または特殊なカーボンから成る分離剤を用いる方
法が知られている。しかしこの方法は連続的な酸
素または窒素の分離濃縮が不可能である。一方高
分子膜による分離法は連続的な分離が可能である
ため産業上きわめて大きな利点を有している。こ
のため、選択分離性の高い、透過量の大なる分離
膜が望まれている。現在まで高分子膜を用いての
混合ガスの分離に関して既にいくつかの文献、特
許公報などが知られている。これらの文献、特許
公報などにおいては高分子膜のガスに対する透過
係数の大小、ならびに薄膜としての機械的強度、
および薄膜化技術が重要な問題となつている。現
在報告されている高分子材料で比較的気体透過能
のすぐれている物質は、天然ゴム、ポリブタジエ
ンのごとき合成ゴム、更にすぐれたものはシリコ
ーンゴムが知られている。シリコーンゴムの気体
透過能はほとんど全ての気体に対して他のいかな
る高分子材料よりもすぐれる。しかし気体透過能
のすぐれた材料は各気体の分離比が小さく、空気
分離に使用した場合23%から30%までの低濃度の
酸素富化空気しか得られない。従つて30%以上の
酸素富化空気を得ようとする場合にはもつと分離
比の大きな材料が必要となつてくる。その1つと
して米国特許第3874986号明細書に示された材料
がある。ここに示されているポリフエニレンオキ
サイド(PPO)は酸素透過係数が約3.0×10-9
c.c.・cm/cm2・sec・cmHgでシリコーンゴムの10分
の1以下になつてしまうが、酸素と窒素の分離比
が高く約4.4の値を示す。従つて、この材料を用
いると約40%の酸素富化空気を容易に得ることが
できる。しかし透過係数が小さいためシリコーン
と同じ膜厚にしても約10分の1以下の酸素量しか
得られない。このため薄膜化技術が非常に重要に
なつてくる。上記米国特許第3874986号明細書で
は薄膜化するためにPPOをテトラクロロエタン
(TCE)等の有機溶媒に溶解し、ラングミユア法
を用いて水面上に薄膜を展開している。しかしこ
の様な方法を用いて水面上に広がつた膜は支持体
への接着性が悪く、この改善のためプレコートと
してポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン
(PC−PDMS)共重合体薄膜を支持体に接着させ
てからPPO膜をその上に積層している。この様
にして得られた膜は酸素と窒素の分離性が高く
4.5〜5.0の値を示し、酸素濃度は40%〜50%に達
している。この場合の製膜は支持体とPC−
PDMS共重合体間、そしてPC−PDMS共重合体
とPPO間とのその間の接着性が悪いため真空吸
引によつておのおのの層の接着を行なつている。 第1図にこのようにして得られた複合膜の断面
図を示す。同図aはPPO膜が一層の場合、bは
PPO膜が多層(図では2層)の場合である。
PPO膜2は、支持体3上にプレコートされたPC
−PDMS共重合体薄膜し上に形成される。しか
し、この様にして得られる複合膜は本発明者らの
実験によれば、真空吸引法によるものでもその接
着性は悪く外的な応力の作用により簡単に支持体
3とPC−PDMS共重合体1間ではく離を生じた。
また、第1図aのようにPPO膜2が1層である
とピンホールの影響を無視出来ず、ピンホールを
防止するには同図bのように多層にしなければな
らない。この場合、PPO層を0.2μm厚とすると、
最低でも4層を必要とした。第1表にその実験結
果を示す。
透過性もすぐれる選択性気体透過複合膜に関する
ものである。 混合ガスの膜による分離は高分子膜の選択率、
透過量が不十分であつたがために、ほとんどがか
えりみられることがなく、フイルムの気体透過現
象の応用としてはむしろ包装用としてのガスバリ
ヤーフイルムが中心となつていた。産業におい
て、また人間の社会生活上において最も分離が要
望されている混合ガスは空気である。大気の21%
をしめる酸素は生産上はもちろん内燃機関、燃焼
機器、製鉄工業、食品工業、廃棄物処理、医療機
器等産業上最も重要な原料であることは言をまた
ない。従つて、空気から酸素を効率よく安価に容
易に分離する方法が望まれてきる。 高分子膜を使用しないで空気中より酸素、また
は窒素を分離する方法としては、従来ゼオライト
または特殊なカーボンから成る分離剤を用いる方
法が知られている。しかしこの方法は連続的な酸
素または窒素の分離濃縮が不可能である。一方高
分子膜による分離法は連続的な分離が可能である
ため産業上きわめて大きな利点を有している。こ
のため、選択分離性の高い、透過量の大なる分離
膜が望まれている。現在まで高分子膜を用いての
混合ガスの分離に関して既にいくつかの文献、特
許公報などが知られている。これらの文献、特許
公報などにおいては高分子膜のガスに対する透過
係数の大小、ならびに薄膜としての機械的強度、
および薄膜化技術が重要な問題となつている。現
在報告されている高分子材料で比較的気体透過能
のすぐれている物質は、天然ゴム、ポリブタジエ
ンのごとき合成ゴム、更にすぐれたものはシリコ
ーンゴムが知られている。シリコーンゴムの気体
透過能はほとんど全ての気体に対して他のいかな
る高分子材料よりもすぐれる。しかし気体透過能
のすぐれた材料は各気体の分離比が小さく、空気
分離に使用した場合23%から30%までの低濃度の
酸素富化空気しか得られない。従つて30%以上の
酸素富化空気を得ようとする場合にはもつと分離
比の大きな材料が必要となつてくる。その1つと
して米国特許第3874986号明細書に示された材料
がある。ここに示されているポリフエニレンオキ
サイド(PPO)は酸素透過係数が約3.0×10-9
c.c.・cm/cm2・sec・cmHgでシリコーンゴムの10分
の1以下になつてしまうが、酸素と窒素の分離比
が高く約4.4の値を示す。従つて、この材料を用
いると約40%の酸素富化空気を容易に得ることが
できる。しかし透過係数が小さいためシリコーン
と同じ膜厚にしても約10分の1以下の酸素量しか
得られない。このため薄膜化技術が非常に重要に
なつてくる。上記米国特許第3874986号明細書で
は薄膜化するためにPPOをテトラクロロエタン
(TCE)等の有機溶媒に溶解し、ラングミユア法
を用いて水面上に薄膜を展開している。しかしこ
の様な方法を用いて水面上に広がつた膜は支持体
への接着性が悪く、この改善のためプレコートと
してポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン
(PC−PDMS)共重合体薄膜を支持体に接着させ
てからPPO膜をその上に積層している。この様
にして得られた膜は酸素と窒素の分離性が高く
4.5〜5.0の値を示し、酸素濃度は40%〜50%に達
している。この場合の製膜は支持体とPC−
PDMS共重合体間、そしてPC−PDMS共重合体
とPPO間とのその間の接着性が悪いため真空吸
引によつておのおのの層の接着を行なつている。 第1図にこのようにして得られた複合膜の断面
図を示す。同図aはPPO膜が一層の場合、bは
PPO膜が多層(図では2層)の場合である。
PPO膜2は、支持体3上にプレコートされたPC
−PDMS共重合体薄膜し上に形成される。しか
し、この様にして得られる複合膜は本発明者らの
実験によれば、真空吸引法によるものでもその接
着性は悪く外的な応力の作用により簡単に支持体
3とPC−PDMS共重合体1間ではく離を生じた。
また、第1図aのようにPPO膜2が1層である
とピンホールの影響を無視出来ず、ピンホールを
防止するには同図bのように多層にしなければな
らない。この場合、PPO層を0.2μm厚とすると、
最低でも4層を必要とした。第1表にその実験結
果を示す。
【表】
第1表からわかるように、米国特許第3874986
号明細書に示されている複合膜は、ピンホールを
防止し、あるいは酸素透過流量比を大きくするた
めにPPO層を多層構造としたり膜厚を厚くする
必要があるが、このとき気体透過特性が非常に悪
いものになつてしまう。 本発明はこのような欠点を解消するもので、酸
素透過流量比、気体透過特性のいずれもすぐれた
選択性気体透過複合膜を提供するものである。以
下図面を用いて本発明の一実施例を詳細に説明す
る。 第2図は本発明による選択性気体透過複合膜の
断面図であり、図において、4,4′は気体透過
性のすぐれた高分子Aより成る膜で、高分子Aよ
りなる2枚の膜4,4′の間に気体分離性の大き
い高分子Bより成る膜5がサンドイツチ状にはさ
まれ、多孔質支持体6上に形成される。 気体透過性のすぐれた高分子Aとしては、たと
えば特開昭56−26506号公報に示されたポリヒド
ロキシスチレン−ポリジメチルシロキサン
(PHS−PDMS)共重合体、あるいは特開昭56−
24019号公報に示されたフエノール樹脂−PDMS
共重合体のような3次元化シリコーン共重合体の
うち、シロキサン含有率70%〜80%のものが適当
である。シロキサン含有率70%〜80%が好適であ
ることは、フエノール樹脂−PDMS3次元共重合
体については上記特開昭56−24019号公報の第2
頁右下欄第1行目乃至第16行目に、従来のブロツ
ク共重合体では約60%と含有率が低いため気体透
過特性がシリコーンの3分の1まで低下するが、
本公報の高分子では70%〜80%となるため2分の
1以上の高透過率になると記載されており、また
PHS−PDMS3次元共重合体については、特開昭
56−26506号公報の第2頁右下欄第3行目乃至第
18行目に、フエノール樹脂−PDMS3次元共重合
体の場合と同様の主旨が記載されている。即ち上
記3次元共重合体は、シロキサン含有率の増加に
伴い気体透過係数そのものは、シリコーン自身の
酸素透過係数Po2=6.0×10-6に向かつて増加す
る。しかしながら多孔質支持体との2層複合膜と
して評価するならば、シロキサン含有率が増加す
ると共重合体の物性がシリコーンゴムに近づくた
め軟化し多孔質支持体の孔を閉塞して有効膜厚が
厚くなり、結果として気体透過特性の低下を招
く。本願出願人の実験結果によると、シロキサン
含有率70%では酸素透過流量Fo2が5.50m3/
atm・m2・hr、シロキサン含有率80%では酸素透
過流量Fo2が2.30m3/atm・m2・hr、シロキサン
含有率90%では酸素透過流量Fo2が1.76m3/
atm・m2・hrと低下する。多孔質支持体との2層
複合膜の気体透過特性としては、酸素透過流量
Fo2が実用上2m3/atm・m2・hr以上であること
が望ましく、この点で、本願発明のシロキサンの
含有率の上限としては80%であることが望まれ
る。これらの3次元化シリコーン共重合体は気体
透過性がすぐれているばかりでなく、成膜性にも
すぐれ、しかも支持体6および高分子Bに対する
接着性も非常にすぐれている。 一方、気体分離性の高い高分子Bとしては一般
式 (但し、mは1,2,3の整数、R1は−CH3、−
C2H5、−C3H7、−C4H9、−C5H11のアルキル基、
ハロゲン化アルキル基、フエニル基、ニトロ基、
スルホン基、ハロゲン原子、水素原子、アルコキ
シル基から成る群より選ばれる。)であらわされ
るポリフエニレンオキサイド、あるいは一般式が (但し、Rは水素原子、−CH3、−C2H5、−C3H7、
−C4H9、−C5H11、−C6H13、−C7H15のアルキル
基、ハロゲン化アルキル基、、エステル基、アル
コキシ
号明細書に示されている複合膜は、ピンホールを
防止し、あるいは酸素透過流量比を大きくするた
めにPPO層を多層構造としたり膜厚を厚くする
必要があるが、このとき気体透過特性が非常に悪
いものになつてしまう。 本発明はこのような欠点を解消するもので、酸
素透過流量比、気体透過特性のいずれもすぐれた
選択性気体透過複合膜を提供するものである。以
下図面を用いて本発明の一実施例を詳細に説明す
る。 第2図は本発明による選択性気体透過複合膜の
断面図であり、図において、4,4′は気体透過
性のすぐれた高分子Aより成る膜で、高分子Aよ
りなる2枚の膜4,4′の間に気体分離性の大き
い高分子Bより成る膜5がサンドイツチ状にはさ
まれ、多孔質支持体6上に形成される。 気体透過性のすぐれた高分子Aとしては、たと
えば特開昭56−26506号公報に示されたポリヒド
ロキシスチレン−ポリジメチルシロキサン
(PHS−PDMS)共重合体、あるいは特開昭56−
24019号公報に示されたフエノール樹脂−PDMS
共重合体のような3次元化シリコーン共重合体の
うち、シロキサン含有率70%〜80%のものが適当
である。シロキサン含有率70%〜80%が好適であ
ることは、フエノール樹脂−PDMS3次元共重合
体については上記特開昭56−24019号公報の第2
頁右下欄第1行目乃至第16行目に、従来のブロツ
ク共重合体では約60%と含有率が低いため気体透
過特性がシリコーンの3分の1まで低下するが、
本公報の高分子では70%〜80%となるため2分の
1以上の高透過率になると記載されており、また
PHS−PDMS3次元共重合体については、特開昭
56−26506号公報の第2頁右下欄第3行目乃至第
18行目に、フエノール樹脂−PDMS3次元共重合
体の場合と同様の主旨が記載されている。即ち上
記3次元共重合体は、シロキサン含有率の増加に
伴い気体透過係数そのものは、シリコーン自身の
酸素透過係数Po2=6.0×10-6に向かつて増加す
る。しかしながら多孔質支持体との2層複合膜と
して評価するならば、シロキサン含有率が増加す
ると共重合体の物性がシリコーンゴムに近づくた
め軟化し多孔質支持体の孔を閉塞して有効膜厚が
厚くなり、結果として気体透過特性の低下を招
く。本願出願人の実験結果によると、シロキサン
含有率70%では酸素透過流量Fo2が5.50m3/
atm・m2・hr、シロキサン含有率80%では酸素透
過流量Fo2が2.30m3/atm・m2・hr、シロキサン
含有率90%では酸素透過流量Fo2が1.76m3/
atm・m2・hrと低下する。多孔質支持体との2層
複合膜の気体透過特性としては、酸素透過流量
Fo2が実用上2m3/atm・m2・hr以上であること
が望ましく、この点で、本願発明のシロキサンの
含有率の上限としては80%であることが望まれ
る。これらの3次元化シリコーン共重合体は気体
透過性がすぐれているばかりでなく、成膜性にも
すぐれ、しかも支持体6および高分子Bに対する
接着性も非常にすぐれている。 一方、気体分離性の高い高分子Bとしては一般
式 (但し、mは1,2,3の整数、R1は−CH3、−
C2H5、−C3H7、−C4H9、−C5H11のアルキル基、
ハロゲン化アルキル基、フエニル基、ニトロ基、
スルホン基、ハロゲン原子、水素原子、アルコキ
シル基から成る群より選ばれる。)であらわされ
るポリフエニレンオキサイド、あるいは一般式が (但し、Rは水素原子、−CH3、−C2H5、−C3H7、
−C4H9、−C5H11、−C6H13、−C7H15のアルキル
基、ハロゲン化アルキル基、、エステル基、アル
コキシ
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
(ここでmは1、2、3の整数より成る群より選
ばれる。)であらわされるビニルポリマー、ある
いは、一般式が (但し、Rは
ばれる。)であらわされるビニルポリマー、ある
いは、一般式が (但し、Rは
【式】−C2H4−、−
C3H6−、−C4H8−、−C5H10−、−C6H12−、−
C7H14−、R2は−C2H4O−、(−C2H4O−)o、−
C3H6O−、−C4H8O−、C5H10O−、−C6H12O−
から成る群より選ばれる。)であらわされるポリ
ウレタンあるいは、一般式が (但し、Rは
C7H14−、R2は−C2H4O−、(−C2H4O−)o、−
C3H6O−、−C4H8O−、C5H10O−、−C6H12O−
から成る群より選ばれる。)であらわされるポリ
ウレタンあるいは、一般式が (但し、Rは
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
−CH2−、−C2H4、−C3H6−、−C4H8−、−C5H10
−、−C6H12−より成る群より選ばれる。)で示さ
れるポリスルホン、または一般式が (但し、Rは
−、−C6H12−より成る群より選ばれる。)で示さ
れるポリスルホン、または一般式が (但し、Rは
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】(ここでmは
1、2、3の整数)より成る群より選ばれる。)
で示されるポリカーボネートが適当である。 支持体6としては多孔質体が使用され、たとえ
ば多孔質ポリプロピレンなどが使用される。 高分子Aとして使用される3次元化シリコーン
共重合体および高分子Bの成膜はいずれもラング
ミユア法により行なわれる。3次元化シリコーン
共重合体の成膜法は特開昭56−26506号公報に示
されたとおりである。一方高分子Bは、高分子B
を高分子の溶媒であるベンゼン、トルエン、キシ
レン、ジクロロエタン、ジクロロメタン、テトラ
クロロエタン等に1〜4重量%の溶液とするのが
適当である。あらかじめ多孔質ポリプロピレン支
持体6上に3次元化シリコーン共重合体4をプレ
コートしておいた複合膜に、調整した溶液のポリ
マー5をラングミユア法で水面上に展開した後、
水面上で接触させ複合化し、さらにオーバーコー
トとして3次元化シリコーン共重合体膜4′を引
き上げる。このようにして調整された複合膜は、
その気体分離比が高分子Bと殆んど同じ特性とな
る。 このように、本発明による複合膜は、単に水面
上に展開させた薄膜を水面上で接触させて引き上
げるだけで成膜が可能である。 第2表にこのようにして作成した第2図のよう
な構成の複合膜の特性を示す。第2表において、
3次元化共重合体としてPHS−PDMS共重合体
を、高分子BとしてPPOを用いた場合を示す。
第2表を見ればわかるように、本発明による選択
性気体透過複合膜は分離係数、酸素透過流量のい
ずれも高い非常にすぐれた特性を示す。
で示されるポリカーボネートが適当である。 支持体6としては多孔質体が使用され、たとえ
ば多孔質ポリプロピレンなどが使用される。 高分子Aとして使用される3次元化シリコーン
共重合体および高分子Bの成膜はいずれもラング
ミユア法により行なわれる。3次元化シリコーン
共重合体の成膜法は特開昭56−26506号公報に示
されたとおりである。一方高分子Bは、高分子B
を高分子の溶媒であるベンゼン、トルエン、キシ
レン、ジクロロエタン、ジクロロメタン、テトラ
クロロエタン等に1〜4重量%の溶液とするのが
適当である。あらかじめ多孔質ポリプロピレン支
持体6上に3次元化シリコーン共重合体4をプレ
コートしておいた複合膜に、調整した溶液のポリ
マー5をラングミユア法で水面上に展開した後、
水面上で接触させ複合化し、さらにオーバーコー
トとして3次元化シリコーン共重合体膜4′を引
き上げる。このようにして調整された複合膜は、
その気体分離比が高分子Bと殆んど同じ特性とな
る。 このように、本発明による複合膜は、単に水面
上に展開させた薄膜を水面上で接触させて引き上
げるだけで成膜が可能である。 第2表にこのようにして作成した第2図のよう
な構成の複合膜の特性を示す。第2表において、
3次元化共重合体としてPHS−PDMS共重合体
を、高分子BとしてPPOを用いた場合を示す。
第2表を見ればわかるように、本発明による選択
性気体透過複合膜は分離係数、酸素透過流量のい
ずれも高い非常にすぐれた特性を示す。
【表】
つぎに本発明をさらに具体的に示すため本発明
による膜材料を使用し、第1図a,bと同様構造
の、そして第2図の構造の複合膜を形成した場合
の比較例及び実施例について説明する。 比較例 1 ポリヒドロキシスチレン(PHS)−ポリジメチ
ルシロキサン(PDMS)共重合体(シロキサン
含有率≒74%)の2重量%ベンゼン溶液aを第1
層4の展開液として用い、第2層5の展開液は2
重量%のPPO(Mw≒50000)溶液bを用いた。最
初に溶液aを水面に滴下し共重合体の薄膜を広
げ、この展開膜を多孔質ポリプロピレン支持体6
(ポリプラスチツク社製ジユラガード2400)上に
すくい上げ第1層4を形成した。次に溶液bを用
い溶液aの場合と同様の操作を行ない、第1層1
の上に第2層5を形成し第1図aと同様構造の複
合膜を作成した。この様にして得られた複合膜の
気体透過特性は、酸素で1.02m3/atm・m2・hrの
透過流量を示したが、酸素と窒素の分離比(透過
流量比)は1.61と低い。またこの様に2層の複合
膜では、ピンホールを生じ、分離比が非常に悪か
つた。 比較例 2 比較例1の複合膜上にさらに溶液bを用いて
PPO膜を積層し第1図bと同様構造の複合膜を
作成した。その結果酸素透過流量は0.57m3/
atm・m2・hrと減少した。分離比は2.32と若干増
えた。しかし依然としてピンホールを生じた。 実施例 1 比較例1の複合膜の上にさらに溶液aを用いて
PHS−PDMS共重合体膜を積層し本発明による
第2図の構成の複合膜を作成した。この時の複合
膜の特性は酸素透過流量が0.82m3/atm・m2・
hr、そしてその分離比は大幅に改善され4.2の高
い値を示した。つまり共重合体でサンドイツチ構
造の複合膜を作製することにより、高気体透過性
でかつ高分離性の複合膜を得ることができる。な
おピンホールの発生は全く認められなかつた。 実施例 2 気体分離性の高い高分子Bとしてポリスルホン
(w=30000)を用いその他は実施例1と同様と
して第2図の構成の複合膜を作成した。なお、ポ
リスルホンの構造式は次のとおりである。 その結果酸素透過流量は、0.61m3/atm・m2・
hr、分離比は3.9の値を示すピンホールのない複
合膜が得られた。 実施例 3 比較例1に示した溶液aとしてノボラツク樹脂
(NB)−PDMS共重合体(シロキサン含有率72
%)を用い2.2重量%のベンゼン溶液を調整し、
第1層および第3層用として使用した。そして実
施例1と同様の方法で、サンドイツチ型の複合膜
を作成した。その時の特性は酸素透過流量が0.9
m3/atm・m2・hr、分離比は4.4となり、やはり
ピンホールは認められなかつた。 実施例 4 気体分離性の高い高分子Bとして下記構造式の
ポリウレタン(w≒25000)を用いその他を実施
例3と同様にして複合膜を作成した。 その結果酸素透過流量は1.10m3/atm・m2・
hr、分離比は3.5の値を示した。ピンホールの発
生は認められなかつた。 以上の実施例においては、3次元化シリコーン
共重合体として、シロキサン含有率が74%、72%
の共重合体について説明したが、製膜法、気体透
過性及び多孔質支持体、第2の高分子膜との接着
性を考えた場合はシロキサン含有量が70%〜80%
の共重合体が適当であつた。また上記実施例は気
体分離性の高い第2の高分子膜材料として、
PPO、ポリスルホンおよびポリウレタンを使用
した場合について説明したが、前述した他のポリ
マー、すなわちビニルポリマーあるいはポリカー
ボネートを使用した場合にもほぼ同一傾向の結果
が得られた。 以上のように、本発明は気体透過性、接着性に
優れたシロキサン含有量70%〜80%の、ポリヒド
ロキシスチレン−ポリジメチルシロキサン3次元
共重合体またはフエノール樹脂−ポリジメチルシ
ロキサン3次元共重合体で気体分離性の高い高分
子をサンドイツチ状にはさんで複合化した選択性
気体透過複合膜を提供するもので、高い気体分離
性を持ち、しかも高気体透過能をもつた選択性気
体透過複合膜を得ることができる。この複合膜
は、第1層と第3層に使用する3次元化シリコー
ン共重合体がきわめて他の高分子と親和性、接着
性にすぐれるため製造が非常に簡単で、ラングミ
ユア法で水面上に広げた展開膜に支持体、もしく
は第1層をコートした支持体、あるいは第1層と
第2層をコートした支持体を単に接触するだけで
可能であり製膜性にも非常にすぐれている。
による膜材料を使用し、第1図a,bと同様構造
の、そして第2図の構造の複合膜を形成した場合
の比較例及び実施例について説明する。 比較例 1 ポリヒドロキシスチレン(PHS)−ポリジメチ
ルシロキサン(PDMS)共重合体(シロキサン
含有率≒74%)の2重量%ベンゼン溶液aを第1
層4の展開液として用い、第2層5の展開液は2
重量%のPPO(Mw≒50000)溶液bを用いた。最
初に溶液aを水面に滴下し共重合体の薄膜を広
げ、この展開膜を多孔質ポリプロピレン支持体6
(ポリプラスチツク社製ジユラガード2400)上に
すくい上げ第1層4を形成した。次に溶液bを用
い溶液aの場合と同様の操作を行ない、第1層1
の上に第2層5を形成し第1図aと同様構造の複
合膜を作成した。この様にして得られた複合膜の
気体透過特性は、酸素で1.02m3/atm・m2・hrの
透過流量を示したが、酸素と窒素の分離比(透過
流量比)は1.61と低い。またこの様に2層の複合
膜では、ピンホールを生じ、分離比が非常に悪か
つた。 比較例 2 比較例1の複合膜上にさらに溶液bを用いて
PPO膜を積層し第1図bと同様構造の複合膜を
作成した。その結果酸素透過流量は0.57m3/
atm・m2・hrと減少した。分離比は2.32と若干増
えた。しかし依然としてピンホールを生じた。 実施例 1 比較例1の複合膜の上にさらに溶液aを用いて
PHS−PDMS共重合体膜を積層し本発明による
第2図の構成の複合膜を作成した。この時の複合
膜の特性は酸素透過流量が0.82m3/atm・m2・
hr、そしてその分離比は大幅に改善され4.2の高
い値を示した。つまり共重合体でサンドイツチ構
造の複合膜を作製することにより、高気体透過性
でかつ高分離性の複合膜を得ることができる。な
おピンホールの発生は全く認められなかつた。 実施例 2 気体分離性の高い高分子Bとしてポリスルホン
(w=30000)を用いその他は実施例1と同様と
して第2図の構成の複合膜を作成した。なお、ポ
リスルホンの構造式は次のとおりである。 その結果酸素透過流量は、0.61m3/atm・m2・
hr、分離比は3.9の値を示すピンホールのない複
合膜が得られた。 実施例 3 比較例1に示した溶液aとしてノボラツク樹脂
(NB)−PDMS共重合体(シロキサン含有率72
%)を用い2.2重量%のベンゼン溶液を調整し、
第1層および第3層用として使用した。そして実
施例1と同様の方法で、サンドイツチ型の複合膜
を作成した。その時の特性は酸素透過流量が0.9
m3/atm・m2・hr、分離比は4.4となり、やはり
ピンホールは認められなかつた。 実施例 4 気体分離性の高い高分子Bとして下記構造式の
ポリウレタン(w≒25000)を用いその他を実施
例3と同様にして複合膜を作成した。 その結果酸素透過流量は1.10m3/atm・m2・
hr、分離比は3.5の値を示した。ピンホールの発
生は認められなかつた。 以上の実施例においては、3次元化シリコーン
共重合体として、シロキサン含有率が74%、72%
の共重合体について説明したが、製膜法、気体透
過性及び多孔質支持体、第2の高分子膜との接着
性を考えた場合はシロキサン含有量が70%〜80%
の共重合体が適当であつた。また上記実施例は気
体分離性の高い第2の高分子膜材料として、
PPO、ポリスルホンおよびポリウレタンを使用
した場合について説明したが、前述した他のポリ
マー、すなわちビニルポリマーあるいはポリカー
ボネートを使用した場合にもほぼ同一傾向の結果
が得られた。 以上のように、本発明は気体透過性、接着性に
優れたシロキサン含有量70%〜80%の、ポリヒド
ロキシスチレン−ポリジメチルシロキサン3次元
共重合体またはフエノール樹脂−ポリジメチルシ
ロキサン3次元共重合体で気体分離性の高い高分
子をサンドイツチ状にはさんで複合化した選択性
気体透過複合膜を提供するもので、高い気体分離
性を持ち、しかも高気体透過能をもつた選択性気
体透過複合膜を得ることができる。この複合膜
は、第1層と第3層に使用する3次元化シリコー
ン共重合体がきわめて他の高分子と親和性、接着
性にすぐれるため製造が非常に簡単で、ラングミ
ユア法で水面上に広げた展開膜に支持体、もしく
は第1層をコートした支持体、あるいは第1層と
第2層をコートした支持体を単に接触するだけで
可能であり製膜性にも非常にすぐれている。
第1図a,bは従来の選択性気体透過複合膜の
断面図、第2図は本発明による選択性気体透過複
合膜の実施例を示す断面図である。 1……PC−PDMS共重合体層、2……気体分
離性の高い高分子層、3,6……支持体、4,
4′……気体透過性の良い高分子層、5……気体
分離性の高い高分子層。
断面図、第2図は本発明による選択性気体透過複
合膜の実施例を示す断面図である。 1……PC−PDMS共重合体層、2……気体分
離性の高い高分子層、3,6……支持体、4,
4′……気体透過性の良い高分子層、5……気体
分離性の高い高分子層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 多孔質支持体上に、気体透過性及び接着性に
優れた、シロキサン含有率70%〜80%の、ポリヒ
ドロキシスチレン−ポリジメチルシロキサン3次
元共重合体またはフエノール樹脂−ポリジメチル
シロキサン3次元共重合体からなる非多孔性の第
1の高分子膜でサンドイツチ状に挟まれた、気体
分離性の大きい第2の高分子膜を設けたことを特
徴とする選択性気体透過複合膜。 2 第2の高分子膜が一般式 (但し、mは1、2、3の整数、R1は−CH3、−
C2H5、−C3H7、−C4H9、−C5H11のアルキル基、
ハロゲン化アルキル基、フエニル基、ニトロ基、
スルホン基、ハロゲン原子、水素原子、アルコキ
シル基から成る群より選ばれる。)であらわされ
るポリフエニレンオキサイドである特許請求の範
囲第1項記載の選択性気体透過複合膜。 3 第2の高分子膜が一般式 (但し、Rは水素原子、−CH3、−C2H5、−C3H7、
−C4H9、−C5H11、−C6H13、−C7H15のアルキル
基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシル基、エ
ステル基、 【式】【式】 【式】【式】 【式】【式】 【式】【式】 【式】【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 ここでmは1、2、3の整数より成る群より選ば
れる。)であらわされるビニルポリマーである特
許請求の範囲第1項記載の選択性気体透過複合
膜。 4 第2の高分子膜が一般式 (但し、R1は【式】−C2H4−、− C3H6−、−C4H8−、−C5H10−、−C6H12−、−
C7H14−、R2は−C2H4O−、(−C2H4O−)2、−
C3H6O−、(−C3H6O−)2、−C4H8O−、C5H10O
−、−C6H12O−、 【式】 【式】 【式】【式】 から成る群より選ばれる。)で示されるポリウレ
タンである特許請求の範囲第1項記載の選択性気
体透過複合膜。 5 第2の高分子膜が一般式 (但し、Rは【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 −CH2−、−C2H4−、−C3H6−、−C4H8−、−
C5H10−、−C6H12−、ここでmは1、2、3の整
数より成る群より選ばれる。)で示されるポリス
ルホンである特許請求の範囲第1項記載の選択性
気体透過複合膜。 6 第2の高分子膜が一般式 (但し、Rは【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 ここでmは1、2、3の整数より成る群より選ば
れる。)で示されるポリカーボネートである特許
請求の範囲第1項記載の選択性気体透過複合膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57107231A JPS58223411A (ja) | 1982-06-21 | 1982-06-21 | 選択性気体透過複合膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57107231A JPS58223411A (ja) | 1982-06-21 | 1982-06-21 | 選択性気体透過複合膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58223411A JPS58223411A (ja) | 1983-12-26 |
JPH0418889B2 true JPH0418889B2 (ja) | 1992-03-30 |
Family
ID=14453809
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57107231A Granted JPS58223411A (ja) | 1982-06-21 | 1982-06-21 | 選択性気体透過複合膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58223411A (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5966308A (ja) * | 1982-10-04 | 1984-04-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 気体透過複合膜 |
JPS60161703A (ja) * | 1984-01-30 | 1985-08-23 | Teijin Ltd | 気体選択透過膜複合体 |
US4818254A (en) * | 1986-04-14 | 1989-04-04 | The Dow Chemical Company | Semi-permeable membranes consisting predominantly of polycarbonates derived from tetrahalobisphenols |
US4962131A (en) * | 1987-11-06 | 1990-10-09 | The Dow Chemical Company | Composition useful in process for preparing powadir membranes from tetrahalobisphenol a polycarbonates |
US4772392A (en) * | 1987-11-06 | 1988-09-20 | The Dow Chemical Company | Process for preparing POWADIR membranes from tetrahalobisphenol A polycarbonates |
US4838904A (en) * | 1987-12-07 | 1989-06-13 | The Dow Chemical Company | Semi-permeable membranes with an internal discriminating region |
US4851014A (en) * | 1988-07-01 | 1989-07-25 | The Dow Chemical Company | Gas separation membranes derived from polycarbonates, polyesters, and polyestercarbonates containing tetrafluorobisphenol F |
US4975228A (en) * | 1988-07-29 | 1990-12-04 | The Dow Chemical Company | Process for preparing membranes from tetrahalobisphenol polycarbonates |
WO1990008474A1 (fr) * | 1989-01-27 | 1990-08-09 | Teijin Limited | Recipient de stockage et procede de stockage de fruits, de legumes ou de fleurs |
US5000763A (en) * | 1989-06-14 | 1991-03-19 | The Dow Chemical Company | Process for separating hydrogen from gas mixtures using a semi-permeable membrane consisting predominantly of polycarbonates derived from tetrahalobisphenols |
US4959082A (en) * | 1989-07-20 | 1990-09-25 | The Dow Chemical Company | Polycarbonate gas separation membranes containing substituted benzenes and processes for making and using the same |
DE3942868A1 (de) * | 1989-12-23 | 1991-06-27 | Hoechst Ag | Verbundmembran, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
US5141530A (en) * | 1991-08-22 | 1992-08-25 | The Dow Chemical Company | Polycarbonate, polyester, and polyestercarbonate semi-permeable gas separation membranes possessing improved gas selectivity and recovery, and processes for making and using the same |
US7811359B2 (en) | 2007-01-18 | 2010-10-12 | General Electric Company | Composite membrane for separation of carbon dioxide |
JP5969169B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2016-08-17 | 公益財団法人地球環境産業技術研究機構 | 複合分離膜 |
GB201211309D0 (en) | 2012-06-26 | 2012-08-08 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Process for preparing membranes |
JP5945478B2 (ja) * | 2012-09-04 | 2016-07-05 | 日東電工株式会社 | 分離膜、複合分離膜及び分離膜の製造方法 |
CN106215710B (zh) * | 2016-07-27 | 2018-09-28 | 常州大学 | 一种渗透汽化汽油脱硫用杂化硅膜的制备方法及应用 |
Citations (3)
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JPS51121485A (en) * | 1975-03-31 | 1976-10-23 | Gen Electric | Membrane assembly and manufacturing method thereof |
JPS574203A (en) * | 1980-06-09 | 1982-01-09 | Teijin Ltd | Composite membrane for gas separation |
JPS57207528A (en) * | 1981-06-17 | 1982-12-20 | Mitsubishi Electric Corp | Moisture permeable gas shield |
-
1982
- 1982-06-21 JP JP57107231A patent/JPS58223411A/ja active Granted
Patent Citations (3)
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JPS51121485A (en) * | 1975-03-31 | 1976-10-23 | Gen Electric | Membrane assembly and manufacturing method thereof |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58223411A (ja) | 1983-12-26 |
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